3D打印公司Nanoscribe早期是德國卡爾斯魯厄理工學院的分支機構，自此成為全球市場的高精度，微型3D打印技術和微光解決方案的提供商。德國3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印機來制造包括標準折射微光學，自由光學元件，衍射光學元件和多透鏡系統在內的微光學形狀。德國增材制造公司表示，“將 3D打印技術 與用戶友好的軟件和創新材料相結合，導致可重復的精益流程”，使客戶能夠“克服當前的技術障礙”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印機，近期展示了如何使用雙光子聚合工藝生產各種微光學形狀。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術發展趨勢和應用。江蘇微機械增材制造QX

借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。湖北微機械增材制造3D微納加工Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您簡述增材制造技術的應用。

為了制作由3D工程細胞微環境制成的體外細胞培養物，科學家們利用雙光子聚合技術（2PP）來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架，該仿生幾何結構影響膠質母細胞瘤細胞及其定植機制。在該實驗中，細胞可以在定制3D支架幾何結構的引導下以受控方式生長。只有在強聚焦的激光焦點處才能發生雙光子吸收的光聚合反應可實現在亞微米范圍內打印**精細的3D特征結構。此外，這種增材制造技術可在微米級別實現高度三維設計自由度，并以比較高精度模擬三維細胞微環境。

借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說增材制造技術是一種三維實體快速自由成形制造新技術。

   QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。想要了解增材制造和傳統減材制造的區別，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。天津科研增材制造微納加工系統

增材制造輪可以通過增加材料的密度和強度來提高承載能力。江蘇微機械增材制造QX

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點江蘇微機械增材制造QX