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江蘇IC封裝表面處理液專業(yè)生產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-20

在執(zhí)行晶圓的前、后段工藝過程時(shí),晶圓需要經(jīng)過無數(shù)次的IC清潔劑清洗步驟,其次數(shù)取決于晶圓的設(shè)計(jì)和互連的層數(shù)。此外,由于清洗工藝過程要?jiǎng)冸x晶圓表面的光刻膠,同時(shí)還必須去除復(fù)雜的腐蝕殘余物質(zhì),金屬顆粒以及其他污染物等,所以清洗過程是及其復(fù)雜的過程。清洗介質(zhì)的選擇從濕法清洗的實(shí)踐中,越來越多出現(xiàn)難于解決的問題時(shí),迫使科技人員探索和尋找替代的技術(shù),除了如增加超聲頻率(采用MHz技術(shù))等補(bǔ)救方法之外,選擇的途徑就是選擇氣相清洗技術(shù)來替代(熱氧化法、等離子清洗法等)。IC封裝藥水能通過硫化氫和鹽霧測(cè)試48小時(shí)以上。江蘇IC封裝表面處理液專業(yè)生產(chǎn)廠家

STM-C190變色防止劑,STM-C190可直接取代磷酸三鈉中和處理制程。配比濃度(5%-10%),消耗很低。在錫表面沉積一層有機(jī)薄膜,可改善鍍層因儲(chǔ)存或熱處理(烘烤、Reflow)造成的外觀變色狀況。STM-C160除銹活化劑,單劑操作,配比濃度20-40%。適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy不含H2O2,藥液維護(hù)容易。微蝕均一性好,藥劑穩(wěn)定性良好。STM-C150除銹活化劑單劑操作,配比濃度20-40%。適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy、Ni。不含H202,藥液維護(hù)容易。微蝕均一性好,藥劑穩(wěn)定性良好。南京IC鍍錫藥劑哪里有銷售IC封裝藥水配比濃度(5%-10%),消耗很低。

IC封裝藥液為溶劑型,具有揮發(fā)性和對(duì)皮膚刺激性。為了避免吸入和接觸皮膚,操作時(shí)應(yīng)通風(fēng)和戴防護(hù)手套、口罩和眼鏡防護(hù)罩。使用時(shí)不慎接觸皮膚,應(yīng)立即用大量清水和肥皂清洗即可。如有不適請(qǐng)送醫(yī)。只供工業(yè)用途,使用者必須經(jīng)過培訓(xùn),并將此產(chǎn)品容器蓋緊存放清涼、干燥及通風(fēng)的地方。IC除銹劑采用多種高效能生物降解表面活性劑,并添加多種助劑、緩蝕劑科學(xué)配制而成。,能夠迅速除掉工件表面的各種油污,不腐蝕工件,并且具有短期防銹效果。也可用于大型設(shè)備的表面擦洗,具有低堿度、無腐蝕、操作簡(jiǎn)單、低溫使用,節(jié)約能源,使用壽命長等特點(diǎn)。

IC清潔劑對(duì)金屬不腐蝕,可蒸餾回收,反復(fù)使用,比較經(jīng)濟(jì);毒性較低,對(duì)環(huán)境污染少;清洗與漂洗可用同一種介質(zhì),使用方便。烴類清洗工藝的缺點(diǎn),主要的是安全性問題,要有嚴(yán)格的安全方法措施。醇類清洗工藝特點(diǎn):醇類中乙醇和異丙醇是工業(yè)中常用得有機(jī)極性溶劑,甲醇毒性較大,一般做添加劑。醇類清洗工藝特點(diǎn)是:對(duì)離子類污染物有很好的溶解能力,清洗松香焊劑效果非常好,對(duì)油脂類溶解能力較弱;與金屬材料和塑料等相容性好,不產(chǎn)生腐蝕和容脹;干燥快,容易晾干或送風(fēng)干燥,可不必使用熱風(fēng);脫水性好,常用做脫水劑。IC封裝藥水不含H202,藥液維護(hù)容易。

IC除銹劑除了除銹功能外,還具有防銹功能。是由強(qiáng)力IC除銹劑和高效緩蝕劑組成,在快速除銹的同時(shí),對(duì)工件的材質(zhì)不造成腐蝕,可作為鹽酸及硫酸的環(huán)保替代品。除銹效果迅速,可迅速除去金屬表面的銹斑。還能滲透溶解碳酸鹽等沉積物(如水垢),并將其它的不溶性物質(zhì)在反應(yīng)過程中分解脫落。沒有類似濃鹽酸的發(fā)煙現(xiàn)象和使用上的危險(xiǎn)。可迅速去除表面及零部件,精密金屬制品及零部件等上的銹斑。使用前搖勻,將噴嘴對(duì)準(zhǔn)需除銹的地方,對(duì)于難觸及區(qū)域使用隨罐所附細(xì)管,將細(xì)管裝在噴頭上。IC封裝藥水穩(wěn)定性好,防腐蝕性強(qiáng),保護(hù)效果好,金屬表面不褪色,從保護(hù)金屬元件的穩(wěn)定性。南京IC封裝藥水銷售

IC封裝藥水產(chǎn)品封閉處理后,表面為全干性,無油感。江蘇IC封裝表面處理液專業(yè)生產(chǎn)廠家

IC封裝藥液顆粒主要是一些聚合物、光致抗蝕劑和蝕刻雜質(zhì)等。通常顆粒粘附在硅表面,影響下一工序幾何特征的形成及電特性。根據(jù)顆粒與表面的粘附情況分析,其粘附力雖然表現(xiàn)出多樣化,但主要是范德瓦爾斯吸引力,所以對(duì)顆粒的去除方法主要以物理或化學(xué)的方法對(duì)顆粒進(jìn)行底切,逐漸減小顆粒與硅表面的接觸面積,終將其去除。有機(jī)物雜質(zhì)在IC制程中以多種形式存在,如人的皮膚油脂、凈化室空氣、機(jī)械油、硅樹脂真空脂、光致抗蝕劑、清洗溶劑等。每種污染物對(duì)IC制程都有不同程度的影響,通常在晶片表面形成有機(jī)物薄膜阻止清洗液到達(dá)晶片表面。江蘇IC封裝表面處理液專業(yè)生產(chǎn)廠家

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