靶中毒現象：

正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。

靶中毒的物理解釋：

一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發生靶中毒時，濺射電壓會明顯降低。

金屬靶材與化合物靶材本來濺射速率就不一樣，一般情況下金屬的濺射系數要比化合物的濺射系數高，所以靶中毒后濺射速率低。（3）反應濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。 對材質的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右。上海高純金屬靶材調試

熔融鑄造法：

熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質元素含量盡可能低，通常其冶煉和澆注在真空或保護性氣氛下進行。但鑄造過程中，材料組織內部難免存在一定的孔隙率，這些孔隙會導致濺射過程中的微粒飛濺，從而影響濺射薄膜的質量。為此，需要后續熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。八．購買靶材的注意事項有哪些許多用戶在采購靶材時沒有從專業的角度去考慮，下面為大家指出購買靶材時需要注意的事項。

對于所有的金屬來說，純度是靶材的主要性能指標之一，靶材的純度對后期產品薄膜的性能影響很大。但是每一個產品對靶材的純度要求也有不相同的地方。 上海高純金屬靶材調試對于所有的金屬來說，純度是靶材的主要性能指標之一，靶材的純度對后期產品薄膜的性能影響很大。

磁控濺射制備非晶硅薄膜   本實驗采用石英玻璃為襯底，實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，濺射時間120 min，濺射氣壓2.0 Pa，襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊，其中各保留一小塊不做退火處理，其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導方法，研究非晶硅薄膜的晶化過程。

電解錳 片狀  99.7% 1-10mm 真空熔煉 Co-F3501 電解鈷 片狀 99.95% 1-10mm 真空熔煉 Co-I3504 電積鈷 塊狀 99.95% 40*40*5mm 真空熔煉 Co-G3533 鈷 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 W-G3536 m 真空熔煉 Ta-G3533 鉭 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Nb-G3533 鈮 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Mo-G3533 m 真空熔煉 Si-I5011 多晶硅 塊狀 99.999% 不規則塊狀 真空熔煉 In-G4501 銦 顆粒 99.995% 1-3mm 真空熔煉 Zr-I2402 海綿鋯 塊狀 99.4% 3-25mm 真空熔煉 Hf-I2402 海 m 真空熔煉 Ge-G5006 鍺 顆粒 99.999% 3-5mm 真空熔煉 La-I3011 鑭 塊狀 99.9% 不規則塊狀 真空熔煉 Er-I3011 鉺 塊狀 99.9% 不規則塊狀 真空熔煉 Dy-I3011 鏑 塊狀 99.9% 不規則塊狀 真空熔煉 W-P3504 鎢 粉末 99.95% 325目 粉末冶金 Al-P3504 &nbs 5目 粉末冶金 TiC-P2514 碳化鈦 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 HfC-P2514 碳化鉿 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 ZrB2-P2519 二硼化鋯 粉末 99.5% 10μm 粉末冶金 Ti-F2612 .2*L 耗材配件 Ta-F3513 鉭 0*0.2mm 耗材配件 Nb-F3513 *100*0.2mm 耗材配件 合金定制 流程：1.客戶提供需要的配比、塊材大小和用量要求；一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發生靶中毒時，濺射電壓會降低。

NCVM不導電膜是什么，它有哪些特點？ NCVM又稱不連續鍍膜技術或不導電電鍍技術，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術。真空電鍍，簡稱VM，是vacuum metallization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運用化學、物理等特定手段進行有機轉換，使金屬轉換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。真空不導電電鍍，又稱NCVM，是英文Non conductive vacuum metallization的縮寫。它的加工工藝高于普通真空電鍍，其加工制程比普通制程要復雜得多。 NCVM特點是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各相不連續之特性，得到外觀有金屬質感且不影響到無線通訊傳輸之效果。首先要實現不導電，滿足無線通訊產品的正常使用；其次要保證“金屬質感”這一重要的外觀要求；通過UV涂料與鍍膜層結合，保證產品的物性和耐候性，滿足客戶需求。需要后續熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。南通二元合金靶材綁定

導電膠：采用的導電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。上海高純金屬靶材調試

儀器儀表行業飛速發展一是因為我國的經濟高速穩定發展的運行;按照過去的經驗，如果GDP的增長在10%以上時，儀表行業的增長率則在26%～30%之間。二是因為我國宏觀調控對儀表行業的影響有一個滯后期，儀表往往在工程的后期才交付使用，因此，因宏觀調控政策而減少的收入對儀表行業的影響不會太大。在計算機和互聯網的急速發展到整個世界的背景下，儀器儀表也開始向網絡化突進，結合新的科技設備，通過廣域網和局域網直接操控儀器儀表，對公司的管理，經營一體化，應用模式的分析等各大方面產生影響。有限責任公司企業通過網絡這個平臺與客戶直接的交流，突破了世界和空間的限制，行家遠程操控對儀器儀表進行維護和分析。高科技的產品也隨之而來。工業領域轉型升級、提升發展質量等有利于儀器儀表行業的發展；**安全、社會安全、產業和信息安全等需要自主、磁控濺射靶材，蒸發材料，背板，靶材綁定裝備，成為全社會共識；隨著中國的不斷進步，世界上只有一個救世主——市場，能救企業的只有你自己——自強，提高生產型重點競爭力才是中國制造業的獨一出路。以顯微科學儀器行業的發展與變化為例，以親身的實踐為例，毛磊認為，隨著經濟的不斷發展，我國的環境和實力都發生了巨大變化，有了完全不同的基礎，這為國產科學儀器走向**增強了信心。上海高純金屬靶材調試

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。