比較TiN和TiAlN涂層刀具加工鋁鋰合金的切削性能和表面質量。方法使用硬質合金、TiN涂層和TiAlN涂層三種刀具,對2198-T8型鋁鋰合金進行干式銑削試驗。改變切削因素的水平,比較刀具磨損、鋁鋰合金的表面粗糙度、切削力和切屑形態。結果銑削鋁鋰合金時,刀具主要磨損為粘附磨損,TiN涂層的粘附程度比較低,硬質合金次之,TiAlN涂層表面粘附較好嚴重,切削效能比較低。粘附磨損嚴重影響銑削成形的表面粗糙度,并使銑削力增加。銑削速度是影響工件表面粗糙度的主要因素,通過提高銑削速度可明顯降低材料的粘結程度,降低表面粗糙度與銑削力,TiN涂層在銑削鋁鋰合金時較好小表面粗糙度可達到0.5μm以下。在相同的切削參數下,TiN涂層斷屑均勻,切屑表面較為光滑,切屑塑性變形較好小。硬質合金刀具產生的切屑尺寸較短,切屑表面有少量帶狀條紋,TiAlN涂層刀具產生的切屑發生了嚴重的塑性變形。結論與TiAlN涂層和硬質合金刀具相比,TiN涂層刀具在銑削鋁鋰合金時的切削效能比較好,可以達到比較好的表面粗糙度和加工效果氮化鈦具有金屬光澤，可作為仿真的金色裝飾材料，在代金裝飾行業中具有良好的應用前景。南京鍍鈦氮化鈦加工中心

口腔是有生物化學和電化學因素影響的復雜環境，具有較強的腐蝕性。因而對應用于口腔中的金屬材料也提出了更高的要求。在磁性附著體的研究及臨床應用中，我們發現磁性附著體在口腔中長期使用后所出現的腐蝕和磨損是導致磁性附著體的固位力下降的主要原因，也是影響磁性附著體遠期應用效果的主要問題。進一步提高磁性附著體的耐腐蝕性和耐磨損性是解決這一問題的適合途徑。近年來，隨著當今各種鍍膜技術，如化學氣相沉積(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉積(physicalvapordepositionPVD)、等離子體輔助化學氣相沉積(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光輔助化學氣相沉積(laserchemicalvapordepositionLCVD)、離子鍍(ionplateIP)和離子束輔助沉積技術(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不斷完善和發展，使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蝕性的氮化鈦納米膜在國際和國內都得到了適合研究與應用。無錫鍍黑氮化鈦加工中心采用離子鍍技術與多弧磁控耦合鍍膜技術分別在柱塞上涂覆了TiN涂層和DLC涂層。

1.(1)氮化鈦生物兼容性高，可以應用于臨床醫學和口腔醫學方面。(2)氨化鈦摩擦系數較低，可作為高溫潤滑劑。(3)氮化鈦具有金屬光澤，可作為仿真的金色裝飾材料，在代金裝飾行業中具有良好的應用前景;氮化鈦還可以作為金色涂料應用于首飾行業;可以作為替代WC的潛在材料，使材料的應用成本大幅度降低。(4)有較為的硬度和耐磨性，可用于開發新型刀具，這種新型的刀具比普通硬質合金刀具的耐用度和使用壽命都顯著提高。(5)氮化鈦是一種新型的多功能陶瓷材料。在TiC-Mo-Ni系列的金屬陶瓷中加入一定量的氮化鈦，會使硬質相晶粒明顯細化，從而使陶瓷的理學性能不管是在室溫還是在高溫條件下都有了很大程度的改善，繼而使金屬陶瓷的高溫耐腐蝕性和抗氧化性得到很大提高;將TiN粉末按一定比例添加到陶瓷中，可增強陶瓷的強度、韌性和硬度;將納米氮化鈦添加到TiN/AI2O3復相納米陶瓷中，通過各種方法(如機械混合法)等將其混合均勻，得到的這種含有納米氨化鈦顆粒的陶瓷材料內部便形成導電網絡。這種材料可作為電子元件應用于半導體工業中。(6)在鎂碳磚中添加一定量的TiN能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。(7)氮化鈦是一種優良的結構材料，可用于噴汽推進器以及火箭等。

1.氯化鈦的超導臨界溫度較高，可作為優良的超導材料。氮化鈦的熔點高于大多數過渡金屬氮化物，密度低于大多數金屬氮化物，從而成為一種獨特的耐火材料。氮化鈦可以作為一種膜鍍在玻璃上，在紅外線反射率大于75%的情況下，當氮化鈦薄膜厚度大于90nm時能有效提高玻璃的保溫性能。另外，調整氮化鈦中氮元素的百分含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，從而達到理想的美觀效果。氮化鈦(TiN)是相當穩定的化臺物，在高溫下不與鐵、鉻、鈣和鎂等金屬反應，TiN坩堝在CO與N2氣氛下也不與酸性渣和堿性渣起作用，因此TiN坩堝是研究鋼液與一些元素相互作用的優良容器。TiN在真空中加熱失去氮，生成氮含量較低的氮化鈦。TiN有著誘人的金黃色、熔點高、硬度大、化學穩定性好、與金屬的潤濕小的結構材料、并具有較高的導電性和超導性，可應用于高溫結構材料和超導材料。國際上代金裝飾技術發展相當快氮化鈦在這方面的應用具有十分廣闊的前景。

目前，國內外制備氮化鈦涂層一般采用鍍膜工藝，傳統制備tin涂層方法為物物理相沉積(pvd)和化學氣相沉積(cvd)工藝。這些方法制備氮化鈦涂層純度高、致密性好。但其沉積效率低，涂層厚度過薄(適合幾個μm)，嚴重限制了氮化鈦涂層在磨、蝕服役條件下的應用。為滿足不斷提高的氮化鈦工業需求，高沉積效率的等離子噴涂工藝被用于氮化鈦涂層的制備。采用大氣反應等離子噴涂制備的tin涂層，厚度超過了500μm，但涂層疏松多孔，且含有雜質ti3o，一定程度上降低了tin涂層硬度。隨著等離子噴涂技術不斷發展，采用低壓反應等離子噴涂技術(f4-vb)制備了氮化鈦涂層，涂層呈致密層狀結構，厚度能夠達到70μm左右，但是其涂層物相組成為tin0.3、ti2n和tin相，涂層中存在未被氮化的鈦顆粒，涂層氮化率適合為25％左右，影響tin涂層的硬度及耐磨性。因此，如何提高低壓等離子噴涂制備氮化鈦涂層中的涂層氮化率是亟需解決的問題。400℃下制備的碳摻雜氮化鈦涂層(C-TiN-400℃),其導電性與耐蝕性均得到明顯提升。煙臺防銹氮化鈦鍍黑鈦

TiN作催化劑載體，可通過提高貴金屬鉑利用率、增強金屬-載體間相互作用、促進質量/電荷轉移及增強耐腐蝕。南京鍍鈦氮化鈦加工中心

50.本實驗應用離子束輔助沉積技術在磁性附著體銜鐵鐵鉻鉬合金表面制備氮化鈦納米膜，希望通過氮化鈦納米膜優異的理化性能，增強磁性附著體的耐蝕性和耐磨性，從而改進磁性附著體的性能，并且對鐵鉻鉬合金材料本體特性沒有影響。實驗結果表明：第四軍醫大學碩土學垃論文1．離子束輔助沉積技術可以在鐵鉻銅軟磁合金表面獲得非常致密與基體結合力極強的氮化鈦納米膜，膜與基體界面的結合力在65N—75N之間，完全能夠滿足實驗及臨床長期應用。2．鐵鉻鑰合金表面鍍氮化鈦納米膜處理前后磁性附著體磁力數值無明顯改變，方差分析統計學處理，p勸．05，無統計學差別。即鍍膜后磁固位力無改變。對磁性附著體的銜鐵軟磁合金進行鍍膜處理，來研究改進磁性附著體性能是可行的c3．由自腐蝕電位所反映的腐蝕傾向；極化曲線反映的耐腐蝕性能；極化電阻、腐蝕電流密度反映的腐蝕速度等電化學指標均表明經IBAD制備氮化鈦納米膜的鐵鉻鋁合金較未做表面鍍膜處理的合金耐腐蝕性高。4．制備氮化鈦納米膜組顯微硬度值明顯高于未鍍膜組有明顯性差異，氮化鈦納米膜能夠明顯提高鐵鉻用合金的顯微硬度，增強其耐磨性能。南京鍍鈦氮化鈦加工中心