本文通過對比測試方法，考核了基于白光共焦光譜技術的靶丸外表面輪廓測量精度。圖5(a)比較了原子力顯微鏡輪廓儀和白光共焦光譜輪廓儀測量曲線，二者低階輪廓整體相似性高，但在靶丸赤道附近的高頻段輪廓測量上存在一定的偏差。此外，白光共焦光譜的信噪比也相對較低，只適合測量靶丸表面低階的輪廓誤差。圖5(b)比較了原子力顯微鏡輪廓儀測量數據和白光共焦光譜輪廓儀測量數據的功率譜曲線，發現兩種方法在模數低于100的功率譜范圍內測量結果一致性較好，但當模數大于100時，白光共焦光譜的測量數據大于原子力顯微鏡的測量數據，這反映了白光共焦光譜儀在高頻段測量數據信噪比相對較差的特點。由于共焦光譜檢測數據受多種因素影響，高頻隨機噪聲可達100nm左右。光譜共焦技術可以測量位移，利用返回光譜的峰值波長位置；高頻光譜共焦市場

共焦位移傳感器是利用共焦原理和軸向色像差現象對測量對象的位移進行測量的光學測量裝置，共焦原理是指將從形成光源的像的成像面上接收到的光以縮小光圈的方式形成為反射光，軸向色像差現象是在光源的像中發生光軸方向上的顏色漂移的現象。共焦位移傳感器由作為點光源的使從光源出射的光出射的銷孔、在經由銷孔出射的檢測光中引起軸向色像差并朝向測量對象會聚該檢測光的光學構件、以及使來自測量對象的反射光光譜分散并產生受光信號的分光器構成。作為檢測光，使用具有多個波長的光。在經由光學構件照射到測量對象的檢測光中，銷孔允許具有在聚焦于測量對象的同時被反射的波長的檢測光穿過。根據軸向色像差,各波長的成像面的位置不同。因此，通過使穿過銷孔的檢測光的波長特定來計算測量對象的位移。高精度光譜共焦答疑解惑國內外已經有很多光譜共焦技術的研究成果發表；

在共焦位移傳感器中，能夠使在頭單元與控制裝置之間傳送投光用的光的光纖的端面具有共焦光學系統的銷孔的功能。由于使用受光波形和位移的測量值來控制顯示部的顯示，所以在設置頭單元時，能夠根據顯示部的顯示來容易地辨識頭單元是否被適當地設置。由于在控制裝置側控制顯示部的顯示，所以能夠防止頭單元的構造復雜化。此外，由于使用控制裝置的操作狀態來控制顯示部的顯示，所以能夠在頭單元的設置位置附近容易地辨識控制裝置是否正常操作。

硅片柵線的厚度測量方法我們還用創視智能TS-C系列光譜共焦傳感器和CCS控制器，TS-C系列光譜共焦位移傳感器能夠實現0.025 μm的重復精度，±0.02% of F.S.的線性精度，10kHz的測量速度，以及±60°的測量角度，能夠適應鏡面、透明、半透明、膜層、金屬粗糙面、多層玻璃等材料表面，支持485、USB、以太網、模擬量的數據傳輸接口。我們主要測量太陽能光伏板硅片刪線的厚度，所以這次用單探頭在二維運動平臺上進行掃描測量。柵線測量方法：首先我們將需要掃描測量的硅片選擇三個區域進行標記如圖1，用光譜共焦C1200單探頭單側測量，柵線厚度是柵線高度-基底的高度差。二維運動平臺掃描測量（由于柵線不是一個平整面，自身有一定的曲率，對測量區域的選擇隨機性影響較大）。該傳感器具有高精度、高靈敏度、高穩定性等特點，適用于微納尺度的位移變化測量。

在精密幾何量計量測試中，光譜共焦技術是非常重要的應用，可以提高測量效率和精度。在使用光譜共焦技術進行測量之前，需要對其原理進行分析，并對應用的傳感器進行綜合應用，以獲得更準確的測量數據。光譜共焦位移傳感器的工作原理是使用寬譜光源照射被測物體表面，然后通過光譜儀檢測反射回來的光譜。未來，光譜共焦技術將繼續發展，為更多領域帶來創新和改進。通過不斷的研究和應用，我們可以期待看到更多令人振奮的成果，使光譜共焦技術成為科學和工程領域不可或缺的一部分，為測量和測試提供更多可能性。光譜共焦技術在電子制造領域可以用于電子元件的精度檢測和測量；國產光譜共焦產品基本性能要求

光譜共焦位移傳感器可以用于結構的振動、變形和位移等參數的測量。高頻光譜共焦市場

光譜共焦是一種綜合了光學成像和光譜分析技術的高精度位移傳感器，在3C電子行業中應用極為大量。光譜共焦傳感器可以用于智能手機內線性馬達的位移測量，通過實時監控和控制線性馬達的位移，可大幅提高智能手機的定位功能和相機的成像精度。也能測量手機屏的曲面角度、厚度等。平板電腦內各種移動結構部件的位移和振動檢測是平板電腦生產過程中非常重要的環節。光譜共焦傳感器可以通過對平板電腦內的各種移動機構、控制元件進行精密位移、振動、形變和應力等參數的測量，從而實現對其制造精度和運行狀態的實時監控。高頻光譜共焦市場