濕法設備Topcon工藝，拋清洗設備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環運動控制系統，保證輸送機構運動平穩性。l拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風機+高效過濾器的方式，l鏈式去BSG+槽式堿拋設備，設備產能大，穩定性好。l進口PLC控制，穩步提升設備的產能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離，匹配高效電池發展趨勢。l可配套無金屬化制程設備，提高設備潔凈度。l工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差＜±1℃。濕法還可以用于能源領域，例如濕法脫硫技術可以減少燃煤電廠的二氧化硫排放。北京工業濕法去PSG

濕法設備Topcon工藝，拋清洗設備，功能是去除背面BSG和拋光處理。閉環運動控制系統，保證輸送機構運動平穩性。拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理。烘干槽：采用高壓風機+高效過濾器的方式，l鏈式去BSG+槽式堿拋設備，設備產能大，穩定性好。進口PLC控制，穩步提升設備的產能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離，匹配高效電池發展趨勢。l可配套無金屬化制程設備，提高設備潔凈度。工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差＜±1℃。成都大產能濕法制絨濕法制絨設備（Topcon工藝）工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，能將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻。

濕法設備包括濕法制絨設備（Perc 工藝）、制絨設備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設備（Topcon工藝）、濕法制絨設備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設備（XBC工藝）、制絨清洗設備（XBC工藝）等；釜川生產制造的濕法設備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設備結構、功能、產能和安全性等方面進行了升級。其作用是對太陽能電池用硅片進行清洗制絨處理，從而提升電池的質量和效率。

濕法設備包括濕法制絨設備（Perc 工藝）、制絨設備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設備（Topcon工藝）、濕法制絨設備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設備（XBC工藝）、制絨清洗設備（XBC工藝）等設備；釜川生產制造的濕法設備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設備結構、功能、產能和安全性等方面進行了升級。其作用是對太陽能電池用硅片進行清洗制絨處理，從而提升電池的質量和效率。濕法還可以用于紡織工業中的染色和整理等工藝。

濕法是一種常用的化學反應方法，用于合成或轉化化合物。它通常涉及將固體或氣體反應物與液體溶劑或溶液中的溶質反應。濕法反應機理可以因反應類型和反應物而異，但一般可以歸納為以下幾個步驟：1.溶解：反應物在溶劑中溶解，形成溶液。這一步驟可以通過物理吸附、化學吸附或溶解度平衡來實現。2.離子化：如果反應物是離子化合物，它們會在溶液中解離成離子。這是濕法反應中常見的步驟，其中溶劑的極性和離子間相互作用起著重要作用。3.反應：反應物的離子或分子在溶液中發生化學反應。這可能涉及離子間的交換、配位鍵的形成或斷裂、氧化還原反應等。4.沉淀或析出：在反應中，產生的產物可能會形成沉淀或析出物。這是由于反應物濃度的變化、溶劑揮發或溶液中其他物質的存在。5.分離和純化：除此之外，反應產物需要通過分離和純化步驟從溶液中提取出來。這可以通過過濾、結晶、蒸餾等技術來實現。電池濕法背拋清洗設備（Topcon工藝）鏈式去BSG+槽式堿拋設備，設備產能大，穩定性好；成都大產能濕法制絨

電池濕法設備在生產過程中采用先進的控制系統，實現生產線的自動化和智能化控制，提高產品質量和穩定性。北京工業濕法去PSG

晶片濕法設備保證晶片的清潔度主要依靠以下幾個方面：1.清洗液的選擇：選擇適合的清洗液對于保證晶片的清潔度至關重要。清洗液應具有良好的溶解性和去除能力，能夠有效去除晶片表面的雜質和污染物。2.清洗工藝參數的控制：在清洗過程中，需要控制清洗液的溫度、濃度、流速和清洗時間等參數。合理的參數設置可以提高清洗效果，確保晶片表面的徹底清潔。3.設備的維護和保養：定期對清洗設備進行維護和保養，保證設備的正常運行和清洗效果的穩定性。包括清洗槽的清洗、更換濾芯、檢查管路等。4.操作人員的培訓和操作規范：操作人員需要接受專業的培訓，了解清洗設備的操作規范和注意事項。正確的操作方法和操作流程可以更大程度地保證晶片的清潔度。5.環境的控制：保持清洗環境的潔凈度，防止灰塵和其他污染物進入清洗設備。可以采取空氣凈化、靜電消除等措施，確保清洗環境的潔凈度。北京工業濕法去PSG