平臺和面包板設計還可以采用大半徑圓角，這樣能減少實驗室中的尖銳邊緣，提高安全性。光學平臺包括剛性、無隔振支撐架，被動式隔振支撐架，主動式自動調平支撐架。光學平臺其他配件還包括貨架、安裝座、桌下擱板、振動隔離配件、可安裝支桿的光學平臺配件、可調式光學爬升架安裝座、地震壓制、光學面包板罩殼、遮光材料、磁性薄片等等。這些平臺經過改善的表面拋光處理后，表面平整度在1平方米（11平方英尺）內可達±0.1毫米（±0.004英寸），為安裝部件提供了接觸表面，不需要使用磨具對頂面進行打磨。削減光學平臺這些振動的佳方案是在來源處即行隔絕。貴州氣墊光學平臺

不要把精密大理石檢測平臺放在磁場附近，例如磨床的磁性作業臺上，避免感磁.發現有不正常景象時，如表面不平、有毛刺、有銹斑以及刻度禁絕、尺身曲折變形、活動不靈活等等，使用者不應當自行拆修，更不應該自行用榔頭敲、銼刀銼、砂布打磨等粗糙方法修理，避免反而增大誤差。發現上述情況，使用者應當自行送計量站維修，并經檢定大理石檢測平臺精度后再持續使用。大理石檢測平臺使用后，應及時擦干凈。精密大理石檢測平臺應實施定時檢定和維護，長期使用的精密大理石檢測平臺，要定時送計量站進行維護和檢定精度，避免因大理石檢測平臺的示值誤差超差而形成產品質量事故。河南小型光學平臺廠家光學平臺從功能上分為固定式和可調式；被動或主動式。

對于平臺上的光學元件來說，平面度引起的高度差，通常可以忽略不計，若確有必要考慮高度差，則完全可以通過卓立精密調整的位移臺來實現。綜上所述，光學平臺的平面度，同光學平臺的隔振性能不相關，只能做為光學平臺的一個輔助指標，供參考。振動物體離開平衡位置的大距離叫振動的振幅。振幅在數值上等于大位移的大小。對于光學平臺系統，臺面受外力作用時，離開平衡位置的大距離，同光學平臺系統的結構、受力大小、受力的位置、瞬時加速度、速度、持續時間、臺面的剛性、隔振系統的阻尼比等諸多因素有著非常復雜的非線性函數關系，如果標稱振幅的具體指標，需要注明上述特定的實驗條件，否則振幅的指標，變得沒有意義。對于阻尼隔振的光學平臺，振幅通常在微米量級，而氣浮式隔振平臺，振幅通常為毫米量級甚至是厘米量級。及國外廠商的光學平臺并未標稱光學平臺振幅的指標。

光學平臺平面度（≤0.05㎜/㎡）：該指標越小即表明臺面越平整，調整光路就越容易。一般出廠要求平面度小于0.05㎜/㎡，檢測方法一般有：光電自準直儀法、光學平面度檢查儀檢測法、水平儀檢測法、激光平面度檢測儀等等。對安裝在實驗室的光學平臺平面度一般采用光電直準儀和光學平直度檢查儀檢測，經計算后得出。這些儀器也是生產廠商應必須配置的。光學平臺表面密迪紋理及粗糙度（Ra≤0.8μm）：該指標的意義在于保證光學平臺有一個光滑但無反射的工作表面。良好的表面粗糙度有利對實驗儀器的保護，產品出廠要求一般在Ra≤0.8μm以下，粗糙度完成可采用對比樣板目測和粗糙度儀檢測，如果是現場檢測可采用粗糙度儀完成。熱穩定性的關鍵之處在于各軸方向上都具有對稱、各向均勻的鋼制結構。

在針對實驗室選購光學實驗平臺時，我們需要考慮安全性，但各類實驗室需求不同，實驗室設計方案也不同。我們就以實驗臺面來說。相對于化學實驗室來說，物理實驗室實驗臺面對于耐腐蝕性幾乎沒有要求，光學實驗室要求實驗臺水平度高、抗震性良好，機械實驗室要求實驗臺面抗打擊、耐磨、承重系數高，還有一些物理實驗要求實驗臺防靜電。實芯理化板：沒有特殊要求的普通物理實驗臺可以使用實芯理化板來作為臺面，但是要注意保養，并且不可以使用尖利的物品劃擦，三聚氰胺板也可以作為普通物理實驗室實驗臺的臺面。即使將光學平臺視作剛體，該剛體的固有振動依然會觸發光學調整架的自然振動，導致光路不穩定。云南氣浮隔震光學平臺

光學平臺蜂窩芯通過精確的壓膜工具制成。貴州氣墊光學平臺

平臺阻尼需要進行各種測試，對其厚度/面積的比值進行優化。更大面積的平臺（邊長至少為10英尺或3米）具有厚度為12.2英寸（310毫米）的標準厚度，這樣可以提高穩定性。對于更小面積的平臺，厚度可以是8.3英寸（210毫米）或12.2英寸（310毫米），也可定制更大尺寸。光學平臺普遍使用的振動響應傳遞函數為柔量。在恒定（靜態）力的情況下，柔量可以定義為線性或角度錯位與所施加外力的比值。在動態變化力（振動）的情況下，柔量則可以定義為受激振幅（角度或線性錯位）與振動力振幅的比值。平臺的任意撓度都可以通過安裝在平臺表面的部件相對位置變化表現出來。因此，根據定義，柔量值越小，光學平臺就越接近設計的首要目標：將撓度小化。柔量是與頻率相關的，其測量單位為沒單位力的錯位量（米/牛頓）。貴州氣墊光學平臺