HCFC類IC清潔劑及其清洗工藝特點：這是一種含氫的氟氯烴，其蒸發潛熱小、揮發性好，在大氣中容易分解，破壞臭氧層的作用比較小，屬于一種過渡性產品，規定在2040年以前淘汰，所以，我們不推薦使用該類清洗劑。其存在的問題主要有兩個：一是過渡性。因為對臭氧層還有破壞作用，只允許使用到2040年；二是價格比較高，清洗能力較弱，增加了清洗成本。氯代烴類的清洗工藝特點：氯代烴類如二氯甲烷、三氯乙烷等也屬于非ODS清洗劑。其清洗工藝特點是：清洗油脂類污物的能力特別強；像ODS清洗劑一樣，也可以用蒸氣洗和氣相干燥。IC封裝藥水可采用浸泡法和擦拭法進行除膠。南京IC芯片清洗劑供應企業

金屬的腐蝕生銹給社會發展造成了巨大的經濟損失，還給人們的日常生產生活帶來較大的不便和潛在的直接或間接性的環境污染，安全隱患。因此對金屬基材的防銹始終是人們關注的焦點。IC除銹劑的優點防銹的方法中比較簡單有效的就是使用IC除銹劑。IC除銹劑的優點在于超級高效的合成滲透劑，它能強力滲入鐵銹、腐蝕物、油污內從而輕松地除掉掉螺絲、螺拴上的銹跡和腐蝕物，具有滲透除銹、松動潤滑、防止腐蝕、保護金屬等性能。并可在部件表面上形成并貯存一層潤滑膜，可以防止濕氣及許多其它化學成份造成的腐蝕。江蘇IC除膠清洗劑供應IC封裝藥水防止金屬與腐蝕介質接觸。

IC封裝藥液清潔ACF用，對已上溫并硬化的TYPE上的MELAMINE，URETHANE都可以膨脹分離。特別是對HITACHI。SONY的ACF有良好的除去效果。去除能力強，并且效果好無揮發性，容易保存無刺激性氣味。半導體IC制程主要以20世紀50年代以后發明的四項基礎工藝(離子注入、擴散、外延生長及光刻)為基礎逐漸發展起來，由于集成電路內各元件及連線相當微細，因此制造過程中，如果遭到塵粒、金屬的污染，很容易造成晶片內電路功能的損壞，形成短路或斷路等，導致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。

IC除銹劑不傷害皮膚，長期接觸時，應采取適當的勞動保護措施(眼鏡、橡膠手套、勞動防護服、膠鞋)，確保操作員的安全。IC除銹劑不能接觸眼睛，如果意外接觸液體，必須立即用水沖洗或接受療養。請不要誤食IC除銹劑。IC除銹劑的使用方法：根據被除銹的材質不同，除銹時的要求不同，IC除銹劑的使用方法也不同，必須按照正確的使用要求，才能達到好的除銹效果。手動除銹法：將水和IC除銹劑按照2比1的比例進行調和，將IC除銹劑進行稀釋；用稀釋后的IC除銹劑對生有銹跡的表面進行清洗擦拭。IC封裝藥水牢固地吸附在金屬表面上的物理膜。

STM-C190變色防止劑，STM-C190可直接取代磷酸三鈉中和處理制程。配比濃度(5%-10%)，消耗很低。在錫表面沉積一層有機薄膜，可改善鍍層因儲存或熱處理（烘烤、Reflow）造成的外觀變色狀況。STM-C160除銹活化劑，單劑操作，配比濃度20-40%。適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy不含H2O2，藥液維護容易。微蝕均一性好，藥劑穩定性良好。STM-C150除銹活化劑單劑操作，配比濃度20-40%。適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy、Ni。不含H202，藥液維護容易。微蝕均一性好，藥劑穩定性良好。IC封裝藥水使金屬基本停止溶解形成鈍態達到防腐蝕的作用。IC除銹活化液供應公司

IC封裝藥水抗硫化性和耐候性能優越，5%硫化鉀測試可通過1-2小時。南京IC芯片清洗劑供應企業

IC除銹活化劑溶液，其特征在于：包含百分比含量為15-40%的硫酸，百分比含量為2-20%的鹽酸，百分比含量為5-25%的過一硫酸氫鉀，百分比含量為0。1-1%的脂肪醇聚氧乙烯醚，其余為水。本發明具有危害性較小，適用性較廣，除銹活化速度快的優點。性能優良：本品可快速去除金屬表面上的油、銹和非金屬表面上的油污，無氫脆和過腐蝕現象，并有防灰功能。本品對鐵離子容忍性大，使用壽命極長，并可循環添加使用。工藝簡單：除油去銹、活化同步進行，一步完成，只需綜合處理→水洗兩道工序。南京IC芯片清洗劑供應企業

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