由碳與氟反應，或一氧化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲烷與氟化氫反應，或四氯化碳與氟化銀反應，或四氯化碳與氟化氫反應，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，經精餾而得成品。

預先稱取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的單質硅粉，置于鎳盤中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤放入蒙乃爾合金反應管中，向反應管內通入氟氣，氟氣先和單質硅反應，反應放熱后，氟開始和碳化硅進行反應，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應繼續進行，生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，將其通過裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅，隨后通過硅膠和五氧化二磷干燥塔得到**終產品。

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在使用四氟化碳的同時，也要注意使用四氟化碳的注意事項，如在泄漏時，應迅速撤離泄漏污染區人員至上風處，并進行隔離，嚴格限制出入。建議應急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風，加速擴散。如有可能，即時使用。漏氣容器要妥善處理，修復、檢驗后再用。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內，小白鼠仍可安全脫險。揚州原裝四氟化碳廠家價格四氟化碳的化學性質穩定，在通常情況下，它與硅直接接觸，也不會發生化學反應。

快速發展的半導體集成電路行業對上游的電子材料需求十分之大，隨著近年來國家不斷地出臺政策扶持，多家 12寸晶圓廠已經完工并投產，同時8寸、6 寸晶圓廠也仍然在興建中，其中國產廠商能夠為6 寸、8 寸廠提供電子氣體，但隨著制造工藝制程進步，對電子氣體質量的穩定性要求也越來越苛刻，從 28 納米走到7納米，產品的金屬雜質要求須下降100倍，污染粒子的體積也必須要縮小4倍，12 寸廠需要的電子氣體純度通常為6N級(99.9999%)以上，國內廠家的質量很難到要求。

四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 由于化學穩定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業等。 目前對于R14制冷劑的生產、銷售以及在新制冷設備上的初裝、售后設備上的再添加均沒有限制。

四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。

四氟化碳一般認為是惰性低毒物質，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳是目前微電子工業中用量的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。

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四氟化碳不燃燒，有低毒性和窒息性。杭州原裝四氟化碳價格走勢

電子特氣：半導體工業的關鍵原料，電子特氣是電子工業的關鍵原料，屬于工業氣體的重要分支。工業氣體是現代工業的基礎原材料，而電子特氣是工業氣體中附加值較高的品種，與傳統工業氣體的區別在于純度更高（如高純氣體）或者具有特殊用途（如參與化學反應），是極大規模集成電路、平面顯示器件、化合物半導體器件、太陽能電池、光纖等電子工業生產中不可或缺的基礎和支撐性材料之一，相關下游領域的快速發展將帶動未來特種氣體的增量需求。 杭州原裝四氟化碳價格走勢