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所述頂蓋遠離所述鍍膜機一側設有動觸點；所述第二連接套內側壁上設有靜觸點，所述靜觸點位于所述寶來利真空凹槽與所述抽氣管之間；所述動觸點與外部電源電性連接；所述靜觸點與氣缸電性連接。進一步地，所述鍍膜機靠近所述出氣管的側壁上設有開關及換向器；所述開關分別與所述換向器及所述真空泵電性連接；所述換向器與所述電磁鐵電性連接。進一步地，所述頂蓋側壁上設有凹孔。本實用新型的有益效果在于：通過設置電磁鐵與磁片，在進行鍍膜機內真空抽氣時，按下開關，電磁鐵通電產生與磁鐵相同的磁極，利用磁鐵的原理，配合負壓的作用，打開頂蓋，使得氣體從抽氣管排出，隨后反方向按下開關，電磁鐵在換向器的作用下改變電流方向，磁極改變，與磁片的磁極相反，在彈簧的推動下，頂蓋緊緊蓋在出氣管口上，密封性良好，防止鍍膜機內真空環境發生變化，保證鍍膜過程的正常進行。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，下面描述中的附圖真空鍍膜設備真空鍍膜設備是本實用新型的部分實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下。寶來利真空鍍膜機性能穩定，膜層均勻耐磨，檔次高，有需要可以咨詢！

本實用新型涉及真空設備領域，尤其涉及一種真空反應腔室和真空鍍膜設備。背景技術：目前，真空設備，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等離子體增強化學氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition，物寶來利相沉積）設備已被廣泛應用于各種產品的生產過程中，如光伏電池、半導體器件等等。真空設備中(如pecvd設備、pvd設備)的寶來利真空反應室通常為單個反應腔室，傳動部件和升降部件等機械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設置于該單個反應腔室內，這就造成反應腔室內的工藝環境不夠封閉，容易造成工藝環境污染。另外，設置單個反應腔室時，由于工藝反應區域較大，容易造成工藝所需原料的浪費，同時，還會造成工藝反應過程中溫度波動大，不可控因素較多，從而影響工藝過程。技術實現要素：本實用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應腔室，以解決現有真空設備中由于只設置一個反應腔室造成的工藝環境易被污染、工藝原料易被浪費、環境溫度可控性低等問題。本實用新型的第二目的在于提供一種包含本實用新型真空反應腔室的真空鍍膜設備。為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案如下：一種真空反應腔室，包括：用于提供真空環境的外腔體。寶來利真空鍍膜機性能穩定，膜層均勻耐磨，工藝品質好，有需要可以咨詢！上海車載監控真空鍍膜機設備廠家

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本實用新型涉及真空鍍膜領域，更具體地說，涉及一種真空鍍膜設備。背景技術：真空鍍膜機要求在真空環境下進行鍍膜，在鍍膜室進行蒸鍍后，鍍膜室中殘留的部分未蒸餾到薄膜上的蒸汽遇冷會形成粉塵，而粉塵在別真空泵抽走后，會堵塞真空泵，影響真空泵的使用以及容易損壞真空泵。現有的真空鍍膜機，在除粉塵時，多利用負壓作用將出氣口上的頂蓋打開，并利用彈簧的彈力蓋緊頂蓋，但在打開時需要較大的壓力才能頂出頂蓋，而真空鍍膜設備通過彈簧蓋緊頂蓋，容易出現蓋不緊的情況，導致鍍膜機內真空度不夠，影響鍍膜的過程。技術實現要素：本實用新型要解決的技術問題在于，針對現有技術的上述缺陷，提供一種密封性良好且能夠除塵的真空鍍膜設備。本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：提供一種真空鍍膜設備，包括鍍膜機；所述鍍膜機底部設有出氣管；所述出氣管上設有寶來利真空連接套；所述寶來利真空連接套上設有第二連接套；所述第二連接套中設有頂蓋，所述頂蓋與所述寶來利真空連接套之間通過磁吸連接；所述第二連接套遠離所述鍍膜機一側設有抽氣管；所述抽氣管遠離所述第二連接套一側設有真空泵；所述抽氣管內靠近所述真空泵一側設有寶來利真空過濾網。上海車載監控真空鍍膜機設備廠家