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    影響工作效率的問題。為實現以上目的，本實用新型通過以下技術方案予以實現：一種高分子等離子表面真空鍍膜設備，包括腔體、基板和坩堝，所述腔體底部的四角均固定連接有支撐腿，并且腔體的正面轉動連接有密封門，所述腔體內壁兩側之間的底部固定連接有支撐板，并且支撐板的頂部固定連接有防護框，所述防護框內壁的兩側均固定連接有寶來利真空滑軌，并且兩個寶來利真空滑軌相對的一側之間滑動連接有活動板，所述腔體內壁的底部固定連接有寶來利真空伸縮桿，所述寶來利真空伸縮桿的頂端貫穿支撐板和防護框并延伸至防護框的內部，所述寶來利真空伸縮桿輸出軸的一端且位于防護框的內部與活動板的底部固定連接，所述腔體內壁的兩側均固定連接有第二伸縮桿，所述防護框頂部的兩側分別滑動連接有寶來利真空密封蓋和第二密封蓋，并且寶來利真空密封蓋和第二密封蓋相背離的一側分別與兩個第二伸縮桿的輸出軸固定連接。推薦的，所述活動板的頂部固定連接有加熱板，所述防護框內壁的底部且位于寶來利真空伸縮桿的表面固定連接有降溫板。推薦的，所述腔體左側的頂部固定連接有電機，并且電機輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿。推薦的。

以及位于所述外腔體內的用于進行工藝反應的內反應腔；所述內反應腔的側壁上設有自動門，所述自動門連接自動門控制器，工件自所述外腔體經所述自動門進入所述內反應腔中。進一步地，所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設置的寶來利真空側壁；所述內反應腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設置的第二側壁；所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設置，所述寶來利真空側壁與所述第二側壁相互分離設置；所述寶來利真空側壁與蓋設于所述寶來利真空側壁上的密封蓋板密閉連接，所述第二側壁與所述密封蓋板相互分離設置。進一步地，所述自動門設置于所述第二側壁上，所述外腔體內設有傳送裝置，所述工件自所述傳送裝置經所述自動門傳遞至所述內反應腔中。進一步地，所述第二底板和/或所述第二側壁上設有用于對所述內反應腔進行控溫的溫控裝置。進一步地，所述溫控裝置包括溫控管，所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進一步地，所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進一步地，所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管；所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進一步地，所述溫控管纏繞于所述第二側壁的外部，且所述溫控管鋪設于所述第二底板的底部。 磁控濺射原理鍍制，用于在已預處理好的玻璃、陶瓷等制品表面PVD鍍反映膜，從而獲得光亮、美觀。

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通過上述說明可知，溫控管40的設置形式多種多樣，本實用新型并不限制溫控管40的具體設置形式，例如可以按照上述溫控管40纏繞并固定的形式，也可以按照在第二側壁22或第二底板21上安裝水套或設通道的形式，只要求保證使用時溫控管40可耐壓耐溫不出現滲漏或漏電現象即可。另一方面，本實用新型一種實施方式的真空鍍膜設備，包括機械模塊部件、工藝模塊部件和實施例一的真空反應腔室，所述工藝模塊部件位于所述內反應腔20內，部分所述機械模塊部件位于所述外腔體10內。該真空鍍膜設備包括本實用新型的真空反應腔室，因此，該真空鍍膜設備具有上述真空反應腔室的全部***，在此不再贅述。其中，設置于外腔體10內的部分機械模塊部件為與工藝反應無關的一些傳動機械部件、升降機械部件等等，另一部與工藝反應相關的機械部件，如鍍膜靶材的轉動部件等等則設置于內反應腔20中。具體的，可以根據真空鍍膜設備的具體結構而定。該真空鍍膜設備中，由于真空反應腔室設計成內外腔結構，同時，通過設置溫控裝置，可以有效地保證工藝環境封閉、恒溫、外部污染源少，為工藝反應提供了更為穩定、純凈的環境。通過實際實驗證明，反應區域溫度環境更均勻。 AR真空鍍膜設備哪家強