QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司歡迎您一起探討雙光子微納3D打印技術信息。衢州科研微納3D打印技術

Nanoscribe獨有的體素調諧技術2GL®可以在確保優越的打印質量的同時兼顧打印速度，實現自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖，實現在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的。其動態體素調整需要相對較少的打印層次，即可實現具有光學級別、光滑以及納米結構表面打印結果。這意味著在滿足苛刻的打印質量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統。2GL®作為市場上快的增材制造技術，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優越打印質量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統都高出10到60倍。常州國產微納3D打印三微光刻超高分辨率微觀微納3D打印技術讓電子產品越來越小。

    微納3D打印技術具有多方面的明顯優勢，使其在多個領域得到應用。以下是一些主要的優勢：高精度和復雜性：微納3D打印系統可以在微米和納米尺度上實現高精度的打印，從而制造出具有復雜幾何形狀和微觀結構的零件。這使得它在生物醫學、電子、光學和航空航天等領域具有很廣的應用前景。定制化設計：該技術可以根據用戶的需求進行定制設計，從而實現個性化和定制化生產。這為設計師提供了更大的設計自由度，使得他們可以更容易地實現創新設計。材料利用率高：與傳統的加工方法相比，微納3D打印系統的材料利用率更高。因為在打印過程中，只有需要的材料才會被使用，而不需要的材料則會被避免浪費。這有助于降低生產成本，提高生產效率。可用材料種類多：微納3D打印可用的材料種類豐富，包括有機聚合物、生物材料、金屬、陶瓷、玻璃、復合材料等，這使得它在不同領域的應用更加靈活。方便快捷、效率高：微納3D打印技術具有方便快捷、效率高的特點，能夠快速制造出所需的產品或部件，滿足快速響應市場需求的要求。綜上所述，微納3D打印技術因其高精度、定制化設計、高材料利用率、多樣的可用材料以及高效快捷的特點，在多個領域具有明顯的優勢和廣闊的應用前景。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子微納3D打印技術信息。

來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟光刻技術做后續復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。 德國Nanoscribe的光學微納3D打印可制造各種納米級鏡片。無錫高精度微納3D打印銷售廠家

微納米3D打印系統基于新型的面投影微光刻技術原理設計而成，能實現多材料的微納尺度材料三維打印。衢州科研微納3D打印技術

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