光譜共焦測量原理是使用多透鏡光學系統將多色白光聚焦到目標表面上。透鏡的排列方式是通過控制色差（像差）將白光分散成單色光。每個波長都有一定的偏差（特定距離）進行工廠校準。只有精確聚焦在目標表面或材料上的波長才能用于測量。通過共焦孔徑反射到目標表面的光會被光譜儀檢測并處理。漫反射表面和鏡面反射表面都可以使用光譜共焦原理進行測量。共焦測量提供納米級分辨率，并且幾乎與目標材料分開運行。傳感器的測量范圍內有一個非常小的、恒定的光斑尺寸。微型徑向和軸向共焦版本可用于測量鉆孔或鉆孔內壁的表面，以及測量窄孔、小間隙和空腔。光譜共焦技術的研究對于相關行業的發展具有重要意義；非接觸式光譜共焦主要功能與優勢

光譜共焦傳感器在數碼相機中的應用包括相位測距，可大幅提高相機的對焦精度和成像質量，并通過檢測相機的微小振動，實現圖像的防抖和抗震功能。同時，光譜共焦傳感器還可用于計算機硬盤的位移和振動測量，從而實現對硬盤存儲數據的穩定性和可靠性的實時監控。在硬盤的生產過程中，光譜共焦傳感器也可用于進行各種機械結構件的位移、振動和形變測試。在3C電子行業中，光譜共焦傳感器的應用領域非常廣，可用于各種管控和檢測環節，在實現高精度和高可靠性的測量和檢測方面發揮著重要作用。國產光譜共焦大概價格多少光譜共焦技術可以實現對樣品的三維成像和分析；

為了滿足全天候觀察的需求,設計了波段范圍為可見光-短波紅外寬光譜共焦光學成像系統。根據寬光譜共焦原理以及光學被動式無熱化原理，設計了一個波段范圍為0.4μm~2.5μm、焦距數為50 mm，F數為2.8的光學成像系統，該系統在可見光波段在奈奎斯特頻率為30 lp/mm時傳函值高于0.7，紅外波段在奈奎斯特頻率為30 lp/mm時傳函值高于0.5，探測器選用為15μm×15μm、像元數為640 pixel×512 pixel碲鎘汞探測器。該寬光譜共焦型光學系統均采用普通玻璃材料以及易加工的球面透鏡,在溫度范圍-40℃~+60℃內對光學系統消熱差,實現了無需調焦即可滿足晝夜觀察的使用需求,可廣泛應用于安防監控、森林防火等領域。

在硅片柵線的厚度測量過程中，創視智能TS-C系列光譜共焦傳感器和CCS控制器被使用。TS-C系列光譜共焦位移傳感器具有0.025 μm的重復精度，±0.02%的線性精度，10kHz的測量速度和±60°的測量角度。它適用于鏡面、透明、半透明、膜層、金屬粗糙面和多層玻璃等材料表面，支持485、USB、以太網和模擬量數據傳輸接口。在測量太陽能光伏板硅片柵線厚度時，使用單探頭在二維運動平臺上進行掃描測量。柵線厚度可通過柵線高度與基底高度之差獲得，通過將需要掃描測量的硅片標記三個區域并使用光譜共焦C1200單探頭單側測量來完成測量。由于柵線不是平整面，并且有一定的曲率，因此對于測量區域的選擇具有較大的隨機性影響。光譜共焦技術在材料科學領域可以用于材料表面和內部的成像和分析；

光譜共焦測量技術是共焦原理和編碼技術的融合。一個完整的相對高度范疇能夠通過使用白光燈燈源照明燈具和光譜儀完成精確測量。光譜共焦位移傳感器的精確測量原理如下圖1所顯示，燈源發出光經過光纖，再通過超色差鏡片，超色差鏡片能夠聚焦在直線光軸上，產生一系列可見光聚焦點。這種可見光聚焦點是連續的，不重合的。當待測物放置檢測范圍內時，只有一種光波長能夠聚焦在待測物表層并反射面，依據激光光路的可逆回到光譜儀，產生波峰焊。全部別的波長也將失去焦點。運用單頻干涉儀的校準信息計算待測物體的部位，創建光譜峰處波長偏移的編號。該超色差鏡片通過提升，具備比較大的縱向色差，用以在徑向分離出來電子光學信號的光譜成份。因而，超色差鏡片是傳感器關鍵部件，其設計方案十分重要。它通過對物體表面反射光的光譜分析，實現對物體表面位移變化的測量。防水型光譜共焦常用解決方案

光譜共焦技術在醫學、材料科學、環境監測等領域有著廣泛的應用；非接觸式光譜共焦主要功能與優勢

客戶一直使用安裝在潔凈室的激光測量設備來檢查對齊情況，每個組件大約需要十分鐘才能完成必要的對齊檢查，耗時太久。因此，客戶要求我們開發一種特殊用途的測試和組裝機器，以減少校準檢查所需的時間。現在，我們使用機器人搬運系統將閥門、閥瓣和銷組件轉移到專門的自動裝配機中。為了避免由于移動機器人的振動引起的任何測量干擾，我們將光譜共焦位移傳感器安裝在單獨的框架和支架上，盡管仍然靠近要測量的部件。該機器現已經通過測試和驗證。非接觸式光譜共焦主要功能與優勢