雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。更多雙光子灰度光刻技術，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。湖南Nanoscribe灰度光刻3D光刻

    在計算成像領域中有一個重要的分支，即光場成像。而光場成像中的中心光學元件，即為微透鏡陣列。其材質為透明玻璃，表面刻有很多微小的透鏡，組成陣列結構，用來成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法，但該方法存在著各種各樣的問題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設計時需通過掩膜板圖形確定，無法自由調節，且成本高，周期長。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。 黑龍江雙光子灰度光刻3D微納加工Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術的發展現狀。

作為歐盟光子計算項目PHOENICS（2020Horizont歐盟地平線科研項目）的成員，Nanoscribe攜手德國明斯特大學，與全球光子計算領域的**一起，展開了為期四年的科研項目，以實現超高寬帶的高能效千兆計算處理能力，用于新一代人工智能（AI）應用的計算平臺。Nanoscribe將為光子封裝技術開發新的硬件和軟件解決方案。各種不同光子平臺都有著不同類型的光子耦合接口，而這正是光子封裝系統工業化的主要困難和挑戰。雙光子無掩模光刻系統QuantumX作為硬件載體框架，并計劃建立一個先進的平臺，成為下一代光子封裝技術的行業榜樣。

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。如需了解更多全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統Quantum X的內容，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維。

來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟灰度光刻技術做后續復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心，共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內窺鏡可以幫助檢測人體動脈內的斑塊、血栓和膽固醇晶體，因此對于醫學檢測極其重要，可以有助于減少中風和心臟病發作的風險。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統的應用。江蘇德國灰度光刻3D打印

雙光子灰度光刻技術多強大，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。湖南Nanoscribe灰度光刻3D光刻

隨著現在科學技術的發展，儀器儀表行業發生了突飛猛進的發展，再加上當前計算機技術、網絡技術的進步和發展，組建網絡而構成實用的監控系統，可以提高生產效率和共享信息資源方向發展。當前儀器儀表行業產品發展呈現微型化、多功能化、智能化、網絡化四大發展趨勢。工業領域轉型升級、提升發展質量等有利于儀器儀表行業的發展；**安全、社會安全、產業和信息安全等需要自主、PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統裝備，成為全社會共識；儀器儀表行業已經連續多年保持了經濟高位運行的態勢。即使當全球受金融風暴的影響，各個行業經濟東圃有所放緩，但從全景發展情況看來，儀表行業的增長速度并沒有放緩。儀器儀表行業飛速發展一是因為我國的經濟高速穩定發展的運行;按照過去的經驗，如果GDP的增長在10%以上時，儀表行業的增長率則在26%～30%之間。二是因為我國宏觀調控對儀表行業的影響有一個滯后期，儀表往往在工程的后期才交付使用，因此，因宏觀調控政策而減少的收入對儀表行業的影響不會太大。湖南Nanoscribe灰度光刻3D光刻

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