IC封裝藥液在酸性、中性、堿性條件下均能溶解透明,且長期穩定。與磷酸酯類物質相比,本劑具有好于磷酸酯類物質”三倍以上的防腐蝕效果。“磷酸酯類物質”含磷,易生菌,容易產生大量泡沫。而本劑不含磷、不易生菌、無泡。對黑色金屬和其它有色金屬都有輔助的防腐蝕作用;無毒、無味等特點,不含有害物質,環保型水性產品﹔極低的添加量,綜合使用成本低;經本劑處理的工件,可保持金屬本色,不影響加工精度﹔能夠鎖住金屬表面顏色,穩定性好,防腐蝕性強,保護效果好,金屬表面不褪色,從保護金屬元件的穩定性。IC封裝藥水能通過硫化氫和鹽霧測試48小時以上。IC除膠清潔液生產基地
IC封裝藥液清潔ACF用,對已上溫并硬化的TYPE上的MELAMINE,URETHANE都可以膨脹分離。特別是對HITACHI。SONY的ACF有良好的除去效果。去除能力強,并且效果好無揮發性,容易保存無刺激性氣味。半導體IC制程主要以20世紀50年代以后發明的四項基礎工藝(離子注入、擴散、外延生長及光刻)為基礎逐漸發展起來,由于集成電路內各元件及連線相當微細,因此制造過程中,如果遭到塵粒、金屬的污染,很容易造成晶片內電路功能的損壞,形成短路或斷路等,導致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。江蘇IC除銹活化液多少錢IC封裝藥水保光、保色效果好,耐久,很好的耐候性,為耐黃變產品。
IC清潔劑作溶劑可作各種反應溶媒,潤滑劑稀釋劑等。特點:無色、無味、無毒、不燃燒,ODP值為零;表面張力低、黏度小、蒸發潛熱小。用途:特殊用途的溶劑、清洗劑、漂洗劑、無水流體、去焊劑和熱傳遞介質,主要用于電子儀表和激光盤片的清洗,顆粒雜物的去除,光學系統及精密場合下清洗。優點:由于性能接近CFCs,可使用原有清洗設備,不需要增加設備投資,也不需要對工藝做大的改變。一定環保,安全。使用范圍:電子元件側漏液,電子零部件(IC,LSI部件)或者電子裝置的氣密性測試。
傳統工藝一般需經過除油→水洗→除銹(強浸蝕)→水洗→活化(弱浸蝕)→水洗等六道工序。采用本品可簡化操作步驟,提高工效。IC除銹劑使用方便:本品在常溫下配置、使用,有利于節約能源、降低成本。半導體制程所用清洗液可大致分為兩類。一類是散裝化學試劑,如氫氟酸、硫酸、雙氧水以及氨水等;第二類是所謂功能性的藥液,就是在上述散裝化學試劑、水以及有機溶劑的基礎上,添加鰲合劑、表面活性劑等混合而成。其中,作為功能性的藥液的表示品種,從事聚合物剝離液和CMP(化學機械拋光)后清洗液生產的企業眾多,競爭異常激烈。IC封裝藥水可采用浸泡法和擦拭法進行除膠。
IC清潔劑不燃燒、不炸裂,使用安全;清洗劑可以蒸餾回收,反復使用,比較經濟;清洗工藝流程也與ODS清洗劑相同。烴類清洗工藝特點:烴類即碳氫化合物,過去把通過蒸餾原油而得的汽油、煤油作為清洗劑使用。烴類隨碳數的增加而閃點提高,增加了安全性,但是干燥性不好;干燥性好的,使用上又不太安全,故兩者十分矛盾。當然,作為清洗劑應盡量選用防火安全性好的、閃點比較高的清洗劑。其清洗工藝特點是:對油脂類污物清洗能力很強,洗凈能力持久性強,且表面張力低,對細縫、細孔部分清洗效果好。IC封裝藥水依使用運輸和儲存條件的不同,在1-3年內可防止表面形成硫化物。江蘇IC除銹活化液多少錢
IC封裝藥水可用水調節粘度,使用安全方便,經濟使用。IC除膠清潔液生產基地
處理之后的金屬工件表面附著了鈍化膜或者磷化膜(致密氧化層),厚度約為1微米、可防止工件被二次腐蝕,可以有效地切斷空氣和工件基體之間的接觸。加工的工件要使用單獨的擺放放置,以便干燥。除銹后的工件自然晾干或晾干。需要油漆的工件應在干燥后使用磷化液涂上表面,然后上油漆。IC除銹劑也有保護作用,因此為了獲得較佳效果,可以根據工作條件選擇系列(油溶、水溶、硬膜、脫水)好的IC除銹劑。使用一段時間后,要及時清理表面的泡沫和沉淀物,進行濃度測試分析,及時補充新的IC除銹劑,保證除銹效果。IC除膠清潔液生產基地
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