一個(gè)實(shí)施例提供了包括一個(gè)或多個(gè)以上限定的結(jié)構(gòu)的二極管。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，該二極管由一個(gè)或多個(gè)晶體管限定，晶體管具有在兩個(gè)溝槽之間延伸的至少一個(gè)溝道區(qū)域，一區(qū)域限定晶體管柵極。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，該二極管包括將溝道區(qū)域電連接到傳導(dǎo)層的接觸區(qū)域。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，一區(qū)域是半導(dǎo)體區(qū)域，溝道區(qū)域和一區(qū)域摻雜有相反的導(dǎo)電類型。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，該二極管包括漏極區(qū)域，漏極區(qū)域在兩個(gè)溝槽之間的溝道區(qū)域下方延伸，并且推薦地在溝槽下方延伸。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，漏極區(qū)域比溝道區(qū)域更少地被重?fù)诫s。根據(jù)本公開的實(shí)施例，已知二極管結(jié)構(gòu)的全部或部分的缺點(diǎn)被克服，并且正向電壓降和/或漏電流得到改善。附圖說明參考附圖，在下面以說明而非限制的方式給出的具體實(shí)施例的描述中將詳細(xì)描述前述特征和優(yōu)點(diǎn)以及其他特征和優(yōu)點(diǎn)，在附圖中：圖1是圖示二極管的實(shí)施例的簡化截面圖；以及圖2a至圖2f圖示了制造圖1的二極管的方法的實(shí)現(xiàn)方式的步驟。具體實(shí)施方式在各個(gè)附圖中，相同的元件用相同的附圖標(biāo)記表示，并且各個(gè)附圖未按比例繪制。為清楚起見，示出并詳細(xì)描述了對理解所描述的實(shí)施例有用的那些步驟和元件。在以下描述中，當(dāng)參考限定較為位置(例如。電流容量達(dá)幾百安培以至上千安培的可控硅元件。北京分立半導(dǎo)體模塊可控硅（晶閘管）富士IGBT

Ia與Il成正比，即當(dāng)光電二極管的光電流增大時(shí)，光控晶閘管的輸出電流也相應(yīng)增大，同時(shí)Il的增大，使BGl、BG2的電流放大系數(shù)a1、a2也增大。當(dāng)al與a2之和接近l時(shí)，光控晶閘管的Ia達(dá)到**大，即完全導(dǎo)通。能使光控晶閘管導(dǎo)通的**小光照度，稱其為導(dǎo)通光照度。光控晶閘管與普通晶閘管一樣，一經(jīng)觸發(fā)，即成通導(dǎo)狀態(tài)。只要有足夠強(qiáng)度的光源照射一下管子的受光窗口，它就立即成為通導(dǎo)狀態(tài)，而后即使撤離光源也能維持導(dǎo)通，除非加在陽極和陰極之間的電壓為零或反相，才能關(guān)閉。3．光控晶閘管的特性為了使光控晶閘管能在微弱的光照下觸發(fā)導(dǎo)通，因此必須使光控晶閘管在極小的控制電流下能可靠地導(dǎo)通。這樣光控晶閘管受到了高溫和耐壓的限制，在目前的條件下，不可能與普通晶閘管一樣做成大功率的。光控晶閘管除了觸發(fā)信號(hào)不同以外，其它特性基本與普通晶閘管是相同的，因此在使用時(shí)可按照普通晶閘管選擇，只要注意它是光控這個(gè)特點(diǎn)就行了。光控晶閘管對光源的波長有一定的要求，即有選擇性。波長在——，都是光控晶閘管較為理想的光源。使用注意事項(xiàng)/晶閘管編輯選用可控硅的額定電壓時(shí)，應(yīng)參考實(shí)際工作條件下的峰值電壓的大小，并留出一定的余量。1、選用可控硅的額定電流時(shí)。西藏igbt供應(yīng)商可控硅（晶閘管）日本富士可控硅是可控硅整流元件的簡稱,是一種具有三個(gè)PN 結(jié)的四層結(jié)構(gòu)的大功率半導(dǎo)體器件。

晶閘管（Thyristor）是晶體閘流管的簡稱，又被稱做可控硅整流器，以前被簡稱為可控硅；1957年美國通用電氣公司開發(fā)出世界上第1款晶閘管產(chǎn)品，并于1958年將其商業(yè)化；晶閘管是PNPN四層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，它有三個(gè)極：陽極，陰極和控制極；晶閘管具有硅整流器件的特性，能在高電壓、大電流條件下工作，且其工作過程可以控制、被廣泛應(yīng)用于可控整流、交流調(diào)壓、無觸點(diǎn)電子開關(guān)、逆變及變頻等電子電路中。工作原理晶閘管在工作過程中，它的陽極（A）和陰極（K）與電源和負(fù)載連接，組成晶閘管的主電路，晶閘管的門極G和陰極K與控制晶閘管的裝置連接，組成晶閘管的控制電路。晶閘管為半控型電力電子器件，它的工作條件如下：1.晶閘管承受反向陽極電壓時(shí)，不管門極承受何種電壓，晶閘管都處于反向阻斷狀態(tài)。2.晶閘管承受正向陽極電壓時(shí)，在門極承受正向電壓的情況下晶閘管才導(dǎo)通。這時(shí)晶閘管處于正向?qū)顟B(tài)，這就是晶閘管的閘流特性，即可控特性。3.晶閘管在導(dǎo)通情況下，只要有一定的正向陽極電壓，不論門極電壓如何，晶閘管保持導(dǎo)通，即晶閘管導(dǎo)通后，門極失去作用。門極只起觸發(fā)作用。4.晶閘管在導(dǎo)通情況下，當(dāng)主回路電壓（或電流）減小到接近于零時(shí)，晶閘管關(guān)斷。

晶閘管和可控硅，有什么區(qū)別？

1、概念不一樣：可控硅(SiliconControlledRectifier)簡稱SCR，是一種大功率電孝改器元件，也稱晶閘管。三極管，全稱應(yīng)為半導(dǎo)體三極管，也稱雙極型晶體管、晶體三顫慎猜極管，是一種控制電流的半導(dǎo)體器件其作用是把微弱信號(hào)放大成幅度值較大的電信號(hào)，也用作無觸點(diǎn)開關(guān)。

2、用處不一樣：可控硅（1）小功率塑封雙向可控硅通常用作聲光控?zé)艄庀到y(tǒng)。（2）功率塑封和鐵封可控硅通常用作功率型可控調(diào)壓電路。像可調(diào)壓輸出直流電源等等。（3）大功率高頻可控硅通常用作工業(yè)中高頻熔煉爐等。三極管，晶體三極管具有電流放大作用，其實(shí)質(zhì)是三極管能以基極電流微小的變化量來控制集電極電流較大的變化量。

3、分類不一樣：可控硅：按關(guān)斷、導(dǎo)通及控制方式分類按引腳和極性分類按封裝形式分類按電流容量分類按關(guān)斷速度分類非過零觸發(fā)分類。三極管：按材質(zhì)分按結(jié)構(gòu)分按功能分按功率分按工作頻率分按結(jié)構(gòu)工藝分按安裝方式。 晶閘管具有硅整流器件的特性，能在高電壓、大電流條件下工作。

且在門極伏安特性的可靠觸發(fā)區(qū)域之內(nèi)；④應(yīng)有良好的抗干擾能力、溫度穩(wěn)定性及與主電路的電氣隔離；⑤觸發(fā)脈沖型式應(yīng)有助于晶閘管元件的導(dǎo)通時(shí)間趨于一致。在高電壓大電流晶閘管串聯(lián)電路中，要求串聯(lián)的元件同一時(shí)刻導(dǎo)通，宜采用強(qiáng)觸發(fā)的形式。[1]晶閘管觸發(fā)方式主要有三種：①電磁觸發(fā)方式，將低電位觸發(fā)信號(hào)經(jīng)脈沖變壓器隔離后送到高電位晶閘管門極。這種觸發(fā)方式成本較低，技術(shù)比較成熟。但要解決多路脈沖變壓器的輸出一致問題，同時(shí)觸發(fā)時(shí)的電磁干擾較大。②直接光觸發(fā)方式，將觸發(fā)脈沖信號(hào)轉(zhuǎn)變?yōu)楣饷}沖，直接觸發(fā)高位光控晶閘管。這種觸發(fā)方式只適用于光控晶閘管，且該種晶閘管的成本較高，不適宜采用；③間接光觸發(fā)方式，利用光纖通信的方法，將觸發(fā)電脈沖信號(hào)轉(zhuǎn)化為光脈沖信號(hào)，經(jīng)處理后耦合到光電接受回路，把光信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào)。既可以克服電磁干擾，又可以采用普通晶閘管，降低了成本。[1]晶閘管串聯(lián)技術(shù)當(dāng)需要耐壓很高的開關(guān)時(shí)，單個(gè)晶閘管的耐壓有限，單個(gè)晶閘管無法滿足耐壓需求，這時(shí)就需要將多個(gè)晶閘管串聯(lián)起來使用，從而得到滿足條件的開關(guān)。在器件的應(yīng)用中，由于各個(gè)元件的靜態(tài)伏安特性和動(dòng)態(tài)參數(shù)不同。按關(guān)斷速度分類：可控硅按其關(guān)斷速度可分為普通可控硅和高頻（快速）可控硅。北京分立半導(dǎo)體模塊可控硅（晶閘管）富士IGBT

按電流容量分類：可控硅按電流容量可分為大功率可控硅、率可控硅和小功率可控硅三種。北京分立半導(dǎo)體模塊可控硅（晶閘管）富士IGBT

當(dāng)主回路電壓（或電流）減小到接近于零時(shí)，晶閘管關(guān)斷。工作過程/晶閘管編輯概述晶閘管是四層三端器件，它有J1、J2、J3三個(gè)PN結(jié)圖1，可以把它中間的NP分成兩部分，構(gòu)成一個(gè)PNP型三極管和一個(gè)NPN型三極管的復(fù)合管，圖2晶閘管當(dāng)晶閘管承受正向陽極電壓時(shí)，為使晶閘管導(dǎo)通，必須使承受反向電壓的PN結(jié)J2失去阻擋作用。圖2中每個(gè)晶體管的集電極電流同時(shí)就是另一個(gè)晶體管的基極電流。因此，兩個(gè)互相復(fù)合的晶體管電路，當(dāng)有足夠的門極電流Ig流入時(shí)，就會(huì)形成強(qiáng)烈的正反饋，造成兩晶體管飽和導(dǎo)通，晶體管飽和導(dǎo)通。設(shè)PNP管和NPN管的集電極電流相應(yīng)為Ic1和Ic2；發(fā)射極電流相應(yīng)為Ia和Ik；電流放大系數(shù)相應(yīng)為a1=Ic1/Ia和a2=Ic2/Ik，設(shè)流過J2結(jié)的反相漏電電流為Ic0,晶閘管的陽極電流等于兩管的集電極電流和漏電流的總和：Ia=Ic1+Ic2+Ic0或Ia=a1Ia+a2Ik+Ic0若門極電流為Ig，則晶閘管陰極電流為Ik=Ia+Ig從而可以得出晶閘管陽極電流為：I=(Ic0+Iga2）/（1-（a1+a2））（1—1）式硅PNP管和硅NPN管相應(yīng)的電流放大系數(shù)a1和a2隨其發(fā)射極電流的改變而急劇變化如圖3所示。當(dāng)晶閘管承受正向陽極電壓，而門極未受電壓的情況下，式（1—1）中，Ig=0,(a1+a2）很小。北京分立半導(dǎo)體模塊可控硅（晶閘管）富士IGBT