IC清潔劑對金屬不腐蝕，可蒸餾回收，反復(fù)使用，比較經(jīng)濟；毒性較低，對環(huán)境污染少；清洗與漂洗可用同一種介質(zhì)，使用方便。烴類清洗工藝的缺點，主要的是安全性問題，要有嚴(yán)格的安全方法措施。醇類清洗工藝特點：醇類中乙醇和異丙醇是工業(yè)中常用得有機極性溶劑，甲醇毒性較大，一般做添加劑。醇類清洗工藝特點是：對離子類污染物有很好的溶解能力，清洗松香焊劑效果非常好，對油脂類溶解能力較弱；與金屬材料和塑料等相容性好，不產(chǎn)生腐蝕和容脹；干燥快，容易晾干或送風(fēng)干燥，可不必使用熱風(fēng)；脫水性好，常用做脫水劑。IC封裝藥水產(chǎn)品封閉處理后，表面為全干性，無油感。無錫芯片制程藥劑現(xiàn)貨

HCFC類IC清潔劑及其清洗工藝特點：這是一種含氫的氟氯烴，其蒸發(fā)潛熱小、揮發(fā)性好，在大氣中容易分解，破壞臭氧層的作用比較小，屬于一種過渡性產(chǎn)品，規(guī)定在2040年以前淘汰，所以，我們不推薦使用該類清洗劑。其存在的問題主要有兩個：一是過渡性。因為對臭氧層還有破壞作用，只允許使用到2040年；二是價格比較高，清洗能力較弱，增加了清洗成本。氯代烴類的清洗工藝特點：氯代烴類如二氯甲烷、三氯乙烷等也屬于非ODS清洗劑。其清洗工藝特點是：清洗油脂類污物的能力特別強；像ODS清洗劑一樣，也可以用蒸氣洗和氣相干燥。無錫IC芯片清洗劑供應(yīng)IC封裝藥水穩(wěn)定性好，防腐蝕性強，保護(hù)效果好，金屬表面不褪色，從保護(hù)金屬元件的穩(wěn)定性。

IC封裝藥液對于重污垢工件，延長清洗時間或使用多槽多次方式徹底清洗干凈。極易漂洗，無殘留，并對玻璃材質(zhì)無不良影響。本品不含重金屬，亞硝酸鹽等RoHS禁止之物質(zhì)。本品應(yīng)儲于陰涼干燥的庫房內(nèi)，嚴(yán)禁日曬雨淋。本品無刺激性，如接觸皮膚，立即用大量清水沖洗15min，如不慎濺入眼中，立即用大量清水沖洗15min，嚴(yán)重者應(yīng)就醫(yī)。使用除膠劑可采用浸泡法和擦拭法進(jìn)行除膠，浸泡十分鐘~3小時后。取出工件，再用棉布或軟毛刷將粘膠剝離擦除即可。需要注意的是產(chǎn)品有揮發(fā)性，要用塑料桶盛裝，浸泡時蓋好蓋子。

硅晶圓經(jīng)過SC-1和SC-2溶液清洗后，由于雙氧水的強氧化力，在晶圓表面上會生成一層化學(xué)氧化層。為了確保閘極氧化層的品質(zhì)，此表面氧化層必須在晶圓清洗過后加以去除。另外，在IC制程中采用化學(xué)汽相沉積法(CVD)沉積的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相應(yīng)的清洗過程中有選擇的去除。化學(xué)清洗是利用各種化學(xué)試劑和有機溶劑去除附著在物體表面上的雜質(zhì)的方法。在半導(dǎo)體行業(yè)，化學(xué)清洗是指去除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料以及用具表面上的各種有害雜質(zhì)或油污的工藝過程。IC封裝藥水依使用運輸和儲存條件的不同，在1-3年內(nèi)可防止表面形成硫化物。

IC清潔劑流體與固體接觸時，不帶任何表面張力，因此能滲透到晶圓內(nèi)部較深的光刻位囂，因而可以剝離更小的顆粒。流體的粘度很低，可以去除掉晶圓表面的無用固體。采用超臨界流體清洗給組合元件圖案造成的損傷少并可以壓制對基板的侵蝕和不純物的消費。可對注入離子的光敏抗腐蝕劑掩模用無氧工藝進(jìn)行剝離。引進(jìn)超臨界流體清洗技術(shù)，清洗方法以不使用液體為主流，預(yù)計到2020年，可達(dá)到幾乎完全不使用液體的超臨界流體清洗或者針點清洗成為主要的清洗方法超臨界流體清洗的革新點在于可以解決現(xiàn)有清洗方法中的兩個弊端，即清洗時，損傷晶片、或組合元件和污染環(huán)境的問題。IC封裝藥水封閉劑：是通過化學(xué)品與金屬之間發(fā)生的一種物理反應(yīng)。無錫IC芯片清洗劑供應(yīng)

IC封裝藥水不影響鍍層的導(dǎo)電性、可焊性，保持鍍層外觀潔白光亮。無錫芯片制程藥劑現(xiàn)貨

IC除銹劑也稱為松銹劑，主要作用是松解生銹緊固件，潤滑不能拆卸的緊固件，便于拆卸生銹的緊固件。它能在裸露的金屬表面形成持久的防腐蝕保護(hù)，防止新的銹蝕形成。IC除銹劑也是理想的潤滑冷卻液，適用于不銹鋼、鋁板表面攻螺紋。還能有效清潔干燥電子設(shè)備，改善傳導(dǎo)性能。它可普遍應(yīng)用于制造業(yè)、建筑業(yè)、修理業(yè)、交通、能源、電力、石油及礦山開采等多種行業(yè)，適用于機械設(shè)備、車輛、船舶、軍械、五金工具、建筑模板、金屬零配件等的除銹。其優(yōu)越的性能會給您帶來意想不到的方便和實惠。無錫芯片制程藥劑現(xiàn)貨

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