QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。 如果了解雙光子灰度光刻技術，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。廣東高分辨率灰度光刻3D打印

微透鏡陣列對表面質量和形貌要求比較高，因此對制備工藝提出了很嚴格的要求。科研人員提出了許多方法來實現具有高表面質量的微透鏡陣列的高效制備，比如針對柔性材料的熱壓印成型方法實現了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉印方法在柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實現了微透鏡陣列；利用光刻和熱回流方式實現了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實現具有較高表面質量的微透鏡陣列，但通常需要使用復雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質通常為軟質材料，材料本身的機械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對而言，透明硬脆材料例如石英、藍寶石等由于其極高的硬度和極強的化學穩定性，在光學窗口、光學元件等方面的應用更加廣。因此，如何制備具有高表面質量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學元件成為研究人員研究的焦點。廣東高分辨率灰度光刻3D打印Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ?)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域，例如數據通訊，激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術，尤其是微型光子組件應用，可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰性，需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難，科學家們提出了寬帶光纖耦合概念，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現。

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。另外，還可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻的發展。江蘇高分辨率灰度光刻技術3D打印

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統的應用。廣東高分辨率灰度光刻3D打印

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ，并榮獲創新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世表示著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。廣東高分辨率灰度光刻3D打印

納糯三維科技（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿易試驗區加楓路26號108室，是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司，納糯三維科技（上海）有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發，技術轉讓，技術咨詢，技術服務，三維打印設備，光電機一體化設備和相關零配件的批發，進出口，傭金代理，并提供相關配套服務，貿易信息咨詢，企業管理咨詢。的公司。納糯三維擁有一支經驗豐富、技術創新的專業研發團隊，以高度的專注和執著為客戶提供PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統。納糯三維始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功。納糯三維始終關注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力，實現與客戶的成長共贏。