現代清洗技術中的關鍵要求：IC清潔劑在未來90~65nm節點技術工藝中，除了要考慮清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技術指標外，也要考慮對環境的污染以及清洗的效率其經濟效益等。硅片清洗技術評價的主要指標可以歸納為：微粗糙度（RMS)；自然氧化物去除率；金屬沾污、表面顆粒度以及有機物沾污，其他指標還包括：芯片的破損率；清洗中的再沾污；對環境的污染；經濟的可接受：包括設備與運行成本、清洗效率)等。金屬沾污在硅片上是以范德華引力、共價鍵以及電子轉移等三種表面形式存在的。這種沾污會破壞薄氧化層的完整性，增加漏電流密度，影響MOs器件的穩定性，重金屬離子會增加暗電流，情況為結構缺陷或霧狀缺陷。IC封裝藥水依使用運輸和儲存條件的不同，在1-3年內可防止表面形成硫化物。南京IC去膠清洗劑現貨

低固態含量助焊劑：免清洗技術具有簡化工藝流程、節省制造成本和污染少的優點。近十年來，免清洗焊接技術、免清洗焊劑和免清洗焊膏的普遍使用，是20世紀末電子產業的一大特點。取代CFCs的途徑是實現免清洗。PCB抄板之溶劑清洗技術，溶劑清洗主要是利用了溶劑的溶解力除去污染物。采用IC清潔劑清洗，由于其揮發快，溶解能力強，故對設備要求簡單。根據選用的清洗劑，可分為可燃性清洗劑和不可燃性清洗劑，前者主要包括有機烴類和醇類（如有機烴類、醇類、二醇酯類等），后者主要包括氯代烴和氟代烴類（如HCFC和HFC類）等。蘇州IC芯片清洗劑廠家供貨IC封裝藥水封閉劑：是通過化學品與金屬之間發生的一種物理反應。

IC清潔劑在諸多的清洗工序中，只要其中某一工序達不到要求，則將前功盡棄，導致整批芯片的報廢，所以可以毫不夸張地說，沒有有效的清洗技術，便沒有集成電路和超大規模集成電路的現在。傳統清洗技術主要使用酸、堿、雙氧水、甲苯、三氯乙烯、氟利昂等化學試劑，成本高，而且有毒，有腐蝕性，危害安全與健康并污染環境，特別是氟利昂等ODS物質研究破壞地球臭氧層，危及人類生態環境，是國際上限期禁止生產和使用的物質。多年來，國內外科學家就致力于研究無毒，無腐蝕性的清洗工藝，但尚未取得突破。

IC芯片生產是一個高科技、高投入和高回報的行業，芯片工藝生產中所運用的清洗液，尤其是后段制程的有機溶劑，價格昂貴，成分保密，被國外化學品大廠壟斷。IC清潔劑采用多種能生物降解表面活性劑，并添加多種助劑、緩蝕劑科學配制而成。，能夠迅速除掉工件表面的各種油污，不腐蝕工件，并且具有短期防銹效果。也可用于大型設備的表面擦洗，具有低堿度、無腐蝕、操作簡單、低溫使用，節約能源，使用壽命長等特點。使用方法：本脫脂劑可用擦洗或浸泡式對工件表面進行清洗處理，配制方法：（按1000L計算）1：將清水加到處理槽容量的9成。2：慢慢加入100-公斤IC-502，邊加邊攪拌。（油污較重可適量提供使用比例）3：加入余量的水到1000L，并攪拌均勻。IC封裝藥水經本劑處理的工件，可保持金屬本色，不影響加工精度。

IC清潔劑水清洗技術是今后清洗技術的發展方向，須設置純凈水源和排放水處理車間。IC清潔劑以水作為清洗介質，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑。可以除去水溶劑和非極性污染物。其清洗工藝特點是：安全性好，不燃燒、不炸裂，基本無毒；清洗劑的配方組成自由度大，對極性與非極性污染物都容易清洗掉，清洗范圍廣；多重的清洗機理。水是極性很強的極性溶劑，除了溶解作用外，還有皂化、乳化、置換、分散等共同作用，使用超聲比在有機溶劑中有效得多；作為一種天然溶劑，其價格比較低廉，來源普遍。IC封裝藥水經金防變色劑處理后的銀鍍層抗變色能力持久，經測試1-3年不變色、不生銹。IC除膠清潔供貨企業

IC封裝藥水銀封閉劑具有很強的耐硫化和耐鹽霧性。南京IC去膠清洗劑現貨

IC清潔劑不燃燒、不炸裂，使用安全；清洗劑可以蒸餾回收，反復使用，比較經濟；清洗工藝流程也與ODS清洗劑相同。烴類清洗工藝特點：烴類即碳氫化合物，過去把通過蒸餾原油而得的汽油、煤油作為清洗劑使用。烴類隨碳數的增加而閃點提高，增加了安全性，但是干燥性不好；干燥性好的，使用上又不太安全，故兩者十分矛盾。當然，作為清洗劑應盡量選用防火安全性好的、閃點比較高的清洗劑。其清洗工藝特點是：對油脂類污物清洗能力很強，洗凈能力持久性強，且表面張力低，對細縫、細孔部分清洗效果好。南京IC去膠清洗劑現貨

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