IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計的。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會由于再生而中斷運行。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。

美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色：

采用雙O-型密封圈進行密封，確保膜堆在運行中不發(fā)生泄漏；

產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水，無需使用化學藥劑；

連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無波動，不似批處理設(shè)備呈周期變化；

不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐；

具有優(yōu)良的電絕緣性能；

在7bar（100psi）、45℃（113oF）條件下，可以連續(xù)運行；

采用專利注冊的“全填充”技術(shù)，不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。批發(fā)美國IONPURE EDI模塊價格

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當?shù)那逑春拖荆苯訉е翬DI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、西門子EDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、西門子EDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴重下降，清洗無效。

  7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 零售美國IONPURE EDI模塊哪家好美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎來電。

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下：

1．準備

   1）關(guān)閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運行，確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉(zhuǎn)換鈕轉(zhuǎn)到“關(guān)閉”位置。

   2）關(guān)閉下列閥門：原水進水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進出口閥。

   3）將清洗水箱和相關(guān)的清洗管道清洗干凈。

   4）連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線直接連接到清洗水箱上。把原水進水、濃水進水清洗管線連接到EDI系統(tǒng)的原水進水和濃水進水清洗接口上。注意清洗管線必須牢固、緊密，以防止化學藥品的噴濺。

西門子EDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短，增加運行成本，嚴重影響生產(chǎn)。

導致西門子EDI模塊故障的主要原因：

  1、西門子EDI模塊長期在大電流，低于額定流量情況下運行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量下降，嚴重會碳化漏水。

  2、西門子EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無法調(diào)節(jié)，電壓上升。

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edi模塊的結(jié)構(gòu)特點：

1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料；

2、膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜；

3、采用進口edi**均粒樹脂和國產(chǎn)edi**均粒樹脂；

4、edi模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

6、固定螺絲采用國標標準件；

7、出廠比較高試壓7bar不漏水；

8、電阻低、功耗小；

9、edi模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實；

10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務(wù)放心可靠。天津廠家直供美國IONPURE EDI模塊的特點

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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