氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學(xué)原理，用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。質(zhì)譜室里的燈絲發(fā)射出來的電子，在室內(nèi)來回地振蕩，并與室內(nèi)氣體和經(jīng)漏孔進(jìn)人室內(nèi)的氦氣相互碰撞使其電離成正離子，這些氦離子在加速電場作用下進(jìn)人磁場，由于洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，形成圓弧形軌道，改變加速電壓可使不同質(zhì)量的離子通過磁場和接收縫到達(dá)接收極而被檢測。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在電阻爐檢漏中常用的兩種方法。檢漏過程中，如發(fā)現(xiàn)大量氦氣進(jìn)人氦質(zhì)譜檢漏儀，應(yīng)立即移去吸口。智能氦檢機(jī)生產(chǎn)廠家

氦質(zhì)譜檢漏儀特點(diǎn)：1.檢測時(shí)間和周期非常短，可以達(dá)到5s以內(nèi)；2.檢測的介質(zhì)比較常用，只需壓縮空氣即可；3.不會(huì)受到主觀因素判斷的影響；4.檢測的數(shù)據(jù)精確；5.自動(dòng)生成數(shù)據(jù)保存，可追溯數(shù)據(jù)來源。氫質(zhì)譜檢漏儀能為不同的應(yīng)用提供不同的測試方法，含有渦輪分子泵、內(nèi)置機(jī)械泵、外置機(jī)械泵、光譜、儀管、閥組、檢漏儀電子元件和操作頁面，以及可選功能組件。氨質(zhì)譜檢漏儀在許多領(lǐng)域里得到普遍的應(yīng)用，例如，在航空航天領(lǐng)域里宇宙飛船、航天飛機(jī)、火箭、衛(wèi)星、飛機(jī)等這些都要用到真空檢漏技術(shù)。智能氦檢機(jī)生產(chǎn)廠家氦質(zhì)譜檢漏儀應(yīng)按照說明書的要求定期進(jìn)行保養(yǎng)。

氦質(zhì)譜檢漏儀用氦氣或者氫氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測氦氣而進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀。氦氣的本底噪聲低，分子量及粘滯系數(shù)小，因而易通過漏孔并易擴(kuò)散；另外，氦系惰性氣體，不腐蝕設(shè)備，故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調(diào)整到只對(duì)氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài))的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應(yīng)，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。氦質(zhì)譜檢漏儀可以對(duì)具有內(nèi)腔的微電子或半導(dǎo)體器件封裝的氣密性進(jìn)行細(xì)檢漏。此檢測方法使用的示蹤氣體選擇了氦氣，氦氣具有質(zhì)量數(shù)小重量輕并且有滲透能力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)，達(dá)到了細(xì)檢漏的目的。

氦質(zhì)譜檢漏儀的靈敏度，通常指儀器的可檢漏率。氦質(zhì)譜檢漏儀主要技術(shù)指標(biāo)：1.可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s；2.漏率顯示范圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s；3.啟動(dòng)時(shí)間：≤5min；4.響應(yīng)時(shí)間：≤1s；5.檢漏口的壓力：1500Pa；6.電源要求：220v，50Hz，單相，10A；7.工作環(huán)境：5-35℃；8.相對(duì)濕度：≤80%；9.外形尺寸：550（w）×400（D）×780（H）；10.重量：64kg。使用環(huán)境：環(huán)境溫度：5～35℃；相對(duì)濕度：<80%；供電電壓：單相交流220V±10%，50Hz工作電流：10A。敏度、反應(yīng)時(shí)間、消除時(shí)間、極限真空度及儀器入口處抽速是評(píng)價(jià)氦質(zhì)譜檢漏儀的主要性能指標(biāo)。

氦檢儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用：無源器件檢漏原因：光無源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分，也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點(diǎn)。光無源器件對(duì)密封性的要求極高，如果存在泄漏會(huì)影響其使用性能和精度，光通信行業(yè)的漏率標(biāo)準(zhǔn)是小于5×10-8mbar.l/s，因此需要進(jìn)行泄漏檢測。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位，定量漏點(diǎn)，替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏，目前已普遍應(yīng)用于光無源器件的檢漏。光無源器件檢漏方法：由于無源器件體積小，且無法抽真空或直接充入氦氣，我們采用“背壓法”檢漏，具體做法如下。1.將被檢無源器件放入真空保壓罐，壓力和時(shí)間根據(jù)漏率大小設(shè)定。2.取出無源器件，使用空氣或氮?dú)獯祾弑砻婧狻?.將無源器件放入真空測試罐，測試罐連接氦檢儀。4.啟動(dòng)氦檢儀，開始檢漏。氦檢儀怎么選擇適合的檢漏方法？分體式氦檢設(shè)備技術(shù)指導(dǎo)

氦質(zhì)譜檢漏儀的可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s。智能氦檢機(jī)生產(chǎn)廠家

使用氦檢儀需注意哪些問題？響應(yīng)時(shí)間與清理時(shí)間:正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間與清理時(shí)間不應(yīng)大于3s。氦檢儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度:檢漏時(shí)噴有在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長。根據(jù)經(jīng)驗(yàn),兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s,如果第1次噴氦后30s內(nèi)氦檢儀還沒有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。儀器的清理時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同,但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清理時(shí)間一般要更長些。另外,噴氦量的多少也影響清理時(shí)間的長短,噴氦時(shí)噴頭移動(dòng)速率合理,可以縮短儀器的清理時(shí)間,提高檢漏效率。智能氦檢機(jī)生產(chǎn)廠家

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