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江西大直徑射頻離子源怎么選

來源: 發布時間:2023-04-03

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統的真空室和真空元件,為了獲得原子態的清潔表面,消除其表面污染的標準方法是化學清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統安裝前及裝配期間。在真空系統安裝后(或系統運行后),由于真空系統內的各種零部件已經被固定,這時對它們進行除氣處理就很困難,一旦系統受到(偶然)污染(主要是da原子數的分子如碳氫化合物的污染),通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應氣體工藝,可以進行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理:在系統中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對金屬表面進行化學反應清洗,消除污染,以便獲得原子態的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質,表面反應速率的da小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言,精確的參數要通過實驗來確定.對于不同的結晶取向,這些參數是不同的。真空鍍膜機該如何維修。江西大直徑射頻離子源怎么選

直流電源電壓紋波做了二次濾波處理,高壓輸出的紋波小于50mV,離子源束流的穩定性和重復性較好,鍍膜的產品的折射率更穩定。國泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調電容快速調諧,使整個負載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負載在不同的真空環境、不同國泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理,使用可調電容快速調諧,使整個負載阻抗匹配到50?,從而使功率輸出比較大,電離化效率比較高,調諧馬達采用步進電機轉位+編碼器快速定位,并帶鎖止和記憶功能,以滿足負載在不同的真空環境、不同阻抗快速點火。天津離子束刻蝕射頻離子源制造生產廠家廣東真空鍍膜機廠家。

【射頻離子源工作原理】:氣體通過一個專門設計的氣體絕緣器進入石英放電室,13.56mhz的射頻功率通過電感耦合進入放電室離化氣體。在產生plasma后、用柵網構成的加速系統將離子引出。初,離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來加負電壓的加速柵網將離子束引出。被引出的離子形成離子束,向靶標輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負電壓大小所決定。離子源設備能促進光電產業升級,在國內也是一項“卡脖子”技術。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應多種工作氣體的特點。

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【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化:主要是鋁的陽極氧化,是利用電化學原理,在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3(氧化鋁)膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性適用材料:鋁、鋁合金等鋁制品工藝成本:生產過程中,水、電的消耗是相當da的,特別是在氧化工序。機器本身的熱耗,需要不停地用循環水進行降溫,噸電耗往往在1000度左右。環境影響:陽極氧化在能效方面不算出色,同時在鋁電解生產中,陽極效應還會產生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。真空鍍膜機真空度多少?天津離子束刻蝕射頻離子源制造生產廠家

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【真空鍍膜技術專業詞匯】真空鍍膜vacuumcoating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。基片substrate:膜層承受體。試驗基片testingsubstrate:在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和(或)試驗的基片。鍍膜材料coatingmaterial:用來制取膜層的原材料。蒸發材料evaporationmaterial:在真空蒸發中用來蒸發的鍍膜材料。濺射材料sputteringmaterial:有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。膜層材料(膜層材質)filmmaterial:組成膜層的材料。蒸發速率evaporationrate:在給定時間間隔內,蒸發出來的材料量,除以該時間間隔濺射速率sputteringrate:在給定時間間隔內,濺射出來的材料量,除以該時間間隔。沉積速率depositionrate:在給定時間間隔內,沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。鍍膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。江西大直徑射頻離子源怎么選

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