真空鍍膜中靶材中毒會(huì)出現(xiàn)哪些想象,如何解決?
靶面金屬化合物的形成。
由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子,通常是放熱反應(yīng),反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑,否則,該化學(xué)反應(yīng)無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo),所以,化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。
靶中毒的影響因素:
影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過(guò)程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長(zhǎng)的過(guò)程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加,化合物生成率增加。如果反應(yīng)氣體量增加過(guò)度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時(shí)調(diào)整反應(yīng)氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到控制,濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋,當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候,靶完全中毒,在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應(yīng)。 靶材安裝及注意事項(xiàng)有哪些?無(wú)錫氧化鈷靶材貼合
磁控靶材面積與承載功率范圍 1、靶材面積與承載功率范圍 (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。 (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。 (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。 2、磁控靶實(shí)際承載功率 磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外,主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同,分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。 考慮到濺射靶長(zhǎng)期使用老化后,其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同,磁控靶的使用時(shí)的承載功率,直接水冷卻靶實(shí)際的承載大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實(shí)際承載大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。 磁控靶材(主要是Cu,Ag,黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時(shí),一般是選用經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其使用時(shí)的承載功率,均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。無(wú)錫氧化鈷靶材貼合靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái)。
所述把手510包括桿狀部511和第二桿狀部512,所述桿狀部511的一端連接所述頂板210,另一端連接所述第二桿狀部512。所述桿狀部511延伸方向與所述頂板210表面相垂直,所述第二桿狀部512延伸方向與所述頂板210表面相平行。所述把手510的結(jié)構(gòu)有利于操作人員牢固的抓握所述把手510,防止從所述把手510上滑脫。
在其他實(shí)施例中,所述固定板200內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀,所述防護(hù)層400彎折處呈弧狀,位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度均勻。
此外,與前一實(shí)施例不同的是,所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為一體成型。且所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330厚度相等。
陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點(diǎn) 陽(yáng)光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱,根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃,在普通的透明玻璃上通過(guò)磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍上一層或多層薄膜,在這里我們簡(jiǎn)稱(chēng)反射玻璃。 反射玻璃相對(duì)于普通透明玻璃而言,在太陽(yáng)能的反射性能上,反射玻璃一次的反射比普通玻璃高出4.3倍,第二次的反射高出3.1倍,總的反射就高出3.6倍了;在遮蔽系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃減少0.18,系數(shù)越少,遮光效果就會(huì)越好的,減少太陽(yáng)輻射和熱能的透射;在可見(jiàn)光的反射和透射上,反射玻璃比普通玻璃反射增加了20%~38%,透射減少了55%~70%,具有良好的遮光性能;在傳熱系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃降低了0.4W(m2.K),具有良好的隔熱性能。 利用其良好的遮光和隔熱性能,可以大降低在室內(nèi)制冷和保暖的花費(fèi),是一種非常好的節(jié)能產(chǎn)品,而且可以通過(guò)不同的金屬或金屬化合物為靶材,鍍制出不同顏色的反射膜,常見(jiàn)的顏色有茶色、灰色、金黃色、古銅色、褐色、珊瑚黃色,通過(guò)不同的配搭,達(dá)到裝飾的效果,即美觀又節(jié)能。此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。
在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征,在不矛盾的情況下,可以通過(guò)任何合適的方式進(jìn)行組合,為了避免不必要的重復(fù),本發(fā)明對(duì)各種可能的組合方式不再另行說(shuō)明。
此外,本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合,只要其不違背本發(fā)明的思想,其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開(kāi)的內(nèi)容。
本發(fā)明涉及靶材領(lǐng)域,具體涉及一種長(zhǎng)壽命靶材組件。
目前,現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經(jīng)到了一個(gè)極限,為提高靶材的使用壽命,節(jié)省多次更換靶材的重復(fù)性。現(xiàn)有的技術(shù)都是通過(guò)磁場(chǎng)強(qiáng)度,把靶材表面設(shè)計(jì)成曲面來(lái)延長(zhǎng)壽命,包括靶材本體及基體,所述基體的至少一面設(shè)有所述靶材本體,所述靶材本體是由高純度靶材合金粉末通過(guò)等離子弧噴涂機(jī)噴涂熔焊在所述基體上。所述基體與所述靶材本體的結(jié)合面為呈內(nèi)凹的圓弧面。所述基體為矩形體或圓形。所述靶材的制造方法步驟如下:(1)準(zhǔn)備合金粉體;(2)準(zhǔn)備基體;(3)等離子轉(zhuǎn)移弧噴涂成型;(4)、清理被噴涂層表面,按照步驟(3)的要求再次噴涂處理,直至獲得要求厚度的靶材。本發(fā)明有益效果在于:一是生產(chǎn)的靶材無(wú)氣孔殘留;二是生產(chǎn)設(shè)備簡(jiǎn)單、投資??;三是靶材可以修復(fù)再利用。 貴金屬靶材,一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧,二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料,建議墊一片銅片。無(wú)錫氧化鈷靶材貼合
如果反應(yīng)氣體量增加過(guò)度,化合物覆蓋面積增加。無(wú)錫氧化鈷靶材貼合
濺射鍍膜不良膜層分析,改善方法: 1.白霧主要表現(xiàn):膜層外觀一層白霧。 原因分析及改善:(白霧可擦拭):外層膜松散粗糙;出爐溫差大;潮氣吸附;膜層結(jié)構(gòu)不均勻;反應(yīng)氣體不足/不均勻;外層膜應(yīng)力大等。 (白霧不可擦拭):殘留臟污;材腐蝕污染;膜層之間不匹配;反應(yīng)氣體不足/不均勻;基材受潮污染;真空室臟有水汽;環(huán)境溫差大。 2.發(fā)蒙主要表現(xiàn):膜層表面粗糙無(wú)光。 原因分析及改善:設(shè)備漏氣;反應(yīng)氣體故障;膜層過(guò)厚;偏壓故障; 3.色斑主要表現(xiàn):局部膜色變異。 原因分析及改善:腐蝕,局部折射率改變;前道工程夾具加工方法痕跡(形狀規(guī)則、部位一致、界限分明); 周轉(zhuǎn)運(yùn)輸庫(kù)存過(guò)程留下痕跡;研磨拋光殘留;多層膜系中,部分膜層過(guò)??;機(jī)組微量返油。 4.打火 5.碰擦傷主要表現(xiàn):劃痕碰傷。 原因分析及改善:劃痕有膜層:鍍前碰擦傷;劃痕無(wú)膜層(漏基材):鍍后碰擦傷。無(wú)錫氧化鈷靶材貼合
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類(lèi)靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶(hù)要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車(chē)玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類(lèi)機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶(hù)的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶(hù)的需求為導(dǎo)向,客戶(hù)的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。