Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產品，在科學研究中得到了較廣的應用，并在哈佛大學納米系統中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯邦理工大學和慶應義塾大學使用。增材制造輪的優勢在于其高度定制化和節能環保的特點。湖南增材制造工藝

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。湖南微流道增材制造Quantum X shape金屬3D打印技術具有廣闊的應用前景。

3D打印(3D Printing)，又稱作Additive Manufacturing (增材制造)，是一種用digital file (數字文件) 生成一個三維物體的過程。在3D打印的過程中，一層層的材料被逐次疊加起來，直到形成后期的物體形態。每一層可以看作這個物體的一個很薄的橫截面，而每層的厚度則決定了打印的精度，層的厚度越小，打印的精度越高，打印出來的實體與digitalmodel(數字模型)本身越接近。3D打印在創建物體形態上有極大的自由度，幾乎不受形態復雜度限制，這也是3D打印相比于傳統制造方法（主要是SubtractiveManufacturing即減材制造）的一個重要優勢。使用傳統減材制造方法時，部件的復雜度直接影響流程的復雜度，復雜的形態會使開模難度加大、使用工具更加復雜、成本大幅上漲。然而對于3D打印技術來說，由于其獨特的分層成形原理，簡單的形態和復雜的形態幾乎可以一視同仁。譬如，外表閉合一體而內部鏤空的形態，或者無接縫的鏈接結構(interlockingstructures)，無法通過傳統制造工藝獲得，只能通過AdditiveManufacturing建造。

   全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的頭一個用于熔融石英玻璃微納結構3D微納加工的商用高精度增材制造工藝和材料。新型光刻膠GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心內容，也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微納加工的光刻膠。這種打印材料因其高光透性，出色的熱穩性，機械性能和化學穩定性脫穎而出。這為探索生命科學，微流控，微納光學，材料工程和其他微納技術領域的新應用開辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓寬了注重耐高溫特性，化學和機械穩定性以及光透性的高精度3D微納加工應用。雙光子聚合技術（2PP）的高精度結合熔融石英玻璃的出色玻璃性能，推動者生命科學，微流控，微納光學及其他領域新應用的發展和探索。“盡管所需的后期熱處理要求很高，GP-Silica在我們研究制造復雜的微流體系統方面具有巨大的潛力。”瑞士弗里堡大學工程與建筑學院助理教授兼圖像打印系主任NicolasMuller博士總結道。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高.想要了解增材制造和傳統減材制造的區別，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司哦。北京科研增材制造無掩膜激光直寫

激光增材制造可以實現材料的精細控制和定制化生產。湖南增材制造工藝

人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。湖南增材制造工藝