隨著各行各業的發展及科技的進步，人們可以用3D打印創建在人體內傳導藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您講解3D打印增材制造技術。海南Nanoscribe增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。湖南微納機器人增材制造Nanoscribe在中國的子公司納糯三維告訴您增材制造技術在工業制造領域中的意義是什么。

    Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作。“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規模比較大的光學系統制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度比較高。

    Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產品，在科學研究中得到了較廣的應用，并在哈佛大學納米系統中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯邦理工大學和慶應義塾大學使用。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術的行業發展。

雖然半導體行業一直在使用3D打印技術，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構成了光刻或制造機器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關于他們應用3D打印技術的內幕，因為他們想確保的競爭優勢。至少，對外界揭示其優化設備性能的技術，這種主觀動機并不強。增材制造改善半導體工藝是多方面的，從輕量化，到隨形冷卻,再到結構一體化實現，根據3D科學谷的市場觀察，增材制造使得半導體設備中的零件性能邁向了一個新的進化時代！在許多情況下，3D打印-增材制造可能使這些系統能夠更接近理論上預期的工作環境，而不是在機器操作上做出妥協。3D打印帶來的直接好處包括更高的精度、更高的生產能力、更快的周期時間，甚至使得每臺機器每周生產更多的晶圓。某些情況下，還將看到整個晶片的成像質量更高。這將意味著更少的浪費和更高質量的產品。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司歡迎你一起探討增材制造技術的現狀和未來趨勢。浙江MEMS增材制造系統

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    QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點，這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。 海南Nanoscribe增材制造無掩膜光刻

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿易試驗區加楓路26號108室。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經營理念，在儀器儀表深耕多年，以技術為先導，以自主產品為重點，發揮人才優勢，打造儀器儀表良好品牌。納糯三維憑借創新的產品、專業的服務、眾多的成功案例積累起來的聲譽和口碑，讓企業發展再上新高。