顯影液CY-7001使用高純度的無雜質碳酸鉀，并同時加入特殊添加劑，加快了顯影速度，防止硬水水垢產生，并使槽液壽命延長達純堿的3~5倍，有效減少了廢水量。特點：槽液不易產生沉淀物；槽體內可維持良好清潔度；PH計及自動添加控制槽液有效濃度易控制噴嘴不易堵塞；廢水量降低3倍以上；降低換槽頻率，有效提升生產效率；廢液易處理，操作簡便。安全及儲存：安全：操作時應避免接觸皮膚和眼睛，如有接觸，應立即用大量水沖洗，并送醫(yī)院就診。鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設計的化學品。除泡劑供貨商

近來的研究表明，以硝酸為基礎的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側蝕，達到蝕刻的線條側壁接近垂直。這種蝕刻系統(tǒng)正有待于開發(fā)。蝕刻速率：蝕刻速率慢會造成嚴重側蝕。蝕刻質量的提高與蝕刻速率的加快有很大關系。蝕刻速度越快，板子在蝕刻液中停留的時間越短，側蝕量越小，蝕刻出的圖形清晰整齊。蝕刻方式：浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側蝕，潑濺和噴淋式蝕刻側蝕較小，尤以噴淋蝕刻效果較好。蝕刻液的PH值：堿性蝕刻液的PH值較高時，側蝕增大。無氨氮鈀鈍化液型號剝鎳鈍化劑BN-8009有效的降低生產，提高經濟效率。

剝膜加速劑除了可有效的加速剝離外，并將膜切割成較小碎片，減少夾膜殘銅發(fā)生，另外也可以保護錫鉛鍍層，減少NAOH攻擊側蝕，剝膜過程銅面不易氧化，對于外層板剝膜可減少銅面氧化造成蝕銅不凈，尤其更適合高精密度板、細線路、窄間距之高級板。蝕刻液的使用方法：即氟化氫的水溶液，為無色液體，能在空氣中發(fā)煙，有強烈腐蝕性和毒性，能侵蝕玻璃，需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中，可作為蝕刻玻璃的主要原料，一般選用工業(yè)品。原料：氟化銨：分子式為NH4F，白色晶體，易潮解，易溶于水和甲醇，較難溶于乙醇，能升華，在蝕刻液中起腐蝕作用，一般選用工業(yè)產品。

微蝕穩(wěn)定劑ME-3001適用于內外層前處理、PTH、電鍍、防焊等制程。溶液維護：藥液的實際損耗與設備結構關系非常密切；ME-3001藥?可通過24小時內分析??兩次，來實現濃度控制，分析硫酸，雙氧?或銅離?濃度是為了控制反應過程，當銅的濃度達到35-45g/l時，需換槽3/4，再補加所需量；每?產 1000SF2板添加98%H2SO42.5-5.5L，35%H2O23-4.5L，安定劑HT3031.5-3L；在正常操作條件下，微蝕速率為 30±15ц″/min。根據需要微蝕速率也可通過調整H2O2、H2SO4濃度來完成；建議微蝕槽前段盡量使用純?洗，避免 CL-過多污染槽液，影響微蝕速率，同時不能接觸無機酸性或還原試劑。環(huán)保型除鈀液_CB-1070易清洗；外觀：無色液體；氣味：略有氣味；性質：堿性。

剝鎳鈍化劑BN-8009用于鍍金工藝中不良產品的退鍍重工，廢料中金的回收，化鍍金槽的清洗等，有效的降低生產，提高經濟效率，同時配合專門藥水，金回收簡單等優(yōu)勢；環(huán)保型剝鈀劑_BBA-6610系列注意事項：操作時請帶手套、眼鏡等保護具具，萬一藥液沾到皮膚或眼睛上，馬上用水沖冼，然后接受診療；藥水需儲存在陰涼干燥處，避免陽光直射；作業(yè)場所請設置排氣裝置，以保持舒適的作業(yè)環(huán)境；藥液漏出時，需加水稀釋后以硝石灰中和。環(huán)保型除鈀液_CB-1070本品為無色非硫脲體系。PCB藥水的作用只是避免水中Pd含量太多而影響鎳缸。環(huán)保型底片清潔劑銷售

配制蝕刻液時，將原料與60℃熱水混合，攪拌均勻即可。除泡劑供貨商

電子氟化液主要用于：CCD/CMOS圖像傳感芯片和模塊的清洗；氟油、氟樹脂、氟涂層劑溶劑稀釋的清洗；或作為穩(wěn)定溶劑、添加劑、專屬溶劑、清洗劑、漂洗劑、無水液等，焊劑、傳熱介質等。環(huán)境負荷低：無色、無味、無毒、臭氧消耗潛能值為0、全球變暖潛能系數低-符合環(huán)保政策。安全性高：使用無毒，8小時內允許濃度高，無閃點-保證良好的工作環(huán)境。清洗：比重分離效果好，不易損壞塑料和金屬材料，干燥時間短。溶劑：蒸發(fā)速度快，兼容性好。冷卻：電絕緣特性，粘度低。除泡劑供貨商

蘇州圣天邁電子科技有限公司位于胥口鎮(zhèn)胥市路538號288室。公司業(yè)務涵蓋銅剝掛加速劑，蝕刻添加劑 ，剝鎳鈍化劑，印制電路板蝕刻液在線循環(huán)等，價格合理，品質有保證。公司秉持誠信為本的經營理念，在化工深耕多年，以技術為先導，以自主產品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造化工良好品牌。圣天邁電子憑借創(chuàng)新的產品、專業(yè)的服務、眾多的成功案例積累起來的聲譽和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。