灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印與灰度光刻有點類似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術的發展現狀。湖南2GL灰度光刻激光直寫

現代光電設備在系統的復雜化與小型化得到了巨大改進。一種應用需求為使用定制的透鏡陣列來準直和投射來自線性排列的邊緣發射激光二極管以形成復合激光線。消費類相機和投影模塊中的微型光學元件通常需要多個元件才能滿足性能規格。復雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會導致高度彎曲的表面產生球面像差，從而抑制準直性能。硅灰度光刻技術可以在單個高折射率表面上實現復雜的透鏡形狀，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準和間距。多孔徑透鏡陣列設計用于沿快軸準直激光，并在慢軸上提供±3°發散角。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項，以偏置主光線角并與發散的光錐重疊以形成連續的激光線。江蘇高精度灰度光刻技術3D打印微納3D打印和灰度光刻技術有什么區別？

    Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產的先驅和3D打印市場的帶領者，推動著諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的運用。

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型。基于雙光子聚合技術，該激光直寫系統不只是快速成型制作的特別好的機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規?；a。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統。北京灰度光刻技術

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Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。另外，還可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。湖南2GL灰度光刻激光直寫

納糯三維科技（上海）有限公司是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司，納糯三維科技（上海）有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發，技術轉讓，技術咨詢，技術服務，三維打印設備，光電機一體化設備和相關零配件的批發，進出口，傭金代理，并提供相關配套服務，貿易信息咨詢，企業管理咨詢。的公司，是一家集研發、設計、生產和銷售為一體的專業化公司。公司自創立以來，投身于PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統，是儀器儀表的主力軍。納糯三維始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功。納糯三維始終關注自身，在風云變化的時代，對自身的建設毫不懈怠，高度的專注與執著使納糯三維在行業的從容而自信。