晶閘管和可控硅，有什么區別？

1、概念不一樣：可控硅(SiliconControlledRectifier)簡稱SCR，是一種大功率電孝改器元件，也稱晶閘管。三極管，全稱應為半導體三極管，也稱雙極型晶體管、晶體三顫慎猜極管，是一種控制電流的半導體器件其作用是把微弱信號放大成幅度值較大的電信號，也用作無觸點開關。

2、用處不一樣：可控硅（1）小功率塑封雙向可控硅通常用作聲光控燈光系統。（2）功率塑封和鐵封可控硅通常用作功率型可控調壓電路。像可調壓輸出直流電源等等。（3）大功率高頻可控硅通常用作工業中高頻熔煉爐等。三極管，晶體三極管具有電流放大作用，其實質是三極管能以基極電流微小的變化量來控制集電極電流較大的變化量。

3、分類不一樣：可控硅：按關斷、導通及控制方式分類按引腳和極性分類按封裝形式分類按電流容量分類按關斷速度分類非過零觸發分類。三極管：按材質分按結構分按功能分按功率分按工作頻率分按結構工藝分按安裝方式。 晶閘管T在工作過程中，它的陽極A和陰極K與電源和負載連接，組成晶閘管的主電路。新疆IGBT單管可控硅（晶閘管）MACMIC原裝現貨

晶閘管陽極與陰極間表現出很大的電阻，處于截止狀態(稱為正向阻斷狀態)，簡稱斷態。當陽極電壓上升到某一數值時，晶閘管突然由阻斷狀態轉化為導通狀態，簡稱通態。陽極這時的電壓稱為斷態不重復峰值電壓(UDSM)，或稱正向轉折電壓(UBO)。導通后，元件中流過較大的電流，其值主要由限流電阻(使用時由負載)決定。在減小陽極電源電壓或增加負載電阻時，陽極電流隨之減小，當陽極電流小于維持電流IH時，晶閘管便從導通狀態轉化為阻斷狀態。由圖可看出，當晶閘管控制極流過正向電流Ig時，晶閘管的正向轉折電壓降低，Ig越大，轉折電壓越小，當Ig足夠大時，晶閘管正向轉折電壓很小，一加上正向陽極電壓，晶閘管就導通。實際規定，當晶閘管元件陽極與陰極之間加上6V直流電壓時，能使元件導通的控制極**小電流(電壓)稱為觸發電流(電壓)。在晶閘管陽極與陰極間加上反向電壓時，開始晶閘管處于反向阻斷狀態，只有很小的反向漏電流流過。當反向電壓增大到某一數值時，反向漏電流急劇增大，這時，所對應的電壓稱為反向不重復峰值電壓(URSM)，或稱反向轉折(擊穿)電壓(UBR)。可見，晶閘管的反向伏安特性與二極管反向特性類似。晶閘管晶閘管的開通和關斷的動態過程的物理過程較為復雜。遼寧可關斷可控硅（晶閘管）宏微全新原裝晶閘管在工業中的應用越來越廣，隨著行業的應用范圍增大。

晶閘管的種類晶閘管有多種方式分類管理方法。（1）按關閉、傳導和控制方式分類晶閘管可分為普通晶閘管、晶閘管晶閘管、反向晶閘管、門極關斷晶閘管、btg晶閘管、溫控晶閘管和光控晶閘管。（B）在銷和分類的極性晶閘管按其引腳和極性不同可分為二極晶閘管、三極晶閘管和四極晶閘管。（三）按封裝形式分類晶閘管其包可分為金屬封裝的晶閘管，晶閘管塑料晶閘管和三種類型的陶瓷封裝的。其中，所述金屬包晶閘管被分成螺栓形，板形，圓形殼狀等;塑料晶閘管被分成翅片型散熱器和無兩。（四）按電流容量分類晶閘管按電流進行容量不同可分為傳統大功率晶閘管、率控制晶閘管和小功率以及晶閘管三種。通常，大功率晶閘管多采用一些金屬殼封裝，而中、小功率通過晶閘管則多采用塑封或陶瓷材料封裝。（五）按關斷速度分類根據它們的普通晶閘管關斷晶閘管，并且可以被劃分為高頻（快）晶閘管。晶閘管和可控硅的區別晶閘管(THYRISTOR)又稱SCR，屬于功率器件領域，是一種功率半導體開關元件。SCR是它的縮寫。根據其工作特性，可分為單向SCR(SCR)和雙向SCR(TRIAC)。可控硅也稱作一個晶閘管，它是由PNPN四層半導體材料構成的元件。

具有單向導電特性，而陽極A與門極之間有兩個反極性串聯的PN結。因此，通過用萬用表的R×100或R×1kQ檔測量普通晶閘管各引腳之間的電阻值，即能確定三個電極。具體方法是：將萬用表黑表筆任接晶閘管某一極，紅表筆依次去觸碰另外兩個電極。若測量結果有一次阻值為幾千歐姆(kΩ)，而另一次阻值為幾百歐姆(Ω)，則可判定黑表筆接的是門極G。在阻值為幾百歐姆的測量中，紅表筆接的是陰極K，而在阻值為幾千歐姆的那次測量中，紅表筆接的是陽極A，若兩次測出的阻值均很大，則說明黑表筆接的不是門極G，應用同樣方法改測其他電極，直到找出三個電極為止。也可以測任兩腳之間的正、反向電阻，若正、反向電阻均接近無窮大，則兩極即為陽極A和陰極K，而另一腳即為門極G。普通晶閘管也可以根據其封裝形式來判斷出各電極。螺栓形普通晶閘管的螺栓一端為陽極A，較細的引線端為門極G，較粗的引線端為陰極K。平板形普通晶閘管的引出線端為門極G，平面端為陽極A，另一端為陰極K。金屬殼封裝(T0—3)的普通晶閘管，其外殼為陽極A。塑封(T0—220)的普通晶閘管的中間引腳為陽極A，且多與自帶散熱片相連。晶閘管觸發能力檢測：對于小功率(工作電流為5A以下)的普通晶閘管，可用萬用表R×1檔測量。可控硅的弱點：靜態及動態的過載能力較差；容易受干擾而誤導通。

認識半導體晶閘管晶閘管又被稱做可控硅整流器，以前被簡稱為可控硅。1957年美國通用電氣公司開發出世界上第1款晶閘管產品，并于1958年將其商業化。晶閘管是PNPN四層半導體結構，形成三個PN結，分別稱：陽極，陰極和控制極。圖1晶閘管的結構晶閘管在工作過程中，它的陽極（A）和陰極（K）與電源和負載連接，組成晶閘管的主電路。晶閘管的門極G和陰極K與控制晶閘管的裝置連接，組成晶閘管的控制電路。工作過程加正向電壓且門極有觸發電流的情況下晶閘管才導通，這是晶閘管的閘流特性，即可控特性。若晶閘管承受反向陽極電壓時，不管門極承受何種電壓，晶閘管都處于反向阻斷狀態。晶閘管在導通情況下，當主回路電壓（或電流）減小到接近于零時，晶閘管關斷。晶閘管的種類1．雙向晶閘管雙向晶閘管有極外G，其他兩個極稱為主電極Tl和T2。結構是一種N—P—N—P—N型五層結構的半導體器件。雙向晶閘管不象普通晶閘管那樣，必須在陽極和陰極之間加上正向電壓，管子才能導通。它無所謂陽極和陰極，不管觸發信號的極性如何，雙向晶閘管都能被觸發導通。這個特點是普通晶閘管所沒有的。2．快速晶閘管人們在普通晶閘管的制造工藝和結構上采取了一些改進措施。不管可控硅的外形如何，它們的管芯都是由P型硅和N型硅組成的四層P1N1P2N2結構。貴州igbt供應商可控硅（晶閘管）MACMIC原裝現貨

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由此形成在腔502的壁上的熱氧化物層304可以在襯底和區域306的上表面上連續。在圖2e的步驟中，腔502被填充，例如直到襯底的上部水平或者直到接近襯底的上部水平的水平。為此目的，例如執行摻雜多晶硅的共形沉積。然后將多晶硅向下蝕刻至期望水平。因此在區域306的任一側上獲得兩個區域302。在圖2f的步驟中，去除位于襯底以及區域302和306的上表面上的可能元件，諸如層304的可接近部分。然后形成可能的層42和層40。通過圖2a至圖2f的方法獲得的結構30的變型與圖1的結構30的不同之處在于，區域306與區域302分離并且一直延伸到層40或可能的層42，并且該變型包括在區域306的任一側上的兩個區域302。每個區域302與層40電接觸。每個區域302通過層304與襯底分離。可以通過與圖2a至圖2f的方法類似的方法來獲得結構30a，其中在圖2b和圖2c的步驟之間進一步提供方法來形成掩蔽層，該掩蔽層保護位于溝槽22的單側上的壁上的層308，并且使得層308在溝槽的另一側上被暴露。在圖2c的步驟中獲得單個腔502。已描述了特定實施例。本領域技術人員將容易想到各種改變、修改和改進。特別地，結構30和30a及其變體可以被使用在利用襯底上的傳導區域通過絕緣層的靜電影響的任何電子部件(例如，晶體管)。新疆IGBT單管可控硅（晶閘管）MACMIC原裝現貨