TiN薄膜可以減輕切削刃邊材料的附著，提高切削力，改善工件的表面質量，成倍增加切削工具的使用壽命和耐用度。因此，TiN薄膜被適合用于低速切削工具、高速鋼切削、木板切削刀具和鉆頭的涂覆上。另外，TiN也是磨損部件的理想耐磨涂層，特別是由于其低的黏著傾向拓寬了在許多磨損系統中的應用，如汽車發動機的活塞密封環、各種軸承和齒輪等：此外，TiN還廣泛應用于成型技術工具涂層，如汽車工業中薄板成型工具的涂層等TiN薄膜無毒、質輕、強度高且具有優良的生物相容性，因此它是非常理想的醫用金屬材料，可用作植入人體的植入物和手術器械等閻。此外，氮化鈦薄膜還能作為其他優良生物相溶性薄膜的增強薄膜。國外的Nelea等人通過鍍制TiN薄膜中間層大幅度提高了醫用常用材料羥磷灰石薄膜(HA)的機械性能和附著力。在刀具上涂敷3~5微米的氮化鈦涂層，刀具就能擁有更高的耐磨性和耐熱性，大幅提高刀具壽命和切削加工效率。無錫壓鑄模具氮化鈦功能

1.氯化鈦的超導臨界溫度較高，可作為優良的超導材料。氮化鈦的熔點高于大多數過渡金屬氮化物，密度低于大多數金屬氮化物，從而成為一種獨特的耐火材料。氮化鈦可以作為一種膜鍍在玻璃上，在紅外線反射率大于75%的情況下，當氮化鈦薄膜厚度大于90nm時能有效提高玻璃的保溫性能。另外，調整氮化鈦中氮元素的百分含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，從而達到理想的美觀效果。氮化鈦(TiN)是相當穩定的化臺物，在高溫下不與鐵、鉻、鈣和鎂等金屬反應，TiN坩堝在CO與N2氣氛下也不與酸性渣和堿性渣起作用，因此TiN坩堝是研究鋼液與一些元素相互作用的優良容器。TiN在真空中加熱失去氮，生成氮含量較低的氮化鈦。TiN有著誘人的金黃色、熔點高、硬度大、化學穩定性好、與金屬的潤濕小的結構材料、并具有較高的導電性和超導性，可應用于高溫結構材料和超導材料。鎮江納米氮化鈦供應商TiN是非化學計量化合物穩定的組成范圍為TiN0.37- TiN1.16，氮含量可在一定范圍內變化不引起TiN結構的變化。

TiN 薄膜的研究工作早在20世紀60年代已開始進行，但因材料和器件制備上的困難，使研究工作一度轉入低潮。后來隨著薄膜制備技術的提高，國內外對TiN薄膜的研究工作又開始活躍起來，制備方法也多樣化了，目前已取得很大進展。TiN薄膜的制備方法主要可分為物理物物理相沉積、化學氣相沉積兩大類。應用于工業的各個領域。

TiN 薄膜無毒、質輕、強度高且具有優良的生物相容性，因此它是非常理想的醫用金屬材料，可用作植入人體的植入物和手術器械等閻。此外，氮化鈦薄膜還能作為其他優良生物相溶性薄膜的增強薄膜。國外的Nelea等人通過鍍制TiN 薄膜中間層大幅度提高了醫用常用材料羥磷灰石薄膜(HA)的機械性能和附著力。

1.氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結構，屬面心立方點陣，晶格常數a=0.4241nm，其中鈦原子位于面心立方的角頂。TiN是非化學計量化合物其穩定的組成范圍為TiN0.37-TiN1.16，氮的含量可以在一定的范圍內變化而不引起TiN結構的變化。TiN粉末一般呈黃褐色超細TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。TiN熔點為2950℃，密度為5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗熱沖擊性好。氫化鈦的理化性質由氫元素的含量來決定，當氨元素含量減少時氮化鈦的晶格參數反而增大，硬度也會有顯微的增大，但氮化鈦的抗震性隨之降低。TiN熔點比大多數過渡金屬氮化物的熔點高，而密度卻比大多數金屬氨化物低，因此是一種很有特色的耐熱材料。氮化鈦具有熔點高，化學穩定性好硬度大導電、導熱和光性能好等良好的理化性質。

氮化物涂層具有硬度高、耐磨性好、良好的抗氧化性、抗粘附性等性能,常用做刀具的保護涂層。304不銹鋼和鈦合金因為良好的性能而在生活中應用適合,但由于在加工時會出現加工硬化、切削溫度較高、刀具粘結等缺陷,是比較典型的難加工材料。而使用涂層刀具能有效改善刀具的切削性能,并能延長刀具的使用壽命。市場上常用Al CrN和Al TiN涂層來切削這兩種材料。但是這兩種材料容易在刀具表面產生粘附層,會影響刀具的使用壽命,為了改善“粘刀性”,需要先了解不同刀具在不同涂層上的粘附機理。DLC涂層表面納米硬度、彈性模量及泊松比均高于TiN涂層。煙臺注塑模具氮化鈦生產企業

TiN涂層已被廣泛應用于航空、工模具、電子等加工領域，并且在刀具、模具等方面有力推動了制造業的發展。無錫壓鑄模具氮化鈦功能

在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中，后段工藝日趨重要，為降低阻容遲滯(RCDelay)，保證信號傳輸，減小功耗，有必要對后段工藝進行改進，Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金屬有機物化學氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析，從厚度、雜質濃度和晶體結構三大薄膜電阻影響因素出發系統研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實結構中的各種性質，重點是等離子體處理(PlasmaTreatment，PT)下的晶體生長，制備循環次數的選擇對薄膜雜質濃度、晶體結構及電阻性能的影響，不同工藝薄膜在真實結構中物理形貌、晶體結構和電阻性能的表現和規律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的實際應用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測試證明PT作用下雜質濃度降低，同時晶體生長，薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時間和深度，較厚薄膜需多循環制備以充分處理，發現薄膜厚度較小時(本實驗條件下為4nm)，增加循環次數雖然進一步降低了雜質濃度，但會引入界面而使薄膜電阻率增加。通過TEM觀測發現由于等離子體運動的各向異性，真實結構中PT效率在側壁遠低于頂部和底部，這導致側壁薄膜在PT后更厚。無錫壓鑄模具氮化鈦功能

蘇州華銳杰新材料科技有限公司是以提供類金剛石（DLC），氮化鈦，氮化鉻為主的私營有限責任公司，公司成立于2019-12-10，旗下華銳杰，已經具有一定的業內水平。華銳杰致力于構建汽摩及配件自主創新的競爭力，多年來，已經為我國汽摩及配件行業生產、經濟等的發展做出了重要貢獻。