市場上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來表示。ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當溫度22℃,顯影時間為60秒時,PD型顯影液濃度對PS版性能的影響。當顯影液濃度過大時,往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制;特別是它對圖文基礎的腐蝕性增強,容易造成網點縮小、殘損、亮調小網點丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病;同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞,版面出現發白現象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結晶析出。當顯影液的濃度偏低時,堿性弱,顯影速度慢,易出現顯影不凈、版面起臟、暗調小白點糊死等現象。ITO顯影劑可以分為無機化合物和有機化合物兩大類。TIO顯影液供應信息
ITO酸性蝕刻液用途可用于多層印制板的內層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作;而堿性蝕刻液一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻。而總的來說,堿性與酸性蝕刻液用途要權衡對抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環境保護及經濟效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。ITO酸性蝕刻液的蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩定狀態下能達到高的蝕刻質量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染;而堿性蝕刻液的蝕刻速率快,側蝕小;溶銅能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續再生循環使用,成本低。上海ITO藥水ITO顯影液用于黑白膠片顯影的顯影液稱黑白顯影液。
影響ITO蝕刻液側蝕的因素很多,下面概述幾點:1)蝕刻方式:浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側蝕,潑濺和噴淋式蝕刻側蝕較小,尤以噴淋蝕刻效果較好。2)蝕刻液的種類:不同的蝕刻液化學組分不同,其蝕刻速率就不同,蝕刻系數也不同。例如:酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常為3,堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數可達到4。近來的研究表明,以硝酸為基礎的蝕刻系統可以做到幾乎沒有側蝕,達到蝕刻的線條側壁接近垂直。這種蝕刻系統正有待于開發。
ITO蝕刻液是通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體,是一種銅版畫雕刻用原料。從理論上講,凡能氧化鋼而生成可溶性銅鹽的試劑,都可以用來蝕刻敷銅箔板,但是ITO蝕刻液用途要權衡對抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環境保護及經濟效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。對于ITO蝕刻液用法的理解,我們可以用個比較通俗的說法,那就是使用具有腐蝕性的一些化學材料對某種物品進行腐蝕,將不需要的部分腐蝕掉,從而將其雕刻成所需要的目標物品的過程。那這個具有腐蝕性的化學材料,就稱為ITO蝕刻液了ITO顯影劑可以把玻璃變成液晶顯示器。
溫度對各種ITO蝕刻液速率的影響:1.堿性氯化銅蝕刻液。蝕刻速率與溫度有很大關系,蝕刻速率隨著溫度的升高而加快。蝕刻液溫度低于40℃,蝕刻速率很慢,而蝕刻速率過慢會增大側蝕量,影響蝕刻質量;溫度高于60℃,蝕刻速率明顯增大,但NH3的揮發量也很大程度增加,導致污染環境并使蝕刻液中化學組分比例失調。故溫度一般控制在45~55℃為宜。2.酸性氯化銅蝕刻液。隨著溫度的升高,蝕刻速率加快,但是溫度也不宜過高,一般控制在45~55℃范圍內。溫度太高會引起HCl過多地揮發,造成溶液組分比例失調。另外,如果蝕刻液溫度過高,某些抗蝕層會被損壞。ITO顯影液是銀鹽膠片顯影用的藥液。蘇州TIO清潔劑現貨供應
ITO顯影劑的黑白顯影是使曝光后產生的潛影鹵化銀顆粒還原成金屬銀影像。TIO顯影液供應信息
溫度對ITO酸性氯化銅蝕刻液速率的影響:隨著溫度的升高,蝕刻速率加快,但是溫度也不宜過高,一般控制在45~55℃范圍內。溫度太高會引起HCl過多地揮發,造成溶液組分比例失調。另外,如果蝕刻液溫度過高,某些抗蝕層會被損壞。溫度對ITO堿性氯化銅蝕刻液速率的影響:蝕刻速率與溫度有很大關系,蝕刻速率隨著溫度的升高而加快。蝕刻液溫度低于40℃,蝕刻速率很慢,而蝕刻速率過慢會增大側蝕量,影響蝕刻質量;溫度高于60℃,蝕刻速率明顯增大,但NH3的揮發量也很大程度增加,導致污染環境并使蝕刻液中化學組分比例失調。故溫度一般控制在45~55℃為宜。TIO顯影液供應信息
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