本實用新型涉及真空設備領域,尤其涉及一種真空反應腔室和真空鍍膜設備。背景技術:目前,真空設備,例如,pecvd(plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,等離子體增強化學氣相沉積)和pvd(physicalvaporde****ition,物寶來利相沉積)設備已被廣泛應用于各種產品的生產過程中,如光伏電池、半導體器件等等。真空設備中(如pecvd設備、pvd設備)的寶來利真空反應室通常為單個反應腔室,傳動部件和升降部件等機械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設置于該單個反應腔室內,這就造成反應腔室內的工藝環(huán)境不夠封閉,容易造成工藝環(huán)境污染。另外,設置單個反應腔室時,由于工藝反應區(qū)域較大,容易造成工藝所需原料的浪費,同時,還會造成工藝反應過程中溫度波動大,不可控因素較多,從而影響工藝過程。技術實現(xiàn)要素:本實用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應腔室,以解決現(xiàn)有真空設備中由于只設置一個反應腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實用新型的第二目的在于提供一種包含本實用新型真空反應腔室的真空鍍膜設備。為達到上述目的,本實用新型采用的技術方案如下:一種真空反應腔室,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體。寶來利真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,功能鍍膜,有需要可以咨詢!車載監(jiān)控真空鍍膜機設備廠家
泵6通過軟管與噴頭42固定裝配。泵6能夠將清洗箱8中的清洗液通過軟管、噴頭42均勻噴灑到后罐體3和前罐體2的內壁上。控制箱1、減速電機54、泵6通過導線電連接,且控制箱1與外部電源連接。通過控制箱1控制減速電機54、泵6的工作狀態(tài)。工作原理:需要對后罐體3、前罐體2的內表面進行清理時,通過控制箱1控制泵6,將清洗箱8中的清洗液通過軟管、傾斜的噴頭42均勻噴灑到后罐體3和前罐體2的內壁上;同時驅動裝置5中減速電機54能夠帶動u形架44、刮板43在后罐體3和前罐體2的內部轉動,將清洗液及內壁上的物質剮蹭下來,并通過集料盒7中出料口71、外螺管72、收集盒73的配合,方便收集、清理,完成后泵6、減速電機54停止工作。對于本領域技術人員而言,顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節(jié),而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實現(xiàn)本實用新型。因此,無論從哪一點來看,均應將實施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定,因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。此外,應當理解。半透光真空鍍膜機供應品質真空鍍膜機,請選丹陽市寶來利真空機電有限公司,可鍍玫瑰金,有需要來咨詢!
以專門作為工藝反應的內反應腔20。寶來利真空底板11、寶來利真空側壁12、第二底板21和第二側壁22均可由金屬材料組成,其中,第二底板21和第二側壁22則優(yōu)先選用熱傳導效果較好的金屬材料組成,例如可選不銹鋼或鋁合金等材料。除上述結構形式外,外腔體10和內反應腔20還可以共用一個底板,真空鍍膜設備用一圈隔離板對外腔體10進行分割即可。但為了將內反應腔20的空間盡可能地縮小到所需范圍,且真空鍍膜設備大限度地降低非必要的空間,該實施方式中設置了寶來利真空底板11和第二底板21相互分離的設置結構,以在垂直方向上縮小內反應腔20的空間。其中,寶來利真空底板11、寶來利真空側壁12和密封蓋板30三者相互密閉連接共同構成了與外部大氣隔離的具有封閉結構的外腔體10。而內反應腔20則位于該外腔體10之內,但是第二側壁22與密封蓋板30之間并未形成封閉式接觸,兩者之間屬于分離式設計結構。該結構也就使得外腔體10與內反應腔20之間在仍屬于相互連通的結構構造,用該結構可以將真空設備中的部分構件分離,將工藝過程中非必要的機械結構部件設置于外腔體10中,而與工藝反應相關的結構部件設置于內反應腔20中。在工藝反應過程中,由于工藝反應區(qū)的壓力要大于外腔體10中的壓力。
避免工藝污染,提供工藝質量。由于設置雙腔室,作為工藝反應區(qū)的內反應腔20相對較小,因此可以有效減少工藝原料的浪費,降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時,由于工藝反應區(qū)的減少,可以有效控制該區(qū)域內的溫度,使該區(qū)域內的工藝溫度更易于均勻化,進而提高工藝質量。需要說明的是,內反應腔20位于外腔體10內,但內反應腔20和外腔體10處于可連通狀態(tài),并非完全隔絕,當對外腔體10進行抽真空處理時,內反應腔20內也同時進行抽真空操作。外腔體10和內反應腔20處于相互連通的狀態(tài),只是在外腔體10內劃分出了一個立體空間以進行工藝反應。本實施方式中,參照圖2,所述外腔體10包括寶來利真空底板11和沿所述寶來利真空底板11周向設置的寶來利真空側壁12;所述內反應腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向設置的第二側壁22;所述寶來利真空底板11與所述第二底板21相互分離設置,所述寶來利真空側壁12與所述第二側壁22相互分離設置;寶來利真空側壁12與蓋設于所述寶來利真空側壁12上的密封蓋板30密閉連接,所述第二側壁22與所述密封蓋板30相互分離設置。該結構中,相當于用第二底板21和第二側壁22在外腔體10中分割出一個更小的空間。寶來利真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,有需要可以咨詢!
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雖然本說明書按照實施方式加以描述,但并非每個實施方式*包含一個**的技術方案,說明書的這種敘述方式**是為清楚起見,本領域技術人員應當將說明書作為一個整體,各實施例中的技術方案也可以經適當組合,形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。蒸發(fā)鍍膜機離子鍍膜機車燈鍍膜機寶來利真空BLL多弧離子PVD鍍膜設備CCZK-SFL連續(xù)磁控鍍膜生產線蒸發(fā)鍍膜機離子鍍膜機車燈鍍膜機汽車燈具,高等燈具反光碗的鍍膜,通過蒸鍍,硅油保護膜一次性完成,具有寶來利真空的反射率和耐腐蝕性能。丹陽市寶來利真空機電有限公司多弧離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎上發(fā)展起來的一種鍍膜技術,將各種氣體寶來利真空BLL系列磁控濺射鍍膜流水線可適用于幕墻玻璃,鋁鏡,反光鏡生產。車載監(jiān)控真空鍍膜機設備廠家