傳統3D打印難以實現對于復雜設計或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會明顯增加對于平滑、曲線或精細結構的打印時間。雙光子聚合技術（2PP）則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術（2GL®）可實現體素調節，從而明顯減少打印層數。這是通過掃描過程中的快速激光調制來實現的。并且，這項技術已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®，該技術具備實現出色形狀精度的優越打印品質，并將Nanoscribe的灰度技術拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現實時動態調整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學級表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術的發展現狀。吉林工業級灰度光刻設備

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。吉林工業級灰度光刻設備灰度光刻技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）微納3D打印和灰度光刻技術有什么區別？

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。與傳統的光刻技術相比，灰度光刻在制造復雜芯片時具有明顯的優勢。黑龍江高精度灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工。吉林工業級灰度光刻設備

超高速灰度光刻技術的應用不僅局限于傳統領域，還可以拓展到新興領域。例如，在新能源領域，它可以用于制造高效的太陽能電池板；在人工智能領域，它可以用于制造更快、更強大的計算芯片。這些應用將進一步推動科技的發展，為人類創造更美好的未來。超高速灰度光刻技術的發展離不開科研人員的不懈努力和創新精神。他們通過不斷突破科技邊界，攻克了一個又一個難題，從而實現了這一技術的突破。他們的付出為我們帶來了更多的機遇和挑戰，也為科技進步做出了巨大貢獻。超高速灰度光刻技術的問世，標志著科技進步的新里程碑。我們相信，在這項技術的推動下，未來將會有更多的創新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術帶來的美好未來！吉林工業級灰度光刻設備