磁控濺射靶材的分類如下：根據(jù)材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材、合金靶材、無機非金屬靶材等。其中無機非金屬靶材又可分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類靶材。根據(jù)幾何形狀的不同，靶材可分為長方體形靶材、圓柱體靶材和不規(guī)則形狀靶材；此外，靶材還可以分為實心和空心兩種類型靶材。目前靶材較常用的分類方法是根據(jù)靶材應用領(lǐng)域進行劃分，主要包括半導體領(lǐng)域應用靶材、記錄介質(zhì)應用靶材、顯示薄膜應用靶材、光學靶材、超導靶材等。其中半導體領(lǐng)域用靶材、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場需求規(guī)模較大的三類靶材。磁控濺射鍍膜的應用領(lǐng)域：在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應用。廣東平衡磁控濺射

磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應用：1.一些不適合化學氣相沉積(MOCVD)的材料可以通過磁控濺射沉積，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜。2.機械工業(yè)：如表面功能膜、超硬膜、自潤滑膜等.這些膜能有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性，從而大幅度提高產(chǎn)品的使用壽命.3.光領(lǐng)域：閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應用于光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃。特別是，透明導電玻璃普遍應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波和射頻屏蔽器件和器件、傳感器等。廣東平衡磁控濺射磁控濺射是物理的氣相沉積的一種，也是物理的氣相沉積中技術(shù)較為成熟的。

脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進行磁控濺射沉積。脈沖磁控濺射可以有效地抑制電弧產(chǎn)生進而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射沉積速率，降低沉積溫度等一系列明顯的優(yōu)點，是濺射絕緣材料沉積的優(yōu)先選擇工藝過程。在一個周期內(nèi)存在正電壓和負電壓兩個階段，在負電壓段，電源工作于靶材的濺射，正電壓段，引入電子中和靶面累積的正電荷，并使表面清潔，裸露出金屬表面。加在靶材上的脈沖電壓與一般磁控濺射相同！為400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保證穩(wěn)定放電的前提下，應盡可能取較低的頻率。由于等離子體中的電子相對離子具有更高的能動性，因此正電壓值只需要是負電壓的10%~20%，就可以有效中和靶表面累積的正電荷。占空比的選擇在保證濺射時靶表面累積的電荷能在正電壓階段被完全中和的前提下，盡可能提高占空，以實現(xiàn)電源的更大效率。

磁控濺射靶材鍍膜過程中，影響靶材鍍膜沉積速率的因素：濺射電流。磁控靶的濺射電流與濺射靶材表面的離子電流成正比，因此也是影響濺射速率的重要因素。磁控濺射有一個普遍規(guī)律，即在較佳氣壓下沉積速度較快。因此，在不影響薄膜質(zhì)量和滿足客戶要求的前提下，從濺射良率考慮氣體壓力的較佳值是合適的。改變?yōu)R射電流有兩種方法：改變工作電壓或改變工作氣體壓力。濺射功率：濺射功率對沉積速率的影響類似于濺射電壓。一般來說，提高磁控靶材的濺射功率可以提高成膜率。然而，這并不是一個普遍的規(guī)則。在磁控靶材的濺射電壓低，濺射電流大的情況下，雖然平均濺射功率不低，但離子不能被濺射，也不能沉積。前提是要求施加在磁控靶材上的濺射電壓足夠高，使工作氣體離子在陰極和陽極之間的電場中的能量足夠大于靶材的"濺射能量閾值"。磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應用：各種功能薄膜。如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能。

磁控濺射設備的主要用途：1、各種功能性薄膜。如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。2、裝飾領(lǐng)域的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。3、在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應用在化學氣相沉積（CVD）或金屬有機。4、化學氣相沉積（CVD）生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。5、在光學領(lǐng)域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。特別是透明導電玻璃普遍應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。6、在機械加工行業(yè)中，表面功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜的表面沉積技術(shù)自問世以來得到長足發(fā)展，能有效的提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩(wěn)定性能，從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。磁控濺射鍍膜常見領(lǐng)域應用：微電子。可作為非熱鍍膜技術(shù)，主要用于化學氣相沉積。廣東平衡磁控濺射

磁控濺射的優(yōu)點如下：基板有低溫性。相對于二級濺射和熱蒸發(fā)來說，磁控濺射加熱少。廣東平衡磁控濺射

近年來，隨著國內(nèi)消費電子產(chǎn)品的服務型發(fā)展，電子元器件行業(yè)也突飛猛進。從產(chǎn)業(yè)歷史沿革來看，2000年、2007年、2011年、2015年堪稱是行業(yè)的幾個高峰。從2016年至今，電子元器件產(chǎn)業(yè)更是陸續(xù)迎來了漲價潮。對于下一步發(fā)展計劃，不少行業(yè)家和企業(yè)表示，后續(xù)將繼續(xù)完善電子信息全產(chǎn)業(yè)鏈的交易服務平臺，深耕拓展面向半導體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域，致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務，面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享，為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持。線下授權(quán)分銷及上下游相關(guān)行業(yè)，完善產(chǎn)業(yè)布局，通過發(fā)揮華強半導體集團的大平臺優(yōu)勢，整合優(yōu)化面向半導體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域，致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備，建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務，面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享，為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持。線下授權(quán)分銷業(yè)務內(nèi)外部資源。眼下，市場缺口較大的，還是LCD領(lǐng)域，由于LCD價格逐漸提高，同時也開始向新的服務型方向發(fā)展，相應的電子元器件產(chǎn)能并沒有及時跟進。因此，對于理財者來說，從這一方向入手，有望把握下**業(yè)增長的紅利。電子元器件行業(yè)位于產(chǎn)業(yè)鏈的中游，介于電子整機行業(yè)和電子原材料行業(yè)之間，其發(fā)展得快慢，所達到的技術(shù)水平和生產(chǎn)規(guī)模，不但直接影響著整個電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，而且對發(fā)展信息技術(shù)，改造傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)，提高現(xiàn)代化裝備水平，促進科技進步都具有重要意義。廣東平衡磁控濺射