在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中，后段工藝日趨重要，為降低阻容遲滯(RCDelay)，保證信號傳輸，減小功耗，有必要對后段工藝進行改進，Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金屬有機物化學氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析，從厚度、雜質濃度和晶體結構三大薄膜電阻影響因素出發系統研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實結構中的各種性質，重點是等離子體處理(PlasmaTreatment，PT)下的晶體生長，制備循環次數的選擇對薄膜雜質濃度、晶體結構及電阻性能的影響，不同工藝薄膜在真實結構中物理形貌、晶體結構和電阻性能的表現和規律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的實際應用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測試證明PT作用下雜質濃度降低，同時晶體生長，薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時間和深度，較厚薄膜需多循環制備以充分處理，發現薄膜厚度較小時(本實驗條件下為4nm)，增加循環次數雖然進一步降低了雜質濃度，但會引入界面而使薄膜電阻率增加。通過TEM觀測發現由于等離子體運動的各向異性，真實結構中PT效率在側壁遠低于頂部和底部，這導致側壁薄膜在PT后更厚。無論在空氣中還是重油環境下，TiN涂層摩擦系數均高于DLC涂層，耐磨性低于DLC涂層。宿遷加硬氮化鈦產品介紹

50. 用TiN 薄膜涂覆在IF—MS2上。可以提高二鉬化硫潤滑劑的耐磨性。用TIN 薄膜涂覆在IF—MS2上，因為它具有的高硬度、高熔點、高磨損抵抗力，優良的化學穩定性等特點，因此可以在提高飛機和航天器的發動機等零件的潤滑性能的同時，又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。TiN 薄膜用于高溫大氣穩定太陽能吸收層的研究開始于1984年，較為近(Ti，A1)N 涂層也被建議應用于太陽能選擇吸收層和太陽能控制窗口，這主要是因為(Ti，AI)N 涂層耐高溫的特點。關于TiN和TiA1N 涂層在太陽能領域的應用。嘉興鍍鈦氮化鈦TiN作催化劑載體，可通過提高貴金屬鉑利用率、增強金屬-載體間相互作用、促進質量/電荷轉移及增強耐腐蝕。

涂層硬質合金刀具給金屬加工業帶來了巨大的影響,涂層高速鋼鉆頭的發展顯然是一個自然的結果。在1980年芝加哥展覽會上至少在兩個展臺上展出了氮化鈦涂層高速鋼齒輪滾刀,但目前尚無商品供應。涂層高速鋼滾刀的性能已在幾個實驗室作了試驗。取得成功的關鍵在于要同時解決這樣一些問題,例如涂層的附著強度、涂層在大多數形狀頗為復雜的高速鋼刀具的整個表面上涂復的均勻性以及涂復過程中如何保持刀具原熱處理狀態,采用了物物理相沉積法,其溫度較低,不影響鋼的硬度。涂復后的刀具,涂層厚度均勻,且不產生積屑瘤。涂層材料滲入了高速鋼表層,其厚度隨刀具尺寸大小而變。通常只有幾微米。涂層鉆頭的成本比無涂層的同類鉆頭貴一倍,但在很多場合下,涂層鉆頭的使用壽命增加2-3倍。

表面涂層技術已成為提高材料抗疲勞和抗磨損性能的重要手段。許多零部件,例如刀具、齒輪和軸承等,通過表面涂層,改善接觸性能。但由于涂層制造過程中不可避免的缺陷以及涂層基體之間彈性參數不連續性,在接觸應力作用下涂層結構易產生裂紋,隨著裂紋的擴展,引起涂層的剝落而造成零件的失效。為滿足涂層結構在工程應用中的可靠性要求,需要研究在摩擦接觸條件下涂層結構的失效機理。本文主要完成了以下工作:1利用等離子輔助化學氣相沉積技術制備厚度為10μm的氮化鈦涂層,其基體為高速鋼。利用顯微硬度儀測量得到涂層的硬度約為2000HV4000HV,利用納米壓痕儀測量得到涂層的彈性模量和斷裂韌度分別為590GPa和3.30MPa·1/2m。劃痕法本質上屬于摩擦接觸問題,可通過掃描電鏡對涂層劃痕表面進行觀察與分析,結果表明在涂層表面產生了平均間距約為5.1μm弧形裂紋,同時測得涂層表面的摩擦系數約為0.25。在上世紀70年代，氮化鈦涂層成功應用于刀具等切割加工工具上，促進了刀具加工行業的發展。

自20世紀80年代以來，氮化鈦的研究受到了重視。氮化鈦化學性能穩定，具有較強的耐磨損、耐腐蝕性及良好的生物相容性。在口腔醫學中主要應用于切削及旋轉器械、種植體和義齒等表面鍍膜，以增強其耐磨損性及生物安全性。氮化鈦涂層作為一種新型陶瓷涂層，由于具有高熔點、高硬度、高溫化學穩定性、高耐磨性及高耐腐蝕性能等優點，已被廣泛應用于切削刀具、高溫結構材料和抗磨抗蝕部件上。在不銹鋼表面制備一層氮化鈦涂層來進行表面改性，可有效提高其表面力學性能、耐蝕性能和生物兼容性能，有利于不銹鋼在航空航天、艦船兵器、石油化工、生物醫學等領域應用。氮化鈦是用于優良度的金屬陶瓷工具、噴汽推進器、以及火箭等優良的結構材料。另氮化鈦可作為高溫潤滑劑。宿遷加硬氮化鈦產品介紹

19. 氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結構，屬面心立方點陣，晶格常數a=0.4241nm。宿遷加硬氮化鈦產品介紹

口腔是有生物化學和電化學因素影響的復雜環境，具有較強的腐蝕性。因而對應用于口腔中的金屬材料也提出了更高的要求。在磁性附著體的研究及臨床應用中，我們發現磁性附著體在口腔中長期使用后所出現的腐蝕和磨損是導致磁性附著體的固位力下降的主要原因，也是影響磁性附著體遠期應用效果的主要問題。進一步提高磁性附著體的耐腐蝕性和耐磨損性是解決這一問題的適合途徑。近年來，隨著當今各種鍍膜技術，如化學氣相沉積(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉積(physicalvapordepositionPVD)、等離子體輔助化學氣相沉積(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光輔助化學氣相沉積(laserchemicalvapordepositionLCVD)、離子鍍(ionplateIP)和離子束輔助沉積技術(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不斷完善和發展，使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蝕性的氮化鈦納米膜在國際和國內都得到了適合研究與應用。宿遷加硬氮化鈦產品介紹

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