在鎂碳磚中添加一定量的TiN，可以明顯提高鎂碳磚的抗渣侵蝕性。1)氮化鈦是優良的結構材料，可用于蒸汽噴射推進器和火箭等。在軸承和密封圈領域也大量使用氮化鈦合金，強調了氮化鈦的應用效果。2)基于氮化鈦的優異導電性，可以制作各種電極和點接觸等材料。3)氮化鈦具有高超導臨界溫度，可作為優良的超導材料。4)氮化鈦熔點高于許多過渡金屬氮化物，密度低于許多金屬氮化物，是一種獨特的耐火材料。5)氮化鈦可以作為一種膜鍍在玻璃上，紅外反射率大于75%時，氮化鈦薄膜厚度大于90nm時，可以有效提高玻璃的保溫性能。另外，通過調整氮化鈦中的氮含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，達到理想的美觀。含有納米氨化鈦顆粒的陶瓷材料內部便形成導電網絡。這種材料可作為電子元件應用于半導體工業中。上海真空鍍膜氮化鈦功能

研究新工藝、新材料在齒輪上的應用，提高齒輪的質量和性能，降低生產和使用成本，減少噪音，減少能源和資源消耗具有十分重要的意義。 “齒輪表面陶瓷生長工藝的研究”主要研究齒輪表面陶瓷的生長，實現陶瓷生長層與本體緊密結合，為高韌性、耐磨耐熱、長壽命的齒輪提供重要的理論依據和試驗數據。主要有以下幾個方面： ① 對32Cr2MoV鋼離子滲氮進行了研究。通過離子滲氮，提高了32Cr2MoV鋼表面硬度，并形成了一定深度的硬化層，為后續的多弧離子鍍氮化鈦(TiN)陶瓷涂層提供了良好的支撐。 ② 離子滲氮與多弧離子鍍復合處理的研究，采用正交試驗法，運用多弧離子鍍，在32Cr2MoV鋼滲氮基體上鍍覆TiN陶瓷，研究多弧離子鍍各工藝參數對TiN陶瓷性能的影響，優化出了一種工藝，并通過該工藝獲得了性能優良的TiN陶瓷涂層。 ③ 對32Cr2MoV鋼、滲氮層及TiN陶瓷進行了微觀結構的分析，研究其結構對整個材料性能的影響。研究了表面TiN陶瓷材料的耐腐蝕性能。 ④ 對32Cr2MoV鋼氮化與復合處理試樣進行了滾子試驗，研究其摩擦磨損性能，試驗表明：材料經過復合處理后較氮化有更好的抗摩擦磨損性能。 ⑤ 制備出了表面陶瓷齒輪，為研究表面陶瓷齒輪的承載能力、磨損、疲勞等性能提供了條件。宿遷鍍黑氮化鈦供應商氮化鈦有較高的導電性可用作熔鹽電解的電極以及點觸頭、薄膜電阻等，有較高超導臨界溫度是優良的超導材料。

TiN薄膜因具有高硬度、低摩擦系數、高粘著強度、化學穩定性好、與鋼鐵材料的熱膨脹系數相近等優點而被廣泛應用于各個領域，特別是被用作高質量的切割工具,抗磨粒、磨蝕和磨損部件的表面工程材料。TiN薄膜以其制備工藝成熟穩定、價格低廉以及耐磨耐腐蝕特性好，而廣泛應用于切削工具和機械零件的硬質涂層保護膜。近年來，隨著科技的發展和工業的需求，TiN在MEMS、太陽能電池的背電極、燃料電池、納米生物技術、節能鍍膜玻璃等領域的應用都有相關的報道。

ＴｉＮ涂層的耐腐蝕性能進行了試驗研究。除采用幾種較弱的腐蝕介質外，還在Ｈ２ＳＯ４溶液、ＨＣｌ溶液中對ＴｉＮ涂層樣品做了浸泡試驗。所有結果表明：涂層后的樣品。其耐腐蝕性能比未涂層樣品提高幾倍至十幾倍。同時，在ＮａＣｌ溶液、人工汗液和酸溶液中，分別測定了涂層和未涂層樣品的電化學行為。ＴｉＮ涂層表現出較高的溶解電位，說明它在熱力學上對上述化學介質是比較穩定的。致密ＴｉＮ涂層的耐腐蝕能力優于不銹鋼，但是如果涂層有貫穿的孔洞或涂展太薄時，則涂層試樣也會被腐蝕。氮化鈦具有金屬光澤，可作為仿真的金色裝飾材料，在代金裝飾行業中具有良好的應用前景。

46.氮化鈦具有熔點高、化學穩定性好、硬度大、導電、導熱和光性能好等良好的理化性質，在各領域具有十分重要的用途，特別是在新型金屬陶瓷領域和黃金裝飾領域。對氮化鈦粉末的工業需求越來越高，氮化鈦作為涂層價格低廉、耐磨性好，性能比真空涂層好很多，氮化鈦的應用前景非常廣闊。主要適用于以下領域：1)氮化鈦生物相容性強，可應用于臨床醫學和口腔醫學。2)氮化鈦摩擦系數低，可用作高溫潤滑劑。3)氮化鈦具有金屬光澤，作為模擬金色裝飾材料，在黃金裝飾行業具有良好應用前景的氮化鈦也可以作為金色涂料應用于珠寶行業;作為替代WC的潛在材料，可以明顯降低材料的應用成本。4)可用于研制具有強硬度和耐磨性，比普通硬質合金工具耐久性和壽命顯著提高的新型工具。改善鈦雙極板在質子交換膜(PEM)水電解槽環境中耐腐蝕和導電性能，在鈦基底表面制備碳摻雜氮化鈦復合涂層。上海真空鍍膜氮化鈦功能

我國對氮化鈦涂層刀具的使用起步較晚，但已有不少廠家開始推廣使用，經濟效益極為可觀。上海真空鍍膜氮化鈦功能

在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中，后段工藝日趨重要，為降低阻容遲滯(RCDelay)，保證信號傳輸，減小功耗，有必要對后段工藝進行改進，Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金屬有機物化學氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析，從厚度、雜質濃度和晶體結構三大薄膜電阻影響因素出發系統研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實結構中的各種性質，重點是等離子體處理(PlasmaTreatment，PT)下的晶體生長，制備循環次數的選擇對薄膜雜質濃度、晶體結構及電阻性能的影響，不同工藝薄膜在真實結構中物理形貌、晶體結構和電阻性能的表現和規律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的實際應用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測試證明PT作用下雜質濃度降低，同時晶體生長，薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時間和深度，較厚薄膜需多循環制備以充分處理，發現薄膜厚度較小時(本實驗條件下為4nm)，增加循環次數雖然進一步降低了雜質濃度，但會引入界面而使薄膜電阻率增加。通過TEM觀測發現由于等離子體運動的各向異性，真實結構中PT效率在側壁遠低于頂部和底部，這導致側壁薄膜在PT后更厚。上海真空鍍膜氮化鈦功能

華銳杰，2019-12-10正式啟動，成立了類金剛石（DLC），氮化鈦，氮化鉻等幾大市場布局，應對行業變化，順應市場趨勢發展，在創新中尋求突破，進而提升華銳杰的市場競爭力，把握市場機遇，推動汽摩及配件產業的進步。旗下華銳杰在汽摩及配件行業擁有一定的地位，品牌價值持續增長，有望成為行業中的佼佼者。隨著我們的業務不斷擴展，從類金剛石（DLC），氮化鈦，氮化鉻等到眾多其他領域，已經逐步成長為一個獨特，且具有活力與創新的企業。值得一提的是，華銳杰致力于為用戶帶去更為定向、專業的汽摩及配件一體化解決方案，在有效降低用戶成本的同時，更能憑借科學的技術讓用戶極大限度地挖掘華銳杰的應用潛能。