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湖北高精度灰度光刻設備

來源: 發布時間:2023-01-31

納米紋理在納米技術中起著越來越重要的作用。近期的研究表明,可以通過空間調節其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是,實現該概念非常具有挑戰性,因為它需要對納米像素進行“灰度”打印,其中,納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內。只有少數幾種方法(例如,灰度光刻或掃描束光刻)可以滿足這種嚴格的要求,但通常其成本較高,并且它們中的大多數需要化學開發過程。因此,具有高垂直和水平分辨率的可重構灰度納米像素打印技術受到高度追捧。雙光子灰度光刻技術多強大,如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。湖北高精度灰度光刻設備

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   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。江蘇進口灰度光刻技術更多雙光子灰度光刻技術,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。

近年來,利用雙光子聚合對聚合物類傳統光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟,其高精度、高度可設計性和維度可控性已經在平行技術中排名在前。與此同時,如何更有效地將微納結構功能化,也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現階段,對于3D飛秒激光打印技術而言,具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現微納結構的功能化和芯片化,并使這些結構能夠更好地集成器件,從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件,具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構,這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,會產生場曲。如果了解雙光子灰度光刻技術,敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,不光是微透鏡陣列結構(如下圖5所示),該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,對于雙光子聚合的微結構,我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作,并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透,而某些區域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統。江蘇進口灰度光刻技術

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如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統,雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術,其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學質量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。湖北高精度灰度光刻設備

納糯三維科技(上海)有限公司是一家集研發、生產、咨詢、規劃、銷售、服務于一體的生產型企業。公司成立于2017-11-08,多年來在PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統行業形成了成熟、可靠的研發、生產體系。主要經營PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統等產品服務,現在公司擁有一支經驗豐富的研發設計團隊,對于產品研發和生產要求極為嚴格,完全按照行業標準研發和生產。我們以客戶的需求為基礎,在產品設計和研發上面苦下功夫,一份份的不懈努力和付出,打造了Nanoscribe產品。我們從用戶角度,對每一款產品進行多方面分析,對每一款產品都精心設計、精心制作和嚴格檢驗。納糯三維科技(上海)有限公司嚴格規范PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統產品管理流程,確保公司產品質量的可控可靠。公司擁有銷售/售后服務團隊,分工明細,服務貼心,為廣大用戶提供滿意的服務。