在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟，以及本質上為準連續的形貌，可以在一個步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。Quantum X支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機，允許高縱橫比，支持高結構，無需掩模、旋涂和預烘烤或后烘烤。如果了解雙光子灰度光刻技術，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。湖南高分辨率灰度光刻3D打印

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現微透鏡陣列結構，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印這種方法與灰度光刻有點類似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不僅只是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，后續可以通過LIGA工藝獲得金屬模具，并通過納米壓印技術進行復制。黑龍江德國灰度光刻3D微納加工更多灰度光刻技術，歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

    Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在財務和技術上獲得了蔡司的大力支持，蔡司是德國歷史特別悠久，規模比較大的光學系統制造商之一。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度特別高。

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型。基于雙光子聚合技術，該激光直寫系統不只是快速成型制作的特別好的機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規模化生產。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。想要了解Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。更多灰度光刻技術詳情，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。黑龍江德國灰度光刻3D微納加工

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來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(IMSAS)研究所的科學家們發明了一種全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系統，利用雙光子聚合原理（2PP）結合光刻技術，將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中。該微型混合器可以處理高達100微升/分鐘的高流速樣品，適用于藥物和納米顆粒制造，快速化學反應、生物學測量和分析藥物等各種不同應用。事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的，其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finer features for functional microdevices：Micromachines can be created with higher resolution using two-photon absorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作（畢竟科學家不是藝術家，不是做的好看就行了）。

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