Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像高精度無掩膜光刻寫，為您提供高效、精細的加工解決方案。湖南2PP無掩膜光刻

由于在紅外區域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優先，同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創新微光學設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用，例如光電應用中，他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。湖南雙光子無掩膜光刻3D光刻支持多種材料：無掩膜光刻技術不僅限于特定的材料，還可以應用于各種不同的材料為制造帶來了更大的靈活性。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果，同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統未來的發展趨勢。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備，可實現在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統，非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。采用先進技術，實現高精度無掩膜光刻寫，滿足您的精細加工需求。廣東無掩膜光刻激光直寫

高精度和高分辨率：無掩膜光刻技術可以實現非常高的加工精度和分辨率。湖南2PP無掩膜光刻

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作湖南2PP無掩膜光刻