IC封裝藥液在酸性、中性、堿性條件下均能溶解透明，且長期穩定。與磷酸酯類物質相比，本劑具有好于磷酸酯類物質”三倍以上的防腐蝕效果。“磷酸酯類物質”含磷，易生菌，容易產生大量泡沫。而本劑不含磷、不易生菌、無泡。對黑色金屬和其它有色金屬都有輔助的防腐蝕作用；無毒、無味等特點，不含有害物質，環保型水性產品﹔極低的添加量，綜合使用成本低；經本劑處理的工件，可保持金屬本色，不影響加工精度﹔能夠鎖住金屬表面顏色，穩定性好，防腐蝕性強，保護效果好，金屬表面不褪色，從保護金屬元件的穩定性。IC封裝藥水起著把金屬與腐蝕介質完全隔開的作用。IC去膠清洗劑廠家聯系電話

HCFC類IC清潔劑及其清洗工藝特點：這是一種含氫的氟氯烴，其蒸發潛熱小、揮發性好，在大氣中容易分解，破壞臭氧層的作用比較小，屬于一種過渡性產品，規定在2040年以前淘汰，所以，我們不推薦使用該類清洗劑。其存在的問題主要有兩個：一是過渡性。因為對臭氧層還有破壞作用，只允許使用到2040年；二是價格比較高，清洗能力較弱，增加了清洗成本。氯代烴類的清洗工藝特點：氯代烴類如二氯甲烷、三氯乙烷等也屬于非ODS清洗劑。其清洗工藝特點是：清洗油脂類污物的能力特別強；像ODS清洗劑一樣，也可以用蒸氣洗和氣相干燥。江蘇IC除銹活化液供貨企業IC封裝藥水使用壽命長，平時操作一般只需添加，無需更換。

IC清潔劑作溶劑可作各種反應溶媒，潤滑劑稀釋劑等。特點：無色、無味、無毒、不燃燒，ODP值為零；表面張力低、黏度小、蒸發潛熱小。用途：特殊用途的溶劑、清洗劑、漂洗劑、無水流體、去焊劑和熱傳遞介質，主要用于電子儀表和激光盤片的清洗，顆粒雜物的去除，光學系統及精密場合下清洗。優點：由于性能接近CFCs，可使用原有清洗設備，不需要增加設備投資，也不需要對工藝做大的改變。一定環保，安全。使用范圍：電子元件側漏液，電子零部件（IC，LSI部件）或者電子裝置的氣密性測試。

IC除銹劑使用方法及注意事項：浸泡法：優點是可以在表面形成均勻的防銹膜，保證產品的完全覆蓋，成本較低，缺點是只適用于小型產品，使用低粘度的防銹油，浸泡槽必須有很好排水系統。噴霧法：適用于大型且結構復雜的產品，必須使用高效能的噴霧器，容易出現產品未能完全形成防銹膜，使用時工作環境要求通風性能要好。刷涂法：此方法使用簡單，但是必須要確保工件的每一個位置都有刷涂到，使用前刷子必需保持清潔。沖洗法：效率高，循環使用，可節省成本，但是需要定期對槽內的產品進行排水以及定期進行更換，避免水分及其他物質過多影響防銹效果。IC封裝藥水在錫表面沉積一層有機薄膜，可改善鍍層因儲存或熱處理造成的外觀變色狀況。

IC封裝藥液清潔ACF用，對已上溫并硬化的TYPE上的MELAMINE，URETHANE都可以膨脹分離。特別是對HITACHI。SONY的ACF有良好的除去效果。去除能力強，并且效果好無揮發性，容易保存無刺激性氣味。半導體IC制程主要以20世紀50年代以后發明的四項基礎工藝(離子注入、擴散、外延生長及光刻)為基礎逐漸發展起來，由于集成電路內各元件及連線相當微細，因此制造過程中，如果遭到塵粒、金屬的污染，很容易造成晶片內電路功能的損壞，形成短路或斷路等，導致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。IC封裝藥水可采用浸泡法和擦拭法進行除膠。無錫IC清潔除膠劑費用

IC封裝藥水不影響產品后期的導電與焊接性能。IC去膠清洗劑廠家聯系電話

IC清潔劑在諸多的清洗工序中，只要其中某一工序達不到要求，則將前功盡棄，導致整批芯片的報廢，所以可以毫不夸張地說，沒有有效的清洗技術，便沒有集成電路和超大規模集成電路的現在。傳統清洗技術主要使用酸、堿、雙氧水、甲苯、三氯乙烯、氟利昂等化學試劑，成本高，而且有毒，有腐蝕性，危害安全與健康并污染環境，特別是氟利昂等ODS物質研究破壞地球臭氧層，危及人類生態環境，是國際上限期禁止生產和使用的物質。多年來，國內外科學家就致力于研究無毒，無腐蝕性的清洗工藝，但尚未取得突破。IC去膠清洗劑廠家聯系電話

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