磨拋耗材，二氧化硅拋光液(VK-SP50W)使用范圍：可用于微晶玻璃的表面拋光加工中；用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工；用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過程；普遍用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工；本產品可以作為一種添加劑，也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。磨拋耗材，金相拋光潤滑冷卻液，切割時，降低樣品溫度，以減少樣品受到熱影響。天津金相拋光潤滑冷卻液磨拋耗材操作簡單

磨拋耗材，粗磨細磨粗磨，去除切割造成的損傷整平試樣，形成合適的形狀，快速接近目標細磨，去除粗磨的劃痕和變形層，減薄變形層以利于下一步的拋光每道研磨砂紙的粒度*從盡可能細的顆粒開始研磨*每步遞減1/2磨粒尺寸*SiC P180＞P400＞P800＞P1200 ＞P2000 ＞P2500 ＞P4000手動研磨一般試樣300rpm為宜，過快試樣易脫手飛出；在磨制試樣前應將試樣磨制面的邊緣進行圓弧倒角，以避免磨制面的直邊刮削砂紙；不可太用力，否則就會偏離平衡。輕輕拿，慢慢放，穩穩找平；快到欲觀察面時應不時觀察磨面以防過磨；在兩相鄰的研磨中，旋轉樣品90°，研磨時間為磨掉前道的磨痕的時間的1~3倍；杭州特氟龍防粘盤磨拋耗材經濟實用磨拋材料，金剛石懸浮研磨拋光液中含一定劑量的冷卻潤滑組分。

磨拋耗材，氧化鋁拋光粉，特點如下：具有活性，無毒無味，不溶于水和難溶于酸堿。粒度均勻、化學性能穩定，經特殊工藝加工處理，具有良好的研磨拋光性能，以滿足各種材料拋光用途的需求。產品粒度比較均勻，具備硬度高，磨削力強，拋光效果快，效率高，光度亮等特點。粒度分布范圍窄，研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質磨料，表面光潔度優于白剛玉的拋光效果，切削能力強、出光快、能拋出均勻而明亮的光澤。

磨拋耗材，氧化鋁：難溶于水的白色固體，無臭、無味、質極硬，易吸潮而不潮解（灼燒過的不吸濕）。兩性氧化物，能溶于無機酸和堿性溶液中，幾乎不溶于水及非極性有機溶劑；相對密度(d204）4.0；熔點2050℃。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、有機反應催化劑、研磨劑、拋光劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。碳化硅：碳化硅（SiC）是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生產綠色碳化硅時需要加食鹽）等原料通過電阻爐高溫冶煉而成。比重為3.20～3.25，顯微硬度為2840～3320kg/mm2。其韌性高于綠碳化硅，大多用于加工抗張強度低的材料，如玻璃、陶瓷、石材、耐火材料、鑄鐵和有色金屬等。磨拋材料，氧化鋁拋光粉用于不銹鋼的拋光。

磨拋耗材，鑄鐵及非金屬夾雜物試樣的拋光鑄鐵中的石墨及金屬中的非金屬夾雜物，在拋制中極易拖尾、擴大和剝落，因此多采用手工細磨，磨制時應加肥皂作潤滑劑；亦可用蠟盤代替手工細磨，但必須選用短纖維拋光布，如尼龍，滌綸布，絲綢等。拋光時應不斷轉動試樣，以防單向拖尾，還應盡量縮短磨拋時間。對鑄鐵試樣，因表面易產生麻點、斑痕和氧化，可在拋光盤上加入微量鉻酸酐，可加入防氧化溶液，并用防氧化溶液清洗試樣。防氧化溶液配方如下：亞硝酸鈉/0.010~0.015kg，蘇打灰（200℃焙燒的Na2CO3）/0.003kg，蒸餾水/1000ml。磨拋材料，多晶金剛石懸浮液磨拋光過程中能夠保持高磨削力的同時不易產生劃傷。杭州特氟龍防粘盤磨拋耗材經濟實用

磨拋材料，金剛石懸浮研磨拋光液還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料。天津金相拋光潤滑冷卻液磨拋耗材操作簡單

磨拋耗材，綜合拋光單一的拋光方法都不易得到理想的拋光表面，機械拋光雖然能得到平滑表面，但易產生金屬擾亂層和劃痕，電解拋光和化學拋光雖可消除金屬擾亂層，但表面不平整，為取長補短發展了綜合拋光技術，如化學機械拋光、電解機械拋光等。若濕度過大，會減弱磨削作用，增大滾壓作用，使金屬擾亂層加厚，并易將非金屬夾雜和石黑拖出；若濕度過小，潤滑條件極差，因摩擦生熱而使試樣溫度升高，磨面失去光澤，甚至形成黑斑。故懸浮液的滴入量應該是“量少次數多，中心向外擴展”。天津金相拋光潤滑冷卻液磨拋耗材操作簡單

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