真空氣氛爐是大家所熟知的能夠提供氣氛保護和各種氣氛環境的高溫實驗設備，也可以用于生產。

但是使用者更希望能夠有一個穩定的氣氛環境。如何實現自動穩定爐內壓力并及時補充氣體成了很多使用者關心的功能。

一個電磁閥控制進氣，另一個電磁閥控制泄壓。當壓力表探測到壓力低于某一設定壓力時會給電磁閥一個電信號，電磁閥接通此時氣源會向真空氣氛爐內補充氣體，當氣氛爐內壓力恢復至設定值時電磁閥關閉，不再繼續通入氣體。同樣的原理可實現自動泄壓。如此循環工作來保證爐內氣體的穩定和充足。

其實原理固然簡單，但是要做好真空氣氛爐各個電器的配合以及氣管接頭的密封等等都是要仔細考慮的細節。廠家表示，如果配以混氣系統加以配合效果會更好，能很大程度上實現自動化，解放實驗人員的時間和空間，同時控制更加精準。

當箱式電阻爐溫升高，應隨時注意，壓力長，間斷打開放氣閥門，使爐膽內的壓力在0.1MPa以下，這時膽的油煙等雜質可隨之排出。實行光亮退火，在升溫時打開放氣閥，隨后充入保護氣體，流量由小變大，當氣氛爐爐內壓力為正壓時，即關閉全部閥門，此工藝應經工藝試驗，由熟練工人掌握。

真空氣氛爐爐溫自動操控常用調理規律有二位式、三位式、份額、份額ji分和份額ji分微分等幾種。電阻爐爐溫操控是這樣一個反應調理過程，比較實踐爐溫和氣氛爐爐溫得到誤差，經過對誤差的處置取得操控信號，去調理電阻爐的熱功率，然后完成對爐溫的操控。

1、依照誤差的份額、ji分和微分發生操控效果(PID操控)，是過程操控中應用廣泛的一種操控形式。

2、二位式調理--它只有開、關兩種狀態，當真空氣氛爐爐溫低于限給定值時執行器全開;當爐溫高于給定值時執行器全閉。執行器通常選用接觸器。

3、三位式調理--它有上下限兩個給定值，當真空氣氛爐爐溫低于下限給定值時接觸器全開;當爐溫在上、下限給定值之間時執行器部分敞開;當氣氛爐爐溫超越上限給定值時執行器全閉。如管狀加熱器為加熱元件時，可采用三位式調理完成加熱與保溫功率的不同。

真空氣氛爐的特點是什么呢?它是在某一既定溫度下，向爐內通入一定成分的人工制備氣氛，以達到某種熱處理的目的，如氣體滲碳，碳氮共滲及光亮淬火，退火，正火等。真它是以電爐絲為加熱元件，爐膛額定溫度為1000℃。

真空氣氛爐供實驗室、工礦企業、科研等單位作合金鋼、有色金屬材料和黑色金屬材料的無氧正火、回火、燒結、熔解、分析等高溫加熱之用。

為了控制真空氣氛爐內的氣氛，維持爐內的壓力，爐內工作空間始終要與外界空氣隔絕，盡量避免漏氣和吸入空氣，故要求爐殼，砌體，爐門及所有外界連接零件如風扇，熱電偶，輻射管，推拉料機等采用密封裝置。

要維持爐內的一定碳勢，除了控制氣氛成分的穩定性外，還要對爐內氣氛進行自動控制。因此，需要設有各種控制儀表，以便對爐內氣氛連續或定期測定并調整爐內的供氣量。

另外，保證氣氛爐氣氛的穩定性，可分為馬弗爐和無馬弗爐兩種。馬弗爐的火焰在馬弗外，工件在馬弗內進行間接加熱;無馬弗爐采用各種火焰輻射管或者電輻射管，將火焰或者電熱體與爐氣隔開，以免破環爐內氣氛的穩定。