電子行業超純水設備特點目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。電子行業超純水設備中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素。這種級別的超純水是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設備的方法通常采用反滲透，去離子或電滲析(EDI)等工藝進行制備。污泥中硝酸鹽含量高，對生物除磷有一定的不利影響。江蘇光電行業超純水設備耗材

傳統的超純水設備是電滲析、離子交換器(陽床、陰床、復床、混床)。新型半導體超純水設備是EDI(連續電除鹽技術)設備，可以有效的去除水中幾乎全部的陰陽離子，出水電阻率可穩定在15MΩ.CM以上，連續運行、無化學污染、水的利用率高，在純水設備工藝上有著強大的優勢廣闊的應用前景。EDI+反滲透設備適合于工業高純水，醫用超純水，電子反滲透純水系統,電子工業用超純水系統,電鍍工業用超純水系統,實驗室用超純水,食品飲料用超純水,生物工程超純水,制造業用超純水。黑龍江樹脂純水設備制造純凈水全套生產設備,專致反滲透水處理,淡化水處理**,中水回,多年研發生產銷售經驗。

在晶體管和集成電路的半導體行業生產中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于制備藥液、硅氧化的水蒸氣源、一些設備的冷卻水、制備電鍍液等。集成電路生產中80%的工序都需要用高純水來清洗硅片，水質的好壞與集成電路產品的質量和生產量有很大關系。在電子元器件的生產中，超純水主要用于清洗水和用于配制各種溶液、漿液，不同的電子元器件在生產中對純水和水質的要求是不同的。半導體純水設備主要由預處理、反滲透、EDI模塊和后處理裝置組成，可以有效去除原水中的懸浮物、膠體、細菌、金屬離子等雜質，出水電阻率可以達到18兆歐以上，完全滿足半導體行業用水需求。

純化水：為飲用水經蒸餾法、離子交換法、反滲透法或其他適宜的方法制得的制藥用水。不含任何添加劑，其質量應符合純化水項下的規定。上述定義，綠禾盛環保認為這決定了純化水制備的幾個方面的內容。***個是，用于制取純化水的原水必須是飲用水；第二個，純化水的制備工藝應在蒸餾法、離子交換法、反滲透法范圍內，且不含任何添加劑。第三，制取的純化水還應符合純化水項下的規定。純化水的用途，即應用范圍：非無菌藥品的配料、直接接觸藥品的設備、器具和包裝材料***一次洗滌用水、非無菌原料藥精制工藝用水、制備注射用水的水源、直接接觸非**終滅菌棉織品的包裝材料粗洗用水等。2、為便于拆裝、更換、清洗零件，執行機構的設計盡量采用的標準化、通用化、系統化零部件。

三種醫療器械純化水設備工藝比較三種醫療器械純化水設備基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下：1、第一種采用離子交換樹脂其優點在于初投資少，占用的地方小，但缺點就是需要經常進行離子再生，再生時間較長，影響后段生產工序的用水，且再生耗費大量酸堿，對環境有一定的破壞。2、第二種采用二級反滲透處理工藝，其特點為投資成本較采用離子交換高，出水水質穩定，水質能夠滿足中國藥典和歐洲藥典要求，但出水水質不能滿足美國藥典要求。3、第三種采用二級反滲透+EDI處理工藝，其特點為出水水質穩定，水質能夠滿足各國藥典對于純化水的要求。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。2、用低壓、低流量合格預處理出水趕走膜元件內和壓力容器內的空氣。吉林醫藥純水設備工程

活性炭是一種微孔發達的碳化合物,有極其豐富的空隙結構(每克達1000平方米),因而具有極強的吸附性能。江蘇光電行業超純水設備耗材

二、購買超純水設備須知水量要求：水量要求：每天需要多少水或每小時需要多少超純水水質要求：電阻率要達到少兆歐，有什么用途，或其它具體要求水源要求：自來水，地下水井水，河水，湖水等，除了自來水，其它的水源建議提供水質報告，水源不一樣，處理工藝組合也就有變動水泵要求：水泵是用國產的還是進口的時間要求：是否24小時用水，有沒有短時間段內需要大量廢水產生的情況電氣要求：電氣控制部份是普通的繼電器控制，還是全系統PLC程序控制其他要求：對設備還有其它方面的要求江蘇光電行業超純水設備耗材

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