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科研微納3D打印三微光刻

來源: 發布時間:2024-09-15

世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創新設計。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司邀你一起探討3D打印的技術和應用。科研微納3D打印三微光刻

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光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構,包括光子集成電路,光纖頂端和預制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。崇明區科研微納3D打印價格Nanoscribe是微納米生產的和3D打印市場的帶領人物。

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科學家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP),發明了GRIN光學微納制造工藝。這種新的制造技術實現了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學元件。憑借這種全新的制造工藝,科學家們完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡(15μm直徑)。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調節范圍甚至超過0.3。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司邀你一起探討微納3D打印未來的發展趨勢。

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造專業人才,一直致力于開發和生產3D微納加工系統和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化,以滿足不用客戶群的需求。微納3D打印和“傳統”3D打印的主要區別在于,微納3D打印能達到“傳統”3D打印無法達到的高精度。楊浦區高精度微納3D打印應用

Nanoscribe 的新型微加工微納3D打印為生命科學制造復雜結構。科研微納3D打印三微光刻

Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。科研微納3D打印三微光刻