干涉法和分光光度法都是基于相干光形成等厚干涉條紋的原理來確定薄膜厚度和折射率。不同于薄膜自發產生的等傾干涉，干涉法是通過設置參考光路來形成參考平面和測量平面間干涉條紋，因此其相位信息包含兩個部分，分別是由掃描高度引起的附加相位和由薄膜內部多次反射引起的膜厚相位。干涉法的測量光路使用面陣CCD接收參考平面和測量平面間相干波面的干涉光強分布。與以上三種點測量方式不同，干涉法能夠一次性生成薄膜待測區域的表面形貌信息，但因存在大量軸向掃描和數據解算，完成單次測量的時間相對較長。白光干涉膜厚儀是一種可用于測量透明和平行表面薄膜厚度的儀器。納米級膜厚儀原理

在納米級薄膜的各項相關參數中，薄膜材料的厚度是薄膜設計和制備過程中重要的參量之一，具有決定薄膜性質和性能的基本作用。然而，由于其極小尺寸及突出的表面效應，使得對納米級薄膜的厚度準確測量變得困難。經過眾多科研技術人員的探索和研究，新的薄膜厚度測量理論和測量技術不斷涌現，測量方法從手動到自動、有損到無損不斷得到實現。對于不同性質薄膜，其適用的厚度測量方案也不相同。針對納米級薄膜，應用光學原理的測量技術。相比其他方法，光學測量方法具有精度高、速度快、無損測量等優勢，成為主要檢測手段。其中代表性的測量方法有橢圓偏振法、干涉法、光譜法、棱鏡耦合法等。品牌膜厚儀價格走勢白光干涉膜厚測量技術可以實現對薄膜表面形貌的測量。

在白光干涉中，當光程差為零時，會出現零級干涉條紋。隨著光程差的增加，光源譜寬范圍內的每條譜線形成的干涉條紋之間會發生偏移，疊加后整體效果導致條紋對比度降低。白光干涉原理的測量系統精度高，可以進行測量。采用白光干涉原理的測量系統具有抗干擾能力強、動態范圍大、快速檢測和結構簡單緊湊等優點。雖然普通的激光干涉與白光干涉有所區別，但它們也具有許多共同之處。我們可以將白光看作一系列理想的單色光在時域上的相干疊加，而在頻域上觀察到的就是不同波長對應的干涉光強變化曲線。

常用白光垂直掃描干涉系統的原理：入射的白光光束通過半反半透鏡進入到顯微干涉物鏡后，被分光鏡分成兩部分，一個部分入射到固定參考鏡，一部分入射到樣品表面，當參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后，再次匯聚發生干涉，干涉光通過透鏡后，利用電荷耦合器(CCD)可探測整個視場內雙白光光束的干涉圖像。利用Z向精密位移臺帶動干涉鏡頭或樣品臺Z向掃描，可獲得一系列干涉圖像。根據干涉圖像序列中對應點的光強隨光程差變化曲線，可得該點的Z向相對位移；然后，由CCD圖像中每個像素點光強最大值對應的Z向位置獲得被測樣品表面的三維形貌。總的來說，白光干涉膜厚儀是一種應用很廣的測量薄膜厚度的儀器。

可以使用光譜分析方法來確定靶丸折射率和厚度。極值法和包絡法、全光譜擬合法是通過分析膜的反射或透射光譜曲線來計算膜厚度和折射率的方法。極值法測量膜厚度是根據薄膜反射或透射光譜曲線上的波峰的位置來計算的。對于弱色散介質，折射率為恒定值，通過極大值點的位置可求得膜的光學厚度，若已知膜折射率即可求解膜的厚度；對于強色散介質，首先利用極值點求出膜厚度的初始值，然后利用色散模型計算折射率與入射波長的對應關系，通過擬合得到色散模型的系數，即可解出任意入射波長下的折射率。常用的色散模型有cauchy模型、Selimeier模型、Lorenz模型等。白光干涉膜厚測量技術可以通過對干涉圖像的分析實現對薄膜的表面和內部結構的聯合測量和分析。微米級膜厚儀設備

白光干涉膜厚儀需要進行校準和選擇合適的標準樣品，以保證測量結果的準確性。納米級膜厚儀原理

薄膜是一種特殊的二維材料，由分子、原子或離子沉積在基底表面形成。近年來，隨著材料科學和鍍膜技術的不斷發展，厚度在納米量級（幾納米到幾百納米范圍內）的薄膜研究和應用迅速增加。與體材料相比，納米薄膜的尺寸很小，表面積與體積的比值增大，因而表面效應所表現出來的性質非常突出，對于光學性質和電學性質等具有許多獨特的表現。納米薄膜在傳統光學領域中的應用越來越廣，尤其是在光通訊、光學測量、傳感、微電子器件、醫學工程等領域有更為廣闊的應用前景。納米級膜厚儀原理