在光刻圖案化工藝中，需要優先將光刻膠涂在硅片上形成一層薄膜。接著在復雜的曝光裝置中，光線通過一個具有特定圖案的掩模投射到光刻膠上。曝光區域的光刻膠發生化學變化，在隨后的化學顯影過程中被去除。較后掩模的圖案就被轉移到了光刻膠膜上。而在隨后的蝕刻或離子注入工藝中，會對沒有光刻膠保護的硅片部分進行刻蝕，較后洗去剩余光刻膠。這時光刻膠的圖案就被轉移到下層的薄膜上，這種薄膜圖案化的過程經過多次迭代，聯同其他多個物理過程，便產生集成電路。在微納加工過程中，蒸發沉積和濺射沉積是典型的物理方法，主要用于沉積金屬單質薄膜、合金薄膜、化合物等！廣元微納加工平臺

Mems加工工藝和微納加工大體上都是一樣的，只是表述不一樣而已，MEMS即是微機械電子系統，大多時候等同于微納系統是根據產品需要，在各類襯底（硅襯底，玻璃襯底，石英襯底，藍寶石襯底等等）制作微米級微型結構的加工工藝。微納傳感器加工工藝制作的微型結構主要是作為各類傳感器和執行器等，其中更加器件原理需要而制作的可動結構（齒輪，懸臂梁，空腔，橋結構等等）以及各種功能材料，本質上是將環境中的各種特征參數（溫度，壓力，氣體，流量等等）變化通過微型結構轉化為各種電信號的差異，以實現小型化高靈敏的傳感器和執行器。丹東石墨烯微納加工高精度的微細結構通過控制聚焦電子束（光束）移動書寫圖案進行曝光！

微納加工是一種利用微納技術對材料進行加工和制造的方法，其發展趨勢主要包括以下幾個方面：自動化生產：微納加工技術可以實現自動化的生產，例如利用機器人和自動化設備可以實現微納器件的自動化加工和制造。未來的發展趨勢是進一步提高微納加工技術的自動化水平，以提高生產的效率和質量。應用拓展：微納加工技術可以應用于多個領域，例如電子、光電、生物醫學、能源等領域。未來的發展趨勢是進一步拓展微納加工技術的應用領域，以滿足不同領域的需求。

研究應著眼于開發一種新型的可配置、可升級的微納制造平臺和系統，以降低大批量或是小規模定制產品的生產成本。新一代微納制造系統應滿足下述要求：（1）能生產多種多樣高度復雜的微納產品；（2）具有微納特性的組件的小型化連續生產；（3）為了掌握基于整個生產加工鏈制造的知識，新設計和仿真系統的產品開發過程的全部跨學科知識進行條理化和儲存；（4）為了保證生產的靈活性和適應性，應確保在分布式制造中各企業的有效合作，以支撐通過新型商業生產、管理和物流方法來實現的中小型企業在綜合制造網絡中的有效整合；（5）是一個擁有更高級的智能和可靠性、可根據相應環境自行調整設置及生產加工參數的、可嵌入整個生產制造行業的制造系統。微納加工包括光刻、磁控濺射、電子束蒸鍍、濕法腐蝕、干法腐蝕、表面形貌測量等!

ICP刻蝕GaN是物料濺射和化學反應相結合的復雜過程。刻蝕GaN主要使用到氯氣和三氯化硼，刻蝕過程中材料表面表面的Ga-N鍵在離子轟擊下破裂，此為物理濺射，產生活性的Ga和N原子，氮原子相互結合容易析出氮氣，Ga原子和Cl離子生成容易揮發的GaCl2或者GaCl3。光刻（Photolithography)是一種圖形轉移的方法，在微納加工當中不可或缺的技術。光刻是一個比較大的概念，其實它是有多步工序所組成的。1.清洗：清洗襯底表面的有機物。2.旋涂：將光刻膠旋涂在襯底表面。3.曝光。將光刻版與襯底對準，在紫外光下曝光一定的時間。4.顯影：將曝光后的襯底在顯影液下顯影一定的時間，受過紫外線曝光的地方會溶解在顯影液當中。5.后烘。將顯影后的襯底放置熱板上后烘，以增強光刻膠與襯底之前的粘附力。微納加工的特點在于其精細度和精度，這使得制造出來的產品具有極高的性能和可靠性。茂名高精度微納加工

微納加工技術對現代的生活、生產產生了巨大的促進作用，并催生了一批新興產業。廣元微納加工平臺

微納加工是一種制造技術，用于制造微米和納米尺度的器件和結構。隨著科技的不斷進步和需求的不斷增長，微納加工的未來發展有許多可能性。以下是一些可能性的討論：1.新材料的應用：隨著新材料的不斷發展和應用，微納加工可以利用這些材料的特殊性質來制造更高性能的器件。例如，二維材料如石墨烯和硼氮化硼具有出色的電子傳輸性能，可以用于制造更快速和更小尺寸的電子器件。光子學應用：微納加工可以用于制造光子學器件，如微型激光器、光纖和光子晶體等。這些器件可以用于光通信、光存儲和光計算等領域，具有更高的傳輸速度和更低的能耗。廣元微納加工平臺