背景技術：

濺射鍍膜屬于物相沉積方法制備薄膜的工藝之一，具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出，并沉積在基材或工件表面，從而形成薄膜。由于背板具有良好的導電導熱性能，且還可以起到固定支撐作用，因此，靶材在鍍膜前需與背板焊接在一起，然后共同裝配至濺射基臺。一般活性金屬靶材，例如鋁靶材，由于長期暴露在空氣中，靶材表面材料容易氧化形成一層氧化皮。在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞該氧化皮，導致靶材原子或分子難以逸出，因此在將靶材安裝至濺射基臺之前，需要對靶材表面進行拋光。此外，對于活性金屬靶材及非活性金屬靶材，拋光操作有利于改善靶材的濺射速率的穩定性，有助于提高濺射鍍膜質量。 陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。常州CrSi靶材功能

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設計和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據客戶的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達到真金的亮度。 4. 銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調整，可分冷色系列和暖色系列，冷色系列帶藍調，金屬光感好，暖色系列帶黃調，接近不銹鋼本色。 5. 黑色系列，一般是成份是金屬的碳化物，顏色深淺可以調整，色調根據客戶的要求也可以調整，不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調，可以根據客戶的需要選擇不同的膜系。 6. 藍色系列，有天空藍，冰藍色，海洋藍，深藍等等，不同色系成份也有所不一樣。常州CrSi靶材功能濺射靶材廣泛應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域。

PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金，單從她那浪漫的名字，就能引起人們無數美妙的聯想。在閃閃發光的黃金飾品與經典高雅的鉑金飾品之后，色調柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時尚人士的“新寵”，以她特有的風格與文化，演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75％的黃金與其它合金組成（俗稱三色金）。 硬度較純金高，與傳統的黃金和鉑金相比，粉紅色的玫瑰金不但能使有色寶石的色彩更加濃重，還體現了金屬材質的精致、細膩。其粉紅、玫瑰等暖色調給人們帶來溫暖與愉快；在款式上也是千姿百態，有心形、欖尖形、橢圓形、梨形、祖母綠形。各種風格迥異的飾品，可謂璀璨耀眼，女性無論是著職業裝，還是晚禮服及吊帶裙，與之相配都顯出高雅的氣質。 玫瑰金顏色近幾年在手表行業非常流行，很多品牌都采用PVD在不銹鋼表殼和表帶上沉積玫瑰金涂層的方式進行，行業內叫IP玫瑰金，其工藝已經非常成熟。玫瑰金鍍層一般有仿金層和玫瑰金層構成，底層的仿金層一般為TiCN，主要是增加玫瑰金的硬度和耐磨度。

本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.78mm；所述靶材表面的硬度為26hv；

其中，所述靶材的比較大厚度為22mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為4°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鈦；所述背板的材質包括鋁。

所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。

對比例1

與實施例1的區別*在于所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.5mm；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。

對比例2

與實施例1的區別*在于所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為8mm；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。 有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮。

靶材材質對靶濺射電壓的影響 ：

1. 在真空條件不變的條件下,不同材質與種類靶材對磁控靶的正常濺射電壓會產生一定的影響。

2. 常用的靶材(如銅Cu、鋁Al、鈦Ti?)的正常濺射電壓一般在400~600V的范圍內。

3. 有的難濺射的靶材(如錳Mn、鉻Cr等) 的濺射電壓比較高, 一般需>700V以上才能完成正常磁控濺射過程;而有的靶材(如氧化銦錫ITO) 的濺射電壓比較低，可以在200多伏電壓時實現正常的磁控濺射沉積鍍膜。

4. 實際鍍膜過程中，由于工作氣體壓力變化，或陰極與陽極間距偏小(使真空腔體內阻抗特性發生變化)，或真空腔體與磁控靶的機械尺寸不匹配，同時選用了輸出特性較軟的靶電源等原因，導致磁控靶的濺射電壓(即靶電源輸出電壓)遠低于正常濺射示值，則可能會出現靶前存雖然呈現出很亮的光圈，就是不能見到靶材離子相應顏色的泛光，以至不能濺射成膜的狀況。 靶面金屬化合物的形成。常州CrSi靶材功能

正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電，使陰極濺射無法進行下去。常州CrSi靶材功能

陰-陽極間距對靶濺射電壓的影響   真空氣體放電陰-陽極間距能夠對靶濺射電壓造成一定的影響。在陰-陽極間距偏大時，等效氣體放電的內阻主要由等離子體等效內阻決定，反之，在陰-陽極間距偏小時，將會導致等離子體放電的內阻呈現較小數值。由于在磁控靶點火起輝后進入正常濺射時，如果陰-陽極間距過小，由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負載特性，就有可能出現在濺射電流已達工藝設定值時，靶濺射電壓始終很低又調不起來的狀況。“工藝型”靶電源可以改善和彌補這種狀況;而“經濟型”靶電源對這種狀況無能為力。   1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽極間距   對稱雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運行時，建議其兩交變陰-陽極的小極間距不應小于2英2口寸;   2. 單磁控靶陰-陽極間距   靶電源帶單磁控靶運行時，一般都不存在這方面問題;但是，在小真空室帶長矩形平面磁控單靶時容易忽略這個問題，磁控靶面與真空室金屬殼體內壁的小極間距一般亦建議不小于2英2口寸。常州CrSi靶材功能

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。