在點膠工藝中，生成的膠水小球目前只能通過視覺系統進行檢驗。然而，在生產中需要保證點膠路線是連續和穩定的，為此，可以利用色散共焦測量傳感器系統控制許多質檢標準中的很多參數。膠水小球必須放置在其他結構的正中間，異常的材料聚集以及連續性斷裂都可以通過該系統檢測。在3C領域，對于精密點膠的要求越來越高，需要實時檢測膠水高度來實現閉環控制。傳統激光傳感器無法準確測量復雜膠水輪廓的高度，但是色散共焦測量傳感器具有可適用于各種膠水輪廓高度測量的測量角度，特別是在圓孔膠高檢測方面具有優勢。因此目前業界通用做法是采用超大角度光譜共焦傳感器，白光是復合光，總會有光線可以反射回來，加大了光線反射夾角(45°)，可以完美測量白色透明點膠的輪廓。光譜共焦位移傳感器可以實現對材料的微小變形進行精確測量，對于研究材料的性能具有重要意義；高速光譜共焦廠家直銷價格

光譜共焦傳感器是一種新型高精度傳感器，其測量精度可達到0.02%。相比于光柵尺、容柵、電感式變壓器偏移傳感器等傳感器，它在偏移測量方面具有更加明顯的優勢。由于它的高精度特性，光譜共焦傳感器在幾何量高精度測量方面得到了廣泛應用，如漫反射光和平面反射面的偏移測量、平整度測量、塑料薄膜和透明材料薄厚測量、外表粗糙度測量等。在偏移測量方面，光譜共焦傳感器的主要功能就是測量偏移。研究人員對光譜共焦傳感器的散射目鏡進行了分析，并制定了相應的構造來提高其各項特性；也有研究人員利用光譜共焦傳感器對飛機發動機電機轉子葉片空隙進行了高精度和高效率的測量。在平整度測量方面，研究人員分析了光譜共焦傳感器的檢測誤差，并對平面圖檢測誤差展開了科學研究。通過利用光譜共焦傳感器對圓平晶的平整度展開測量，他們獲得了平面圖檢測誤差的數值。防水型光譜共焦廠家現貨光譜共焦技術在材料科學領域可以用于材料表面和內部的成像和分析；

隨著精密儀器制造業的發展，人們對于工業生產測量的要求越來越高，希望能夠生產出具有精度高、適應性強、實時無損檢測等特性的位移傳感器，光譜共焦位移傳感器的出現，使問題得到了解決，它是一種非接觸式光電位移傳感器，測量精度可達亞微米級甚至于更高，對背景光，環境光源等雜光的抗干擾能力強，適應性強，且其在體積方面具有小型化的特點，因此應用前景十分大量。光學色散鏡頭是光譜共焦位移傳感器的重要組成部分之一，鏡頭組性能參數對位移傳感器的測量精度與分辨率起著決定性的作用。

高精度光譜共焦位移傳感器具有非常高的測量精度。它能夠實現納米級的位移測量，對于晶圓表面微小變化的檢測具有極大的優勢。在半導體行業中，晶圓的表面質量對于芯片的制造具有至關重要的影響，因此需要一種能夠jing'q精確測量晶圓表面位移的傳感器來保證芯片的質量。其次，高精度光譜共焦位移傳感器具有較高的測量速度。它能夠迅速地對晶圓表面進行掃描和測量，極大地提高了生產效率。在晶圓制造過程中，時間就是金錢，因此能夠準確地測量晶圓表面位移對于生產效率的提高具有重要意義。另外，高精度光譜共焦位移傳感器具有較強的抗干擾能力。它能夠在復雜的環境下進行穩定的測量，不受外界干擾的影響。在半導體制造廠房中，存在各種各樣的干擾源，如電磁干擾、光學干擾等，而高精度光譜共焦位移傳感器能夠抵御這些干擾，保證測量的準確性和穩定性。光譜共焦技術的發展將促進相關產業的發展；

光譜共焦測量原理是使用多透鏡光學系統將多色白光聚焦到目標表面上。透鏡的排列方式是通過控制色差（像差）將白光分散成單色光。每個波長都有一定的偏差（特定距離）進行工廠校準。只有精確聚焦在目標表面或材料上的波長才能用于測量。通過共焦孔徑反射到目標表面的光會被光譜儀檢測并處理。漫反射表面和鏡面反射表面都可以使用光譜共焦原理進行測量。共焦測量提供納米級分辨率，并且幾乎與目標材料分開運行。傳感器的測量范圍內有一個非常小的、恒定的光斑尺寸。微型徑向和軸向共焦版本可用于測量鉆孔或鉆孔內壁的表面，以及測量窄孔、小間隙和空腔。光譜共焦位移傳感器是一種基于光譜分析的高精度位移測量技術，可實現亞納米級別的位移測量。防水型光譜共焦廠家現貨

光譜共焦技術具有軸向按層分析功能，精度可以達到納米級別；高速光譜共焦廠家直銷價格

在硅片柵線的厚度測量過程中，創視智能TS-C系列光譜共焦傳感器和CCS控制器被使用。TS-C系列光譜共焦位移傳感器具有0.025 μm的重復精度，±0.02%的線性精度，10kHz的測量速度和±60°的測量角度。它適用于鏡面、透明、半透明、膜層、金屬粗糙面和多層玻璃等材料表面，支持485、USB、以太網和模擬量數據傳輸接口。在測量太陽能光伏板硅片柵線厚度時，使用單探頭在二維運動平臺上進行掃描測量。柵線厚度可通過柵線高度與基底高度之差獲得，通過將需要掃描測量的硅片標記三個區域并使用光譜共焦C1200單探頭單側測量來完成測量。由于柵線不是平整面，并且有一定的曲率，因此對于測量區域的選擇具有較大的隨機性影響。高速光譜共焦廠家直銷價格