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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-08-13

ITO蝕刻液由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水組成。1、氟化銨:分子式為NH4F,白色晶體,易潮解,易溶于水和甲醇,較難溶于乙醇,能升華,在蝕刻液中起腐蝕作用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。2、草酸:在蝕刻液中作還原劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。3、硫酸鈉:在蝕刻液中作為填充劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。4、氫氟酸:即氟化氫的水溶液,為無(wú)色液體,能在空氣中發(fā)煙,有強(qiáng)烈腐蝕性和毒性,能侵蝕玻璃,需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中,可作為蝕刻玻璃的主要原料,一般選用工業(yè)品。5、硫酸:純品為無(wú)色油狀液體,含雜質(zhì)時(shí)呈黃、棕等色。用水稀釋時(shí),應(yīng)將濃硫酸慢慢注入水中,并隨時(shí)攪和,而不能將水倒入濃硫酸中,以防濃硫酸飛濺而引發(fā)事故,可作為腐蝕助劑,一般選用工業(yè)品。6、硫酸銨:一般選用工業(yè)品。7、甘油:一般選用工業(yè)品。8、水:自來(lái)水。ITO顯影劑可以一刷成像。蘇州銅發(fā)黑零售價(jià)

ITO導(dǎo)電玻璃制造工藝:(1)電化學(xué)擴(kuò)散工藝:在玻璃上用電化學(xué)擴(kuò)散方法可獲得摻雜超導(dǎo)薄膜。玻璃在電化學(xué)處理裝置中與熔融金屬或化合物接觸,在一定的電場(chǎng)作用下,熔融金屬或化合物中的離子會(huì)擴(kuò)散到玻璃表面,玻璃中的一價(jià)堿金屬離子離解處來(lái),等量地?cái)U(kuò)散至陰極表面,使玻璃表面的化學(xué)組成發(fā)生變化。性能隨之改變。(2)高溫噴涂和等離子體噴涂工藝:這種技術(shù)是將粉末狀金屬或非金屬、無(wú)機(jī)材料加熱至熔化或未熔化狀態(tài),并進(jìn)一步加溫使其霧化,形成高溫高速焰流噴向需噴涂的玻璃基體。采用這種方式可以先在基體上制備YBaGUOx等涂層,在經(jīng)過(guò)熱處理可成為超導(dǎo)性材料。江蘇顯示屏蝕刻藥水批發(fā)市場(chǎng)ITO酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。

ITO酸性蝕刻液用途可用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作;而堿性蝕刻液一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻。而總的來(lái)說(shuō),堿性與酸性蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。ITO酸性蝕刻液的蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染;而堿性蝕刻液的蝕刻速率快,側(cè)蝕?。蝗茔~能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:酸性氯化銅蝕刻液。Cl-含量的影響。溶液中氯離子濃度與蝕刻速率有著密切的關(guān)系,當(dāng)鹽酸濃度升高時(shí),蝕刻時(shí)間減少。在含有6N的HCl溶液中蝕刻時(shí)間至少是在水溶液里的1/3,并且能夠提高溶銅量。但是,鹽酸濃度不可超過(guò)6N,高于6N鹽酸的揮發(fā)量大且對(duì)設(shè)備腐蝕,并且隨著酸濃度的增加,氯化銅的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是:在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應(yīng)時(shí),生成的Cu2Cl2不易溶于水,則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜,這種膜能夠阻止反應(yīng)的進(jìn)一步進(jìn)行。過(guò)量的Cl-能與Cu2Cl2絡(luò)合形成可溶性的絡(luò)離子(CuCl3)2-,從銅表面上溶解下來(lái),從而提高了蝕刻速率。ITO酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制的特性。

影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長(zhǎng);在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。2、氯化銨含量的影響:通過(guò)蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過(guò)量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會(huì)降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對(duì)蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。ITO顯影劑可以分為無(wú)機(jī)化合物和有機(jī)化合物兩大類。江蘇顯示屏蝕刻藥水批發(fā)市場(chǎng)

ITO顯影液主要是用硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀等硼酸、對(duì)苯二酚配合組成的一種特殊的用材。蘇州銅發(fā)黑零售價(jià)

ITO蝕刻廢液的處理法:目前通行的做法是,在各印制板廠內(nèi)儲(chǔ)存起來(lái),放在密封的池子或儲(chǔ)罐內(nèi)等待外單位拉走處理。外單位一般是經(jīng)當(dāng)?shù)丨h(huán)保部門(mén)審批過(guò)有資質(zhì)的回收公司,他們把廢液拉回去后,使用化學(xué)方法(中和法、電解法、置換法)回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品。這些方法,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯,有二次污染污染物排放。特別是堿性蝕刻,由于有大量的氨離子存在,一旦處理不當(dāng)往外排放,勢(shì)必對(duì)水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。蘇州銅發(fā)黑零售價(jià)

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