“納米制造”路線圖強調了未來納米表面制造的發展。問卷調查探尋了納米表面制備所面臨的機遇。調查中提出的問題旨在獲取納米表面特征的相關信息：這種納米表面結構可以是形貌化、薄膜化的改良表面區域，也可以是具有相位調制或一定晶粒尺寸的涂層。這類結構構建于眾多固體材料表面，如金屬、陶瓷、玻璃、半導體和聚合物等。總結了調查結果與發現，并闡明了未來納米表面制造的前景。納米表面可產生自材料的消解、沉積、改性或形成過程。這導致制備出的納米表面帶有納米尺度所特有的新的化學、物理和生物特性（比如催化作用、磁性質、電性質、光學性質或抗細菌性）。在納米科學許多已有的和新興的子領域中，表面工程已經實現了從基礎科學向現實應用的轉變，比如材料科學、光學、微電子學、動力工程學、傳感系統和生物工程學等。在改進和簡化生產過程方面，還需要做許多工作才能降低***納米表面的生產成本?？芍貜托浴⒊叽缧螤畹目刂?、均勻性以及結構的魯棒性等，都是工業生產過程中必須要考慮的關鍵參數。微納制造技術是微傳感器、微執行器、微結構和功能微納系統制造的基本手段和重要基礎。深圳刻蝕微納加工價錢

仿生學是近年來發展起來的一門工程技術與生物科學相結合的交叉學科。仿生學研究生物體的結構、功能和工作原理，并將這些原理移植于工程技術之中，試圖在技術上模仿植物和動物在自然中的功能，發明性能優越的儀器、裝置和機器，創造新技術。就聚合物仿生功能材料而言，在聚合物材料表面加工出不同形式的微納結構就會賦予材料不同的性能。超疏水表面是指水滴在表面的接觸角大于150°，同時滾動角小于10°的一種特殊表面。在過去的20年里，超疏水表面誘人的潛在應用價值已經引起了科學家們極大的興趣。自然界中，荷葉表面是超疏水的典型象征，其表面的接觸角高達160°。展示了荷葉的超疏水效果及其表面微觀結構。荷葉表面的這種超疏水特性是由微米乳突和低表面能的蠟狀晶體共同引起的。通過在聚合物材料表面構建類荷葉狀的周期性微納米結構可以獲得具有優異超疏水性能的聚合物制品，可用于汽車后視鏡等有防水防霧需求的場合。黑龍江鍍膜微納加工實驗室微納檢測主要是表征檢測：原子力顯微鏡、掃描電鏡、掃描顯微鏡、XRD、臺階儀等。

MEMS工藝離不開曝光工藝。光刻曝光系統：接觸式曝光和非接觸式曝光的區別，在于曝光時掩模與晶片間相對關系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復印面積大、復印精度好、曝光設備簡單、操作方便和生產效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠涂層,影響成品率和掩模版壽命,對準精度的提高也受到較多的限制。一般認為，接觸式曝光只適于分立元件和中、小規模集成電路的生產。非接觸式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系統中，掩膜圖形經光學系統成像在感光層上，掩模與晶片上的感光膠層不接觸,不會引起損傷和沾污,成品率較高，對準精度也高，能滿足高集成度器件和電路生產的要求。但投影曝光設備復雜，技術難度高，因而不適于低檔產品的生產?，F代應用較廣的是 1:1倍的全反射掃描曝光系統和x:1倍的在硅片上直接分步重復曝光系統。

微納加工技術是先進制造的重要組成部分，是衡量國家高級制造業水平的標志之一，具有多學科交叉性和制造要素極端性的特點，在推動科技進步、促進產業發展、拉動科技進步、保障**安全等方面都發揮著關鍵作用。微納加工技術的基本手段包括微納加工方法與材料科學方法兩種。比較顯然，微納加工技術與微電子工藝技術有密切關系。微納加工大致可以分為“自上而下”和“自下而上”兩類?！白陨隙隆笔菑暮暧^對象出發，以光刻工藝為基礎，對材料或原料進行加工，較小結果尺寸和精度通常由光刻或刻蝕環節的分辨力決定?！白韵露稀奔夹g則是從微觀世界出發，通過控制原子、分子和其他納米對象的相互作用力將各種單元構建在一起，形成微納結構與器件。微納結構器件是系統重要的組成部分，其制造的質量、效率和成本直接影響著行業的發展。

研究應著眼于開發一種新型的可配置、可升級的微納制造平臺和系統，以降低大批量或是小規模定制產品的生產成本。新一代微納制造系統應滿足下述要求：（1）能生產多種多樣高度復雜的微納產品；（2）具有微納特性的組件的小型化連續生產；（3）為了掌握基于整個生產加工鏈制造的知識，新設計和仿真系統的產品開發過程的全部跨學科知識進行條理化和儲存；（4）為了保證生產的靈活性和適應性，應確保在分布式制造中各企業的有效合作，以支撐通過新型商業生產、管理和物流方法來實現的中小型企業在綜合制造網絡中的有效整合；（5）是一個擁有更高級的智能和可靠性、可根據相應環境自行調整設置及生產加工參數的、可嵌入整個生產制造行業的制造系統；（6）新型可快速配置和價格適中的微納制造系統，融入了面向任務和可重復配置的理念，能夠實現連續的系統升級和無縫重復配置。微納加工設備主要有：光刻、刻蝕、成膜、離子注入、晶圓鍵合等。江蘇刻蝕微納加工工藝

在我國，微納制造技術同樣是重點發展方向之一。深圳刻蝕微納加工價錢

微納加工氧化工藝是在高溫下，襯底的硅直接與O2發生反應生成SiO2，后續O2通過SiO2層擴散到Si/SiO2界面，繼續與Si發生反應增加SiO2薄膜的厚度，生成1個單位厚度的SiO2薄膜，需要消耗0.445單位厚度的Si襯底；相對CVD工藝而言，氧化工藝可以制作更加致密的SiO2薄膜，有利于與其他材料制作更加牢固可靠的結構層，提高MEMS器件的可靠性。同時致密的SiO2薄膜有利于提高與其它材料的濕法刻蝕選擇比，提高刻蝕加工精度，制作更加精密的MEMS器件。同時氧化工藝一般采用傳統的爐管設備來制作，成本低，產量大，一次作業100片以上，SiO2薄膜一致性也可以做到更高+/-3%以內。深圳刻蝕微納加工價錢