翻新工藝中可根據回收物情況不同設計多次清洗環節。在污染情況不是很嚴重的情況下，需在工藝設計清洗環節即可，去除自有污染物及翻新工藝污染物（如維修補焊、打磨、拋光工藝后的污染物殘留）。如回收來的線路板或芯片污染嚴重，需根據污染物組成設計第1次粗洗，去除大部分污染物，以利于其他翻新工藝的順利進行，然后在工藝設計精洗環節。清洗方法主要有手工刷洗、超聲清洗、噴淋清洗、震蕩清洗等，需根據企業實際情況進行選擇。總體來講，超聲清洗的運行成本、清潔度、清洗效率等綜合來比較優。IC封裝藥水抗硫化性和耐候性能優越，5%硫化鉀測試可通過1-2小時。無錫IC除銹活化液哪里有賣

在IC除銹劑涂抹完20分鐘時間里，必須保證生銹的表面盡量的濕潤，如果效果不好，可以用IC除銹劑進行反復的擦拭；在擦拭完畢后，用清水沖洗表面，盡量是使用熱水，這樣可以讓表面更快的干燥，同時還可以預防生銹。浸泡槽除銹法：在浸泡槽里水和IC除銹劑按照5比1的比例進行調和；除銹的溫度保持常溫即可，如果有條件可以將IC除銹劑進行加溫，加溫至上限70攝氏度即可；銹蝕的物體放在浸泡槽內浸泡的時間不能超過三個小時；浸泡完畢后，用清水沖洗表面，盡量是使用熱水，這樣可以讓表面更快的干燥，同時還可以預防生銹。IC除膠清潔規格型號IC封裝藥水耐腐蝕性能提高5-20倍。

IC清潔劑不燃燒、不炸裂，使用安全；清洗劑可以蒸餾回收，反復使用，比較經濟；清洗工藝流程也與ODS清洗劑相同。烴類清洗工藝特點：烴類即碳氫化合物，過去把通過蒸餾原油而得的汽油、煤油作為清洗劑使用。烴類隨碳數的增加而閃點提高，增加了安全性，但是干燥性不好；干燥性好的，使用上又不太安全，故兩者十分矛盾。當然，作為清洗劑應盡量選用防火安全性好的、閃點比較高的清洗劑。其清洗工藝特點是：對油脂類污物清洗能力很強，洗凈能力持久性強，且表面張力低，對細縫、細孔部分清洗效果好。

翻新處理過程中，清洗是比較重要的環節，由于電路板與IC芯片等元器件回收來源復雜，表面污染物差異很大，除了常見的三防漆、松香殘留、油脂、導電膠、導熱膏、灰塵、設備長期運行產生的積碳等，還會混有其他生活和工業垃圾所帶來的各種污染物。目前常用的主流環保清洗方法有以碳氫清洗劑為主的溶劑類清洗及高效水基清洗，碳氫清洗方法運行成本較高；水基清洗對某些污染物的去除能力有限，同時需要配置烘干環節。如正確選用合適的IC清潔劑，一般情況下可做到成本與清潔效果的兼顧。 IC封裝藥水適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy不含H2O2，藥液維護容易。

IC封裝藥液顆粒主要是一些聚合物、光致抗蝕劑和蝕刻雜質等。通常顆粒粘附在硅表面，影響下一工序幾何特征的形成及電特性。根據顆粒與表面的粘附情況分析，其粘附力雖然表現出多樣化，但主要是范德瓦爾斯吸引力，所以對顆粒的去除方法主要以物理或化學的方法對顆粒進行底切，逐漸減小顆粒與硅表面的接觸面積，終將其去除。有機物雜質在IC制程中以多種形式存在，如人的皮膚油脂、凈化室空氣、機械油、硅樹脂真空脂、光致抗蝕劑、清洗溶劑等。每種污染物對IC制程都有不同程度的影響，通常在晶片表面形成有機物薄膜阻止清洗液到達晶片表面。IC封裝藥水適用于金屬表面，塑料表面，玻璃表面等的清洗和光亮。南京IC除膠清潔劑供應企業

STM-C160除銹活化劑，單劑操作，配比濃度20-40%。無錫IC除銹活化液哪里有賣

IC封裝藥液使用浸泡、滌刷或噴灑方式均可，浸泡方法較佳。除銹后應用大量水沖洗其殘留物，如果除銹后需防銹，則需應大量水沖洗后，用5%氫氧化鈉溶液進行中和鈍化、擦干后再噴灑IC除銹劑進行保護。IC除銹劑所釋放出的氣體易燃，所以IC除銹劑應遠離高溫、火花、火焰以及產生靜電的場所。應在通風良好的環境下使用。不用時保持容器密閉。避免兒童接觸。避免皮膚和眼睛接觸和吸入。在除銹之前，對于有油的工件，我們一般需要對進行除油處理，將在除油劑溶液中泡幾分鐘，直到除油處理完成后取出，用清水沖洗干凈，即可開始進行除銹。無錫IC除銹活化液哪里有賣